JPH03224670A - バー型洗浄ノズル及び洗浄装置 - Google Patents

バー型洗浄ノズル及び洗浄装置

Info

Publication number
JPH03224670A
JPH03224670A JP29716990A JP29716990A JPH03224670A JP H03224670 A JPH03224670 A JP H03224670A JP 29716990 A JP29716990 A JP 29716990A JP 29716990 A JP29716990 A JP 29716990A JP H03224670 A JPH03224670 A JP H03224670A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
cleaning
diaphragm
cleaning liquid
bar
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP29716990A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06104224B2 (ja
Inventor
Yasuyuki Harada
康之 原田
Takeo Hagiwara
萩原 健男
Yutaka Amano
裕 天野
Kazuhiko Shiba
柴 一彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
PURETETSUKU KK
Original Assignee
PURETETSUKU KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by PURETETSUKU KK filed Critical PURETETSUKU KK
Publication of JPH03224670A publication Critical patent/JPH03224670A/ja
Publication of JPH06104224B2 publication Critical patent/JPH06104224B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、バー型洗浄ノズル及び洗浄装置に関し、特に
高清浄度が要求される半導体ウェハ、金属製磁気ディス
ク、マスク、液晶表示素子用ガラス基板等の洗浄に適し
たバー型洗浄ノズル及び洗浄装置に係わる。
[従来の技術及び課題] 例えば半導体装置の製造工程においては、エツチングを
終了した半導体ウェハを次の工程へ搬送する前にエツチ
ング時に使用した薬液や付着した?lx m す−r 
ミなどの汚染物を洗浄することが行われている。かかる
洗浄工程では、高周波振動を伴う洗浄ノズルを使用する
ことが有効であることが知うレしている。特に、洗浄液
を線状に噴射させるバー型洗浄ノズルは生産性に優れて
いる。このバー型洗浄ノズルは、基本的には洗浄液を吐
出する細長状で突起したノズル部を有するノズル本体と
、このノズル部から前記本体の一部にかけて形成された
洗浄液滞留室と、この滞留室の本体部分に前記ノズル部
の噴射口と対向するように配設された矩形状の振動板と
、前記滞留室と反対側の前記振動板の表面に接着された
音波振動される矩形状の振動子と、この振動子を駆動す
るための発振器と、前記本体に連結され、前記滞留室に
洗浄液を導入するための洗浄液導入管とを具備した構造
になっている◎ しかしながら、上述したバー型洗浄ノズルでは洗浄液を
鉛直下方向に向けて噴射させるため、水平に配置される
振動板の下にエアーが停滞し易くなる。振動板の下にエ
アーが停滞すると、高周波振動が振動板より洗浄液に伝
幡し難くなるばかりか、振動板を振動させる振動子や発
振器を破損させる恐れがある。
このようなことから、従来、振動板自体に孔を開口し、
この孔に上方に延ばしたチューブを差し込んでエアー抜
きすることが行われているる。しかしながら、かかる構
造のバー型洗浄ノズルでは次のような問題があった。
■振動板に配管加工を行うためにノズルの小型化の妨げ
となる。
■振動板の材質及び厚さは、洗浄性能に多大に影響し、
特に洗浄性能を高める目的でメガオーダの高周波振動を
行うためには該振動板を極薄にする必要があるが、かか
る振動板に前記配管加工を施すことは技術的に困難であ
り、洗浄性能を犠牲に口なければならない。
