JPH06101850A - 調理用レンジのための電気加熱装置 - Google Patents
調理用レンジのための電気加熱装置Info
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- JPH06101850A JPH06101850A JP5079049A JP7904993A JPH06101850A JP H06101850 A JPH06101850 A JP H06101850A JP 5079049 A JP5079049 A JP 5079049A JP 7904993 A JP7904993 A JP 7904993A JP H06101850 A JPH06101850 A JP H06101850A
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- Japan
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- electric heating
- heating device
- heating element
- electric
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/68—Heating arrangements specially adapted for cooking plates or analogous hot-plates
- H05B3/74—Non-metallic plates, e.g. vitroceramic, ceramic or glassceramic hobs, also including power or control circuits
- H05B3/748—Resistive heating elements, i.e. heating elements exposed to the air, e.g. coil wire heater
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/68—Heating arrangements specially adapted for cooking plates or analogous hot-plates
- H05B3/74—Non-metallic plates, e.g. vitroceramic, ceramic or glassceramic hobs, also including power or control circuits
- H05B3/746—Protection, e.g. overheat cutoff, hot plate indicator
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2213/00—Aspects relating both to resistive heating and to induction heating, covered by H05B3/00 and H05B6/00
- H05B2213/04—Heating plates with overheat protection means
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
- Baking, Grill, Roasting (AREA)
- Cookers (AREA)
- Control Of Heat Treatment Processes (AREA)
- Control Of Temperature (AREA)
- Control Of Resistance Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 調理用レンジに於て熱伝達効率を向上し作動
コストを低減するよう改善された電気加熱装置を提供す
る。 【構成】 電気加熱装置１０は発熱体１４、４６により
電気エネルギを熱エネルギに変換する。発生された熱エ
ネルギは窒化アルミニウムの如き材料よりなる熱溜めデ
ィスク１８へ熱伝導により伝えられ、熱溜めディスクよ
り加熱領域Ａ１へ熱伝導により拡散される。発熱体及び
熱溜めディスクは電気的及び熱的に絶縁された絶縁ケー
ク２０により保護された態様にて加熱領域の下側にて皿
２４により支持される。
コストを低減するよう改善された電気加熱装置を提供す
る。 【構成】 電気加熱装置１０は発熱体１４、４６により
電気エネルギを熱エネルギに変換する。発生された熱エ
ネルギは窒化アルミニウムの如き材料よりなる熱溜めデ
ィスク１８へ熱伝導により伝えられ、熱溜めディスクよ
り加熱領域Ａ１へ熱伝導により拡散される。発熱体及び
熱溜めディスクは電気的及び熱的に絶縁された絶縁ケー
ク２０により保護された態様にて加熱領域の下側にて皿
２４により支持される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は器具の加熱及び制御シス
テムに係り、特にガラス／セラミック製の上部調理面
（cooking top ）を有するレンジに於て用いられる加熱
及び検出装置に係る。
テムに係り、特にガラス／セラミック製の上部調理面
（cooking top ）を有するレンジに於て用いられる加熱
及び検出装置に係る。
【０００２】
【従来の技術】ガラス／セラミック製の上部調理面を有
する電気レンジはよく知られている。かかるレンジは、
普及しているが、いくつかの限界を有している。その一
つとして例えば、かかる器具に於て一般に用いられてい
るガラス／セラミック材は使用される加熱方法を放射加
熱に限定する傾向があるということが言える。それはこ
の材料が熱伝導性に乏しいからである。実際問題とし
て、放射加熱は調理目的に於て必ずしも最も効率的な加
熱方法とは限らないので、以上のことは重大な欠点であ
る。二つめとして、ガラス／セラミック材は、およそ１
１５０°Ｆ（６２１℃）に連続的温度上限を有する。三
つめとして、かかる材料は８００〜１０００°Ｆ（４２
７〜５３８℃）を越える温度にて電気伝導性となる。従
って、加熱装置は厳密に監視されるべきであり、監視さ
れる温度が過度に高くなれば装置への電流の供給を停止
しなければならない。さもないと、ガラス／セラミック
材が本適用に於て重要である特性を失うという危険性が
ある。
する電気レンジはよく知られている。かかるレンジは、
普及しているが、いくつかの限界を有している。その一
つとして例えば、かかる器具に於て一般に用いられてい
るガラス／セラミック材は使用される加熱方法を放射加
熱に限定する傾向があるということが言える。それはこ
の材料が熱伝導性に乏しいからである。実際問題とし
て、放射加熱は調理目的に於て必ずしも最も効率的な加
熱方法とは限らないので、以上のことは重大な欠点であ
る。二つめとして、ガラス／セラミック材は、およそ１
１５０°Ｆ（６２１℃）に連続的温度上限を有する。三
つめとして、かかる材料は８００〜１０００°Ｆ（４２
７〜５３８℃）を越える温度にて電気伝導性となる。従
って、加熱装置は厳密に監視されるべきであり、監視さ
れる温度が過度に高くなれば装置への電流の供給を停止
しなければならない。さもないと、ガラス／セラミック
材が本適用に於て重要である特性を失うという危険性が
ある。
【０００３】しかしながら、今のところ上述の如き限界
はすぐにも克服されるであろうとは思われない。従っ
て、効率的で経済的なガラスセラミック加熱装置であっ
て、しかも現在のガラス／セラミック製のレンジ上部の
設計上に存する限界を排除或いは低減する加熱装置があ
れば非常に有利であろう。
はすぐにも克服されるであろうとは思われない。従っ
て、効率的で経済的なガラスセラミック加熱装置であっ
て、しかも現在のガラス／セラミック製のレンジ上部の
設計上に存する限界を排除或いは低減する加熱装置があ
れば非常に有利であろう。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の幾つかの目的
の中でも特に、本発明の目的は、ガラス／セラミック製
の電気レンジ上部のための加熱及び検出装置を提供する
ことであり、従来のレンジ上部に於て用いられていた材
料より改良された熱的及び電気的特性を有する材料を用
いた装置を提供することであり、熱放射よりむしろ熱伝
導により熱エネルギの伝達を行う材料を提供することで
あり、従来のレンジの表面構造より小さい加熱構造を有
する装置を提供することであり、従来の装置より熱的慣
性が小さく従って従来のレンジ上部の設計より効率的な
熱エネルギ伝達を達成しかくして例えば沸騰させる速さ
及び効率に重大な改良を施す加熱装置を提供することで