本発明は、上記従来の課題を解決するためになされたも
ので、振動板自体への加工を行うことなく該振動板下へ
のエアーの停滞を防止したバー型洗浄ノズル、並びにか
かるバー型洗浄ノズルを備え、板状の被処理物の表裏面
を良好に洗浄し得る洗浄装置を提供しようとするもので
ある。
[問題点を解決するための手段] 本発明に係わるバー型洗浄ノズルは、洗浄液を吐出する
細長状で突起したノズル部を有するノズル本体と、この
ノズル部から前記本体の一部にかけて形成された洗浄液
滞留室と、この滞留室の本体部分に前記ノズル部の噴射
口と対向するように配設された矩形状の振動板と、前記
滞留室と反対側の前記振動板の表面に接着された矩形状
の振動子と、この振動子を駆動するための発振器と、前
記本体に連結され、前記滞留室に洗浄液を導入するため
の洗浄液導入管とを具備し、前記ノズル本体に前記導入
管から導入された洗浄液を前記滞留室に導くための第1
流路を形成し、かつ前記本体にエアー除去用の第2流路
を形成すると共に、該第2流路の一端側を前記振動板近
傍の前記滞留室部分に連通させ、他端側を前記第1流路
に連通させたことを特徴とするものである。
前記洗浄液としては、例えば超純水、又はフッ酸水溶液
、塩酸水溶液、硝酸水溶液などの各種の強酸水溶液、或
いは水酸化ナトリウム水溶液などの各種の強アルカリ水
溶液等を挙げることができる。
前記ノズル本体は、例えばポリテトラフルオロエチレン
等のフッ素樹脂、サファイアガラス、石英ガラス、ポリ
エーテルエーテルケトン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ステンレス等から形成される。
前記振動板は、タンタル、モリブデン、チタン、タング
ステンなどの高融点金属、又は白金、金、サファイアガ
ラス、ステンレス等から形成される。
かかる振動板の厚さは、0.01= 1.5msの範囲
とすればよい。
なお、洗浄液としてフッ酸水溶液を用いた場合には、ノ
ズル本体をフッ酸に対して耐食性を有する例えばフッ素
樹脂、サファイアガラス等の材料で形成し、かつ振動板
を前記フッ酸水溶液に対して良好な耐食性を有する白金
、金、サファイアガラスで形成することが好適である。
本発明に係わる洗浄装置は、上下に対向して配置した上
記構成のバー型洗浄ノズルと、板状の被処理物を前記対
向して配置したバー型ノズルの間に搬送させるための搬
送機構とを具備したことを特徴とするものである。かか
る洗浄装置においては、更に上下に対向して配置したバ
ー型ノズルの前段に一対の回転するブラシを配設し、後
段に乾燥手段を配設した構成がとられる。
[作用] 本発明に係わるバー型洗浄ノズルによれば、ノズル本体
に導入管から導入された洗浄液を滞留室に導くための第
1流路を形成し、かつ前記本体にエアー除去用の第2流
路を形成すると共に、該第2流路の一端側を振動板近傍
の前記滞留室部分に連通させ、他端側を前記第1流路に
その流れ方向に対して直交するように連通させることに
よって、前記第2流路と前記第1流路との連通部におい
て第1流路を流通する洗浄液の流速によるベンチュリ効
果により負圧となる。このため、前記振動板からの高周
波振動により滞留室内の洗浄液をノズル部から鉛直方向
に噴射させる際、該振動板下に停滞するエアーを該振動
板近傍の滞留室と連通ずる前記第2流路側に吸引して前
記第1流路側に排出できる。その結果、振動板の下に工
・アーが停滞するのを防止できるため、常に振動板から
高周波振動を洗浄液に伝幡でき、ノズル部より線状の洗
浄液流を噴射できると共に、振動板を振動させる振動子
や発振器を破損を防止できる。また、従来のように振動
板自体に孔を開口せずに前記エアー除去用の第2流路を
ノズル本体に形成することによって振動板下にエアーが
停滞するのを防止できるため、極薄の振動板を用いるこ
とが可能で、メガオーダ(1〜4MHz)の高周波振動
を洗浄液に付与でき、洗浄性能の高いバー型洗浄ノズル
を実現できる。
また、本発明に係わるバー型洗浄ノズルにおいて前記洗
浄液としてフッ酸水溶液を用い、かつ前記ノズル本体を
前記フ・ソ酸に対して耐食性を有する例えばフッ素樹脂
、サファイアガラス等の材料で形成し、かつ前記振動板
を前記フッ酸水溶液に対して良好な耐食性を有する白金
、金、サファイアガラスで形成することによって、前記
フッ酸水溶液により前記ノズル本体及び前記振動板が腐
食されることな(、メガオーダ(1〜4MHz)の高周
波振動をフッ酸水溶液からなる洗浄液に付与でき、フッ