あり、高い熱伝導性を有しレンジ上部組立体内に設置さ
れると熱溜め或いは熱拡散器として機能する材料を使用
する装置を提供することであり、更に電気絶縁をも達成
し得る材料を提供することであり、半透明な材料を提供
することであり、単純な設計で組立てが容易な装置を提
供することである。
の中でも特に、本発明の目的は、ガラス／セラミック製
の電気レンジ上部のための加熱及び検出装置を提供する
ことであり、従来のレンジ上部に於て用いられていた材
料より改良された熱的及び電気的特性を有する材料を用
いた装置を提供することであり、熱放射よりむしろ熱伝
導により熱エネルギの伝達を行う材料を提供することで
あり、従来のレンジの表面構造より小さい加熱構造を有
する装置を提供することであり、従来の装置より熱的慣
性が小さく従って従来のレンジ上部の設計より効率的な
熱エネルギ伝達を達成しかくして例えば沸騰させる速さ
及び効率に重大な改良を施す加熱装置を提供することで
あり、高い熱伝導性を有しレンジ上部組立体内に設置さ
れると熱溜め或いは熱拡散器として機能する材料を使用
する装置を提供することであり、更に電気絶縁をも達成
し得る材料を提供することであり、半透明な材料を提供
することであり、単純な設計で組立てが容易な装置を提
供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、電気レ
ンジはガラス／セラミック製の上部調理面を有し、該上
部調理面の上に調理されるべき料理を載せた調理具が置
かれる。電気加熱装置は電気発熱体を有しており、該要
素には電流が供給される。これによって発熱体は熱を発
生する。熱溜めが、発熱体と上部調理面との間に配置さ
れ、発熱体より熱エネルギを吸収し熱伝導により上部調
理面の表面積へ熱エネルギを拡散する。熱溜めは電気絶
縁性を有する半透明の窒化アルミニウム材或いは他の同
様の高熱伝導性材料よりなっている。絶縁ケークが、上
部調理面の下面付近にて発熱体及び熱溜めを支持してお
り、電気絶縁及び断熱を達成している。皿状の支持部材
が、絶縁ケークを支持しており、発熱体及び熱溜めを互
いに密に接触させた状態にて支持しており、上部調理面
の下面を熱伝導による最大限の熱移動が達成されるよう
支持している。発熱体は、更に温度センサとしても機能
し、電気抵抗の変化により調理過程に於て影響を受ける
発熱体の温度変化に反応する。電気抵抗が変化すると電
子制御装置に入力が与えられこれによりガラスセラミッ
ク製の上部調理面の温度が超過することを阻止する。他
の目的及び特徴は以下の説明により部分的に明らかにさ
れ部分的に指摘されるであろう。
ンジはガラス／セラミック製の上部調理面を有し、該上
部調理面の上に調理されるべき料理を載せた調理具が置
かれる。電気加熱装置は電気発熱体を有しており、該要
素には電流が供給される。これによって発熱体は熱を発
生する。熱溜めが、発熱体と上部調理面との間に配置さ
れ、発熱体より熱エネルギを吸収し熱伝導により上部調
理面の表面積へ熱エネルギを拡散する。熱溜めは電気絶
縁性を有する半透明の窒化アルミニウム材或いは他の同
様の高熱伝導性材料よりなっている。絶縁ケークが、上
部調理面の下面付近にて発熱体及び熱溜めを支持してお
り、電気絶縁及び断熱を達成している。皿状の支持部材
が、絶縁ケークを支持しており、発熱体及び熱溜めを互
いに密に接触させた状態にて支持しており、上部調理面
の下面を熱伝導による最大限の熱移動が達成されるよう
支持している。発熱体は、更に温度センサとしても機能
し、電気抵抗の変化により調理過程に於て影響を受ける
発熱体の温度変化に反応する。電気抵抗が変化すると電
子制御装置に入力が与えられこれによりガラスセラミッ
ク製の上部調理面の温度が超過することを阻止する。他
の目的及び特徴は以下の説明により部分的に明らかにさ
れ部分的に指摘されるであろう。
【０００６】以下に添付の図面を参照しつつ本発明を実
施例について詳細に説明する。複数の図に亙って同じ符
号は同様の部分を示している。
施例について詳細に説明する。複数の図に亙って同じ符
号は同様の部分を示している。
【０００７】
【実施例】図を参照すると、一般的な電気レンジが全体
としてＲにて示されている。レンジはオーブン（図示せ
ず）及びレンジ上部ＲＴを有していてよく、レンジ上部
ＲＴ上にはポット、鍋、或いは食品を調理するための同
様の調理具が置かれる。レンジ上部は上側部分Ｓを有し