酸による一層優れた洗浄性能と高寿命のバー型洗浄ノズ
ルを実現できる。
更に、本発明に係わる洗浄装置によれば上記構成のバー
型洗浄ノズルを上下に対向して配置し、これらノズルの
間に搬送機構により板状の被処理物を搬送させることに
よって、被処理物の表裏面を極めて良好に洗浄できる。
即ち、1つのノく一型洗浄ノズルを用いて被処理物の片
面(通常は上面)に高周波振動により線状の洗浄液流を
噴射させると、被処理物の噴射面は+に帯電し、反対側
の面(下面)は−に帯電する。このため、洗浄中に被処
理物の下面ではコミ等の汚染物が付着する。しかるに、
本発明の洗浄装置ではバー型洗浄ノズルを上下に対向し
て配置することによって、洗浄中でのゴミ等の再付着を
防止して被処理物の表裏面を極めて良好に洗浄できる。
更に、上下に対向しテ装置したバー型ノズルの前段に一
対の回転するブラシを配設し、後段に乾燥手段を配設す
ることによって、被処理物をより一層清浄化できる。
[実施例] 以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する
実施例1 第1図は、本実施例1のバー型洗浄ノズルlを示す斜視
図、第2図は第1図の洗浄ノズルlの■−■線に沿う断
面図、第3図は第1図の洗浄ノズル1の縦断面図である
。図中の2は、例えばポリテトラフルオロエチレンから
なるノズル本体である。このノズル本体2は、上部ブロ
ック23、中間ブロック22、下部ブロック23から構
成されている。
前記上部ブロック21には、長手方向に沿う側面から穿
設された大円筒状穴3a、3b、小円筒状穴4が形成さ
れている。大円筒状穴3as 3bは、前記側面の両側
から穿設され、小円筒状穴4は同側面の中央から穿設さ
れている。前記ブロック21の底部は大矩形状四部5が
座ぐり加工され、かつ該大矩形状凹部5の底には前記小
円筒状穴4の先端と連通ずる小矩形状四部6が座ぐり加
工されている。前記大円筒状穴3a、3bには、アスピ
レータ7ax7bがそれぞれ挿着されている。前記アス
ピレ−タフa、 7bの後端には、洗浄液(例えば超純
水)を導入するための導入管8a、8bがジヨイント9
a、 9bを介して連結されている。前記小円筒状穴4
には、ケーブルlOを挿着したジヨイント11が螺着さ
れている。前記ケーブル10の一端は、前記ブロック2
、の小円筒状穴4、小矩形状四部5及び大矩形状凹部5
を通して後述する振動子に接続されており、かつ他端は
超音波発振器(図示せず)に接続されている。
前記中間ブロック22は、下部周縁に枠12が形成され
た板状をなし、かつ中央付近に矩形状の開口部13が形
成されている。前記中間ブロック22の底面の枠12内
には前記下部ブロック2.が嵌合され、中間ブロック2
2は該下部ブロック2.から螺着された複数本のネジ1
4により前記上部ブロック2.の底部に固定されている
。なお、前記上部ブロック21と中間ブロック22の間
にはパツキン(図示せず)が介装されている。前記開口
部13周辺の前記中間ブロック22の上面(上部ブロッ
ク2□側の面)には、例えば厚さ0.05mmのタンタ
ル薄板からなる矩形状の振動板15がネジ1Bを介して
固定されている。この振動板15の前記上部ブロック2
.側の面には、振動子17が接着されており、かつ該振
動子17には前記ケーブル1oが接続されている。
前記下部ブロック2.の底面には、矩形状のノズル部1
8が前記中間ブロック22の矩形状の開口部13と対向
する突出しており、これらノズル部18内及び開口部1
3により洗浄液の滞留室19が形成されている。前記下
部ブロック2.と前記中間ブロック22との固定にあた
っては、それらの間にパツキン20が介在される。この
パツキン20の介在により、下部ブロック23と前記中
間ブロック22の間に3側部が該パツキン20で区画さ
れ、他の側部が開口して前記滞留室19と連通する帯状
の層流室21が形成される。また、同パツキン20の介
在により、前記滞留室19を挾んで反対側の下部ブロッ
ク23と前記中間ブロック2□の間に4側部が該パツキ
ン20で区画された帯状のエアー除去室22が形される
前記帯状の層流室21は、前記アスピレータ?as7b
の中空部23a 、 23+)先端と、前記上部ブロッ
ク2I及び中間ブロック22を上下貫通した穴24a1
2bを通してそれぞれ連通されている。こうしたアスピ
レータ7a、 7bの中空部23a 、 23b 、穴
24a124b及び帯状の層流室21により洗浄液の第
1流路が形成される。また、前記エアー除去室22の一
端側は前記中間ブロック22の矩形状開口部13の内周
面から該中間ブロック22の下面にかけて貫通した複数
の傾斜穴25を通して前記滞留室19に連通され、かつ
他端側は前記中間ブロック22及び上部ブロック21を
貫通する2つの穴28a 、 2[ibを通して前記ア
スピレータ?a、 7bの中空部23a123b側面に
それぞれ連通されている。こうした複数の傾斜穴24、
エアー除去室22及び2つの穴26a、20bによりエ
アー除去用の第2流路が形成される。
このような構成によれば、2本の導入管8a、8bから
洗浄液(例えば超純水)をアスビ・レータ7a、7bに
導入すると、超純水は第1流路であるアスピレータ7a
、 7bの中空部23a 、 23b 、穴24a 、
 24+)及び帯状の層流室21を通してノズル部18
と中間ブロック2□の矩形状開口部13により形成され
る滞留室19に導入されて該滞留室19内に満たされる
この時、超純水は帯状の層流室21を流通することによ
って滞留室19に乱れのない超純水を満たすことが可能
となる。こうした状態で、図示しない超音波発振器より
ケーブルIOを通して矩形状の振動子17に例えば1.
8M Hzの高周波を与えると、振動子17が振動し、
該振動子17が接着された矩形状をなすタンタル製振動
板」5が良好に振動し、前記と略同様な高周波を発生す
る。これにより、該振動板15と接触する滞留室19内
の超純水に振動が伝達され、該振動板15と対向するノ
ズル部18の矩形状噴射口から鉛直下方向に線状の超純
水が噴射される。
上述した超純水の噴射に際し、アスピレータ7a。
7bの中空部23a 、 23bの側面と連通ずる穴2
6a120bは該中空部23a 、 23bを流通する
超純水の流速によるベンチュリー効果によって負圧とな
り、エアー除去用の第2流路である穴28a 、 26
b 、これらと連通するエアー除去室22、複数の傾斜
穴25内の流体は該中空部23a 、 23b側に吸引
される。
このため、前記第1流路を通して滞留室19内を超純水
で満たす際、振動板15底面にエアーが停滞した場合、
該振動板15近傍の滞留室19と連通ずる前記複数の傾
斜穴25を通してエアー除去室22に吸引され、前記穴
28a 、 28bからアスピレータ7a、7bの中空
部23a 、 23bに排出され、再び第1流路を通し
て滞留室19内に流入する。超純水中に含まれるエアー
は、その大半がノズル部18の噴射口から外部に押し出
されるため、結果的には振動板15下面のエアーは減少
して除去される。
従って、振動板15の下にエアーが停滞するのを防止で
きるため、常に振動板15から高周波振動を超純水に伝
幡でき、ノズル部18より線状の洗浄液流を噴射できる
と共に、振動板15を振動させる振動子17や発振器を
破損を防止できる。また、従来のように振動板自体に孔
を開口せずに前記エアー除去用の第2流路をノズル本体
2に形成することによって振動板15下にエアーが停滞
するのを防止できるため、極薄の振動板を用いることが
可能で、メガオーダの高周波振動を洗浄液に付与でき、
洗浄性能の高いバー型洗浄ノズルを実現できる。
また、前記ノズル本体2をポリテトラフルオロエチレン
で形成すると共に、前記振動板15を例えばサファイア
ガラス薄板から形成し、前記2本の導入管8a、 fi
bからフッ酸水溶液よりなる洗浄液を導入して上述した
作用により洗浄液の噴射を行なうことによって、前記フ
ッ酸水溶液により前記ノズル本体2及び前記振動板15
自体が腐食されることなく、シリコンウェハ等を洗浄能
力の高いフッ酸水溶液により短時間で極めて良好に洗浄
することが可能となる。
実施例2 第4図は、本実施例2の洗浄装置を示す平面図、第5図
は第4図の側面図である。図中の31は、ローダ機構で
ある。このローダ機構31の後段には、該ローダ機構3
1にセットされたカセット32内のウェハ33は搬送機
構34に受は渡すための第1の移載機351が配設され
ている。前記搬送機構34は、互いに平行して配置され
た一対のボールネジ36a13Bbと、これらボールネ
ジ36a 、 36bにより水平方向に移動され、前記
ウェア133の両面を洗浄できるような厚さ、形状を持
つチャック部37とから構成されている。前記搬送機構
34のボールネジを3fia 、 36bの間にはロー
ル状ブラシ38a 、 38bが配設され、更に該ブラ
シ38a 、 38bのの後段には前述した第1図〜第
3図に示す構造のバー型洗浄ノズル39a 、 39b