ており、該上側部分は周知の如くセラミック／ガラスに
より構成されている。このような調理ユニットは典型的
に複数の区画された調理領域を有しており、図１には４
つの調理領域Ａ１乃至Ａ４が示されている。これらの調
理領域は皆同じ寸法であってよく、或いは異る大きさの
ポットや鍋がより容易に収容されるよう幾つかの調理領
域（Ａ１及びＡ２）が他の調理領域（Ａ３及びＡ４）よ
り大きく構成されていてもよい。制御盤Ｐが各調理領域
の加熱レベルを選択すべく操作ノブ（Ｋ１乃至Ｋ４）を
含んでいる。図１に於ては制御盤はレンジの上部表面上
に示されているが、該制御盤はレンジの多くの便利な場
所の何れにも配置され得る。
としてＲにて示されている。レンジはオーブン（図示せ
ず）及びレンジ上部ＲＴを有していてよく、レンジ上部
ＲＴ上にはポット、鍋、或いは食品を調理するための同
様の調理具が置かれる。レンジ上部は上側部分Ｓを有し
ており、該上側部分は周知の如くセラミック／ガラスに
より構成されている。このような調理ユニットは典型的
に複数の区画された調理領域を有しており、図１には４
つの調理領域Ａ１乃至Ａ４が示されている。これらの調
理領域は皆同じ寸法であってよく、或いは異る大きさの
ポットや鍋がより容易に収容されるよう幾つかの調理領
域（Ａ１及びＡ２）が他の調理領域（Ａ３及びＡ４）よ
り大きく構成されていてもよい。制御盤Ｐが各調理領域
の加熱レベルを選択すべく操作ノブ（Ｋ１乃至Ｋ４）を
含んでいる。図１に於ては制御盤はレンジの上部表面上
に示されているが、該制御盤はレンジの多くの便利な場
所の何れにも配置され得る。
【０００８】図２を参照すると、レンジ上部の断面図が
示されている。レンジ上部は、調理ユニットのセラミッ
ク／ガラス製上側部分Ｓを含んでいる。上部調理面の下
方には開路コイルの発熱体Ｅが配置されている。区分さ
れた加熱領域は各々対応する発熱体を有しており、図２
に於ては要素Ｅ１及びＥ３が示されている。かかるタイ
プの発熱体の構成は公知であり、従ってここには記載さ
れない。各発熱体は絶縁ケークＣの内部に形成された大
きい直径を有する空洞Ｉ内に配置されている。このケー
クは皿状の支持部材Ｔ内に配置されており、該支持部材
Ｔには一体的な組立体を形成すべく調理ユニットの上側
部分もまた接続され得る。皿状支持部材の底部に配置さ
れる三脚台Ｄは発熱体をレンジ上部へ向けて押付けるべ
く弾性材料より形成されている。ガスケットＧが皿、ケ
ーク、及びコイルよりなる組立体の上部を上部調理面よ
り遮閉すべく用いられる。何れにせよ、ケークは適当な
絶縁材料より形成されている。温度検出ロッドＸが空洞
の上方に配置され、上側部分Ｓの長さ分延在しており、
該ロッドは種々の加熱コイルに電流を供給する回路に電
気的に接続されている。発熱体Ｅは対応する調理領域Ａ
へ熱を放射する。しかしながら放射加熱は調理目的にと
ってあまり効率的な熱伝達方法ではない。更に、従来の
ガラス／セラミック製上部調理面の材料は、およそ８０
０°Ｆ〜１０００°Ｆ（４２７℃〜５３８℃）より高い
温度では電気伝導性となる。
示されている。レンジ上部は、調理ユニットのセラミッ
ク／ガラス製上側部分Ｓを含んでいる。上部調理面の下
方には開路コイルの発熱体Ｅが配置されている。区分さ
れた加熱領域は各々対応する発熱体を有しており、図２
に於ては要素Ｅ１及びＥ３が示されている。かかるタイ
プの発熱体の構成は公知であり、従ってここには記載さ
れない。各発熱体は絶縁ケークＣの内部に形成された大
きい直径を有する空洞Ｉ内に配置されている。このケー
クは皿状の支持部材Ｔ内に配置されており、該支持部材
Ｔには一体的な組立体を形成すべく調理ユニットの上側
部分もまた接続され得る。皿状支持部材の底部に配置さ
れる三脚台Ｄは発熱体をレンジ上部へ向けて押付けるべ
く弾性材料より形成されている。ガスケットＧが皿、ケ
ーク、及びコイルよりなる組立体の上部を上部調理面よ
り遮閉すべく用いられる。何れにせよ、ケークは適当な
絶縁材料より形成されている。温度検出ロッドＸが空洞
の上方に配置され、上側部分Ｓの長さ分延在しており、
該ロッドは種々の加熱コイルに電流を供給する回路に電
気的に接続されている。発熱体Ｅは対応する調理領域Ａ
へ熱を放射する。しかしながら放射加熱は調理目的にと
ってあまり効率的な熱伝達方法ではない。更に、従来の
ガラス／セラミック製上部調理面の材料は、およそ８０
０°Ｆ〜１０００°Ｆ（４２７℃〜５３８℃）より高い
温度では電気伝導性となる。
【０００９】次に図３を参照すると、本発明による電気
加熱装置１０が示されている。この装置１０はガラス／
セラミック製の上部調理面ＲＴを有する電気レンジＲに
於て用いられる。該装置は第一に電気加熱手段１２を含
んでおり、該手段は電流が供給されることに応答して熱
エネルギを発生する。図３及び図４に示される如く、加
熱手段１２は金属シースの発熱体１４を有している。金
属シースは図４に於ては螺旋状の発熱体を形成する如く
示されているが、本発明の範囲を逸脱することなく他の
形状が用いられてもよい。発熱体１４は例えば０．１９
inch（０．４８cm）の直径を有し、正の温度計数（ＰＴ
Ｃ）を有する内部抵抗線を用いて形成されている。適当
な抵抗線としては、例えばニッケル（Ｎi ）合金或いは
ＰＴＣ電線がある。かかる発熱体は従来の金属シースの
発熱体より小形である。従って、発熱体１４は標準的な
金属シース発熱体より小さな熱的慣性を示す。このこと
は発熱体１４がより速く所望の温度に到達することを可
能にし、かくして全調理時間を低減する。また、そのこ
とによりレンジの沸騰までの速度及び効率が改善され、
更に、衝撃によりガラス／セラミック製の上部Ｓが破損
した場合に備える補助的絶縁体が設けられる。
加熱装置１０が示されている。この装置１０はガラス／
セラミック製の上部調理面ＲＴを有する電気レンジＲに
於て用いられる。該装置は第一に電気加熱手段１２を含
んでおり、該手段は電流が供給されることに応答して熱
エネルギを発生する。図３及び図４に示される如く、加
熱手段１２は金属シースの発熱体１４を有している。金
属シースは図４に於ては螺旋状の発熱体を形成する如く
示されているが、本発明の範囲を逸脱することなく他の
形状が用いられてもよい。発熱体１４は例えば０．１９
inch（０．４８cm）の直径を有し、正の温度計数（ＰＴ
Ｃ）を有する内部抵抗線を用いて形成されている。適当
な抵抗線としては、例えばニッケル（Ｎi ）合金或いは
ＰＴＣ電線がある。かかる発熱体は従来の金属シースの
発熱体より小形である。従って、発熱体１４は標準的な
金属シース発熱体より小さな熱的慣性を示す。このこと
は発熱体１４がより速く所望の温度に到達することを可
能にし、かくして全調理時間を低減する。また、そのこ
とによりレンジの沸騰までの速度及び効率が改善され、
更に、衝撃によりガラス／セラミック製の上部Ｓが破損
した場合に備える補助的絶縁体が設けられる。
【００１０】次に、装置１０は、発熱体１４より熱エネ
ルギを吸収するための全体として符号１６にて示される
熱溜め手段を供えている。熱溜め手段１６はディスク１
８より成っており、該ディスクは好ましくは半透明の窒
化アルミニウム（Ａl Ｎ）材料より形成されている。デ
ィスク１８は発熱体１４及びレンジＲのガラス／セラミ
ック製上側部分Ｓの両方に隣接して配置されている。図
３にて示される如く、ディスクはこれら二つの間に挾ま
れている。その結果、熱は発熱体よりディスクへ熱伝導
により移動し、更にディスクより加熱領域Ａへ熱伝導に
より移動する。このような熱伝導による上部調理面の表
面積一帯への熱エネルギの拡散の仕方は、以前の熱放射
による方法より非常に効率的である。このような調理の
効率の向上によりレンジの作動にかかる全コストが低減
される。
ルギを吸収するための全体として符号１６にて示される
熱溜め手段を供えている。熱溜め手段１６はディスク１
８より成っており、該ディスクは好ましくは半透明の窒
化アルミニウム（Ａl Ｎ）材料より形成されている。デ
ィスク１８は発熱体１４及びレンジＲのガラス／セラミ
ック製上側部分Ｓの両方に隣接して配置されている。図
３にて示される如く、ディスクはこれら二つの間に挾ま
れている。その結果、熱は発熱体よりディスクへ熱伝導
により移動し、更にディスクより加熱領域Ａへ熱伝導に
より移動する。このような熱伝導による上部調理面の表
面積一帯への熱エネルギの拡散の仕方は、以前の熱放射
による方法より非常に効率的である。このような調理の
効率の向上によりレンジの作動にかかる全コストが低減
される。
【００１１】加熱手段及び熱溜め手段は絶縁手段２０内
に支持されている。この絶縁手段は支持手段２４内に配
設されている。支持手段は底部２６及び側壁２８を有す
る皿よりなっている。絶縁手段は、例えば微少細孔を有