が上下に対向して配設されている。なお、上下のバー型
洗浄ノズル39a 、 39bはそれらのノズル部を例
えば10+gmずらして配置しである。前記バー型洗浄
ノズル39a 、 39bの後段には、超音波洗浄後の
ウニ/\33をスピン乾燥機40に受は渡すための第2
の移載機35□が配設されている。前記スピン乾燥機4
0の後段には、乾燥後のウェハ33をアンロード機構4
1にセットされたカセ・ソト32に収納するための第3
の移載機35.が配設されている。
次に、前述した洗浄装置の動作を説明する。
ローダ機構31にセットされたカセット32内のウェハ
33は、第1の移載機351により搬送機構34のチャ
ックブ37に受は渡される。ウェア\33は、搬送機構
34によりロール状ブラシ31La 、 Hbを通過し
、更に上下に配置したバー型洗浄ノズル39a 、 3
9bの洗浄領域を通過し、更に第2の移載機352によ
りスピン乾燥機40に受は渡される。ここで、乾燥され
たウェハ33は第3の移載機35.によりアンロード機
構41にセットされたカセット32内に収納されて一連
の洗浄が完了される。
このような洗浄工程において、ウェハ33はロール状ブ
ラシ38a 、 38bにより比較的大きなゴミ等の汚
染物が除去され、更に上下に配置したバー型洗浄ノズル
39a 、 39bの洗浄領域を通過させることによっ
て、1つのバー型洗浄ノズルを用いて洗浄する際の洗浄
液噴射面と反対側の面が帯電してゴミの再付着を生じる
という問題を招くことなく、ウェハ33の両面の微細な
ゴミ等を除去できるためウェハ33両面を高清浄化でき
る。また、バー型洗浄ノズル39a 、 39bをその
ノズル部をずらして上下に配置することによって、一方
のバー型洗浄ノズルの高周波振動動作が他方のバー型洗
浄ノズルの振動干渉により乱されるのを防止できる。
なお、上記実施例では第1流路の構成部材であるアスピ
レータを2つ設けた構造としたが、これに限定されない
。例えば、アスピレータを1つ設けた構造にしてもよい
し、ノズル本体を大型化する場合には3つ以上設けても
よい。
上記実施例2では、上下のバー型洗浄ノズルをそれらの
ノズル部を10asずらして配置したが、これに限定さ
れない。通常、それらのノズル部を3IIII以上ずら
して配置することが望ましい。
上記実施例2では、ウェハ段階での洗浄に適用した例を
説明したが、ウェハ表面に素子を形成する工程でも同様
に適用できる。この場合、溝型キャパシタや溝型フィー
ルド領域を形成するための溝部を設けたウェハに適用し
た場合、該微細な溝部に洗浄液を充分に導入できるため
、良好な洗浄、エツチングが可能となる。また、ウェハ
に限らず、■−V族化合物半導体ウェハ、Agなどの金
属製磁気ディスク、マスク、液晶表示用ガラス基板の洗
浄にも同様に適用できるものである。
更に、前述したバー型ノズルにおいて洗浄液としてフッ
酸水溶液を用い、かつノズル本体をフッ素樹脂等のフッ
酸に対して耐食性を有する材料で形成すると共に、振動
板をサファイアガラス(その他に白金、金で形成するこ
とも可能)で形成する形態について説明したが、かかる
形態は先端が砲弾形状の円筒をなすノズル本体を備えた
通常の円筒型洗浄ノズルにも適用することも可能である
[発明の効果] 以上詳述した如く、本発明によれば従来のように振動板
自体に孔を開口せずにエアー除去用の第2流路をノズル
本体に形成することによって振動板の下にエアーが停滞
するのを防止でき、常に振動板から高周波振動を洗浄液
に伝幡でき、ノズル部より線状の洗浄液流を噴射できる
と共に、振動板を振動させる振動子や発振器を破損を防
止でき、更に極薄の振動板を用いることが可能で、メガ
オーダ(1〜4MHz)の高周波振動を洗浄液に付与し
て高い洗浄性能を有するバー型洗浄ノズルを提はできる
。また、洗浄中でのゴミ等の再付着を防止して被処理物
の表裏面を極めて良好に洗浄できる洗浄装置を提供でき
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例1のバー型洗浄ノズルを示す斜
視図、第2図は第1図の洗浄ノズルの■−■線に沿う断
面図、第3図は第1図の洗浄ノズルの縦断面図、第4図
は本実施例2の洗浄装置を示す平面図、第5図は第4図
の側面図である〇1.39a 、 39b・・・バー型
洗浄ノズル、2・・・ノズル本体、2.〜2.・・・ブ
ロック、7a、 7b・・・アスピレータ、8a、 s
b・・・導入管、10・・・ケーブル、13・・・矩形