するいぶしたシリカ材料の如き絶縁材料よりなるケーク
を含んでいる。ケークは一体的に形成された三脚台２２
及びガスケット２９を有している。浅い空洞３０がケー
クの上部表面に形成されている。発熱体１４及び熱溜め
ディスク１８は絶縁ケーク２０及び皿２４からなる小組
立部分の各々に配設されている。発熱体１４は一体的に
形成された支持台２２上に設置されており、熱溜めディ
スク１８は発熱体の上に配置されている。発熱体１４及
び熱溜めディスク１８が空洞内に設置されると、熱だめ
ディスクの上面は絶縁ケークの上面３４より僅かに上方
に位置する。更に、皿２４の深さは絶縁ケークの高さに
対応してケークの上面３４が皿の側壁２８の上端より僅
かに上方に位置するようにされている。
に支持されている。この絶縁手段は支持手段２４内に配
設されている。支持手段は底部２６及び側壁２８を有す
る皿よりなっている。絶縁手段は、例えば微少細孔を有
するいぶしたシリカ材料の如き絶縁材料よりなるケーク
を含んでいる。ケークは一体的に形成された三脚台２２
及びガスケット２９を有している。浅い空洞３０がケー
クの上部表面に形成されている。発熱体１４及び熱溜め
ディスク１８は絶縁ケーク２０及び皿２４からなる小組
立部分の各々に配設されている。発熱体１４は一体的に
形成された支持台２２上に設置されており、熱溜めディ
スク１８は発熱体の上に配置されている。発熱体１４及
び熱溜めディスク１８が空洞内に設置されると、熱だめ
ディスクの上面は絶縁ケークの上面３４より僅かに上方
に位置する。更に、皿２４の深さは絶縁ケークの高さに
対応してケークの上面３４が皿の側壁２８の上端より僅
かに上方に位置するようにされている。
【００１２】発熱体のための電気端子３６ａ、３６ｂが
該発熱体の端部に接続され、皿２４の側壁２８或いは底
部２６を通って延在している（図４参照）。各発熱体１
４は更にそれと一体的に形成された導体３８ａ、３８ｂ
を有している。上部調理面Ｓの下側への皿２４の設置を
容易にすべく、絶縁ケーク２０及び皿２４は各々整列し
た開口４０ａと４０ｂ、及び４２ａと４２ｂを有してお
り、発熱体がケーク及び皿に挿入されるときにこれらの
開口を通って金属シース発熱体の各脚部が延在するよう
になっている。完全な組立てが整った後、電線４４ａ、
４４ｂが発熱体端子の外端に接続され、発熱体を通る電
気回路が完成される。レンジＲのための発熱体を提供す
ることに加えて、加熱手段１２は更に温度検出素子とし
ても機能する。その場合には、レンジのための電子制御
器（図示せず）が例えば発熱体の電気抵抗を検知するよ
うにしてよい。制御器は交流電圧が“零レベル”を横切
るときに素子の抵抗値を読取るようプログラムされてよ
い。もし対応する温度が越えるべきでない温度を越えて
いる場合には、制御器は発熱体を通る電気回路を開放し
てよい。かかる温度設定は上部調理面Ｓの温度がセラミ
ック／ガラス材の安全レベルを越えないことを保証する
ようになっている。かかるレベルを越えると、材料は上
部調理面として適用されるに適した特性を失ってしまう
であろう。
該発熱体の端部に接続され、皿２４の側壁２８或いは底
部２６を通って延在している（図４参照）。各発熱体１
４は更にそれと一体的に形成された導体３８ａ、３８ｂ
を有している。上部調理面Ｓの下側への皿２４の設置を
容易にすべく、絶縁ケーク２０及び皿２４は各々整列し
た開口４０ａと４０ｂ、及び４２ａと４２ｂを有してお
り、発熱体がケーク及び皿に挿入されるときにこれらの
開口を通って金属シース発熱体の各脚部が延在するよう
になっている。完全な組立てが整った後、電線４４ａ、
４４ｂが発熱体端子の外端に接続され、発熱体を通る電
気回路が完成される。レンジＲのための発熱体を提供す
ることに加えて、加熱手段１２は更に温度検出素子とし
ても機能する。その場合には、レンジのための電子制御
器（図示せず）が例えば発熱体の電気抵抗を検知するよ
うにしてよい。制御器は交流電圧が“零レベル”を横切
るときに素子の抵抗値を読取るようプログラムされてよ
い。もし対応する温度が越えるべきでない温度を越えて
いる場合には、制御器は発熱体を通る電気回路を開放し
てよい。かかる温度設定は上部調理面Ｓの温度がセラミ
ック／ガラス材の安全レベルを越えないことを保証する
ようになっている。かかるレベルを越えると、材料は上
部調理面として適用されるに適した特性を失ってしまう
であろう。