状の開口部、15・・・振動板、17・・・振動子、1
8・・・矩形状のノズル部、19・・・滞留室、20・
・・パツキン、21−=層流室、22 ・・・エアー除
去室、24a 、 24b 。 26a 2Bb・・・穴、25・・・傾斜穴、31・・
・ロード機構、33・・・ウェハ、34・・・搬送機構
、38a 、 38b・・・ロール状ブラシ、40・・
・スピン乾燥機、41・・・アンロード機構。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)洗浄液を吐出する細長状で突起したノズル部を有
    するノズル本体と、このノズル部から前記本体の一部に
    かけて形成された洗浄液滞留室と、この滞留室の本体部
    分に前記ノズル部の噴射口と対向するように配設された
    矩形状の振動板と、前記滞留室と反対側の前記振動板の
    表面に接着された矩形状の振動子と、この振動子を駆動
    するための発振器と、前記本体に連結され、前記滞留室
    に洗浄液を導入するための洗浄液導入管とを具備し、前
    記ノズル本体に前記導入管から導入された洗浄液を前記
    滞留室に導くための第1流路を形成し、かつ前記本体に
    エアー除去用の第2流路を形成すると共に、該第2流路
    の一端側を前記振動板近傍の前記滞留室部分に連通させ
    、他端側を前記第1流路に連通させたことを特徴とする
    バー型洗浄ノズル。
  2. (2)前記洗浄液がフッ酸水溶液で、前記ノズル本体が
    フッ酸に対して耐食性を有する材料から形成されると共
    に前記振動板が白金、金、サフアイガラスから形成され
    ることを特徴とする請求項1記載のバー型洗浄ノズル。
  3. (3)上下に対向して配置した請求項1又は2記載のバ
    ー型洗浄ノズルと、板状の被処理物を前記対向して配置
    したバー型ノズルの間に搬送させるための搬送機構とを
    具備したことを特徴とする洗浄装置。
  4. (4)対向して配置したバー型ノズルの前段に一対の回
    転するブラシを配置し、後段に乾燥手段を配置したこと
    を特徴とする請求項3記載の洗浄装置。
JP2297169A 1989-11-14 1990-11-05 バー型洗浄ノズル及び洗浄装置 Expired - Fee Related JPH06104224B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29382089 1989-11-14
JP1-293820 1989-11-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03224670A true JPH03224670A (ja) 1991-10-03
JPH06104224B2 JPH06104224B2 (ja) 1994-12-21

Family

ID=17799580

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2297169A Expired - Fee Related JPH06104224B2 (ja) 1989-11-14 1990-11-05 バー型洗浄ノズル及び洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06104224B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009030310A (ja) * 2007-07-26 2009-02-12 Panasonic Electric Works Co Ltd 外装建具材洗浄装置
JP2011508425A (ja) * 2007-12-20 2011-03-10 ラム リサーチ コーポレーション ウエハに対して均一な流体流れを提供する近接ヘッドを構成する方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57174611A (en) * 1981-04-20 1982-10-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electronic atomizing device
JPS62281431A (ja) * 1986-05-30 1987-12-07 Hitachi Electronics Eng Co Ltd 超音波洗浄方法および装置