【００１３】図５及び図６を参照すると、加熱装置の他
の実施例１０′が示されている。該装置は電気加熱手段
１２′を含んでおり、該手段は電流が供給されることに
応じて熱エネルギを発生する。金属シース発熱体１４と
違って、加熱手段１２′は深波状の抵抗線４６よりなっ
ている。図６に示される如く、平面的に見ると抵抗線は
ほぼＳ字型をしている。しかしながら、抵抗線は本発明
の範囲を逸脱することなく他の形状であってよい。発熱
体４６は、例えば温度と共に上昇する正の温度計数を有
する抵抗線よりなっている。発熱体４６は従来技術に於
ける螺旋状のコイル型の発熱体より小形である。発熱体
４６はかかる従来の発熱体より、或いは発熱体１４より
も熱的慣性が小さい。このことは発熱体４６が従来の構
成の場合より速く所望の温度に到達することを可能にす
る。
の実施例１０′が示されている。該装置は電気加熱手段
１２′を含んでおり、該手段は電流が供給されることに
応じて熱エネルギを発生する。金属シース発熱体１４と
違って、加熱手段１２′は深波状の抵抗線４６よりなっ
ている。図６に示される如く、平面的に見ると抵抗線は
ほぼＳ字型をしている。しかしながら、抵抗線は本発明
の範囲を逸脱することなく他の形状であってよい。発熱
体４６は、例えば温度と共に上昇する正の温度計数を有
する抵抗線よりなっている。発熱体４６は従来技術に於
ける螺旋状のコイル型の発熱体より小形である。発熱体
４６はかかる従来の発熱体より、或いは発熱体１４より
も熱的慣性が小さい。このことは発熱体４６が従来の構
成の場合より速く所望の温度に到達することを可能にす
る。
【００１４】装置１０′は発熱体１２′より熱エネルギ
を吸収する符号１６′にて示された熱溜め手段を用いて
いる。熱溜め手段１６′は、半透明の窒化アルミニウム
材料或いは他の高い熱伝導性を有する材料よりなるディ
スク１８と同様のディスク１８′である。ディスク１
８′は発熱体１２′とレンジＲのガラス／セラミック部
分Ｓとの間に配置される。前述した如く、熱は熱伝導に
より発熱体からディスクへ伝えられ、熱伝導によりディ
スクから加熱領域Ａへ伝えられる。この場合にも、かか
る一層効率的な熱伝達の方法を用いることにより、レン
ジの作動のための全コストが改善される。この実施例に
於て、ディスク１８′もまた抵抗線４６と上側部分Ｓと
の間に電気絶縁を達成する。
を吸収する符号１６′にて示された熱溜め手段を用いて
いる。熱溜め手段１６′は、半透明の窒化アルミニウム
材料或いは他の高い熱伝導性を有する材料よりなるディ
スク１８と同様のディスク１８′である。ディスク１
８′は発熱体１２′とレンジＲのガラス／セラミック部
分Ｓとの間に配置される。前述した如く、熱は熱伝導に
より発熱体からディスクへ伝えられ、熱伝導によりディ
スクから加熱領域Ａへ伝えられる。この場合にも、かか
る一層効率的な熱伝達の方法を用いることにより、レン
ジの作動のための全コストが改善される。この実施例に
於て、ディスク１８′もまた抵抗線４６と上側部分Ｓと
の間に電気絶縁を達成する。
【００１５】装置１０′は絶縁手段２０′を含み、該絶
縁手段は支持手段２２′の内部に配設される。支持手段
は底部２６′及び側壁２８′を有する浅い皿２４′より
なっている。絶縁手段２０′は微少細孔を有するいぶし
たシリカの如き絶縁材料或いは他の低い“Ｋ”ファクタ
を有する材料よりなるケークである。かかるケークは先
の実施例に於けるケークの如き複数の円形の浅い空洞を
有していてよい。これらの空洞はケークの上面に形成さ
れる。しかしながら、巻線パターンの多様性を広げ生産
コストを低減すべく溝は除外されてよい。この実施例に
於てはケークは一つの大きな空洞３０′を有するか、さ
もなくば空洞を有さないものとする。発熱体１２′及び
熱溜めディスク１８′は各ケークの上或いは内部に設置
される。抵抗線４６は円板部３２′の上に設置され、熱
溜め１６′は抵抗線の上に置かれる。円板部３２′は、
抵抗線４６及びディスク１８′が空洞３０′内に配置さ
れたとき、熱溜めディスクの上面が絶縁ケークの上面３
４′より僅かに上方に位置するように、充分な厚みを有
している。更に、皿２４′の高さは絶縁ケークの高さよ
り僅かに低い。従ってケークの上面は皿の側壁２８′の
上端より僅かに上方に位置する。
縁手段は支持手段２２′の内部に配設される。支持手段
は底部２６′及び側壁２８′を有する浅い皿２４′より
なっている。