JPS637889A (ja) * 1986-06-26 1988-01-13 株式会社 三社電機製作所 超音波洗浄機
JPS63224332A (ja) * 1987-03-13 1988-09-19 Nec Corp 半導体ウエハの両面洗浄装置
JPS63305517A (ja) * 1987-06-05 1988-12-13 Puretetsuku:Kk バ−型洗浄ノズル

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57174611A (en) * 1981-04-20 1982-10-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electronic atomizing device
JPS62281431A (ja) * 1986-05-30 1987-12-07 Hitachi Electronics Eng Co Ltd 超音波洗浄方法および装置
JPS637889A (ja) * 1986-06-26 1988-01-13 株式会社 三社電機製作所 超音波洗浄機
JPS63224332A (ja) * 1987-03-13 1988-09-19 Nec Corp 半導体ウエハの両面洗浄装置
JPS63305517A (ja) * 1987-06-05 1988-12-13 Puretetsuku:Kk バ−型洗浄ノズル

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009030310A (ja) * 2007-07-26 2009-02-12 Panasonic Electric Works Co Ltd 外装建具材洗浄装置
JP2011508425A (ja) * 2007-12-20 2011-03-10 ラム リサーチ コーポレーション ウエハに対して均一な流体流れを提供する近接ヘッドを構成する方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06104224B2 (ja) 1994-12-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100458211B1 (ko) 세정장치
US4326553A (en) Megasonic jet cleaner apparatus
TW526520B (en) Apparatus for removing a coating film
JP3517585B2 (ja) 液晶表示パネルの製造方法およびこれに用いられる洗浄装置
US20140053884A1 (en) Megasonic Precision Cleaning Of Semiconductor Process Equipment Components And Parts
JPH10151422A (ja) 超音波振動子、超音波洗浄ノズル、超音波洗浄装置、基板洗浄装置、基板洗浄処理システムおよび超音波洗浄ノズル製造方法
JP2900788B2 (ja) 枚葉式ウェーハ処理装置
KR20160014133A (ko) 대면적 초음파 정밀 세정장치
JPH065577A (ja) 基板洗浄装置
JPH03224670A (ja) バー型洗浄ノズル及び洗浄装置
JP2002066478A (ja) 超音波洗浄装置および洗浄方法
JP2001168067A (ja) ダイシング装置
JP2862458B2 (ja) 被洗浄基板の洗浄方法およびその装置
JP2006088033A (ja) ウェット処理装置
CN112024500B (zh) 清洗装置
JPH01140727A (ja) 基板洗浄方法
JPH0513397A (ja) 洗浄装置
JP2001104897A (ja) 超音波洗浄装置及び洗浄方法
JP2004148231A (ja) 超音波洗浄機
JPH1064868A (ja) 基板洗浄装置および基板洗浄方法
JP2883844B2 (ja) 高周波洗浄方法
JP4444474B2 (ja) 板状基板の処理装置及び処理方法
JPH11145096A (ja) 洗浄方法及び洗浄装置
JPH01151975A (ja) 洗浄方法
JPH06291102A (ja) 基板の洗浄装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees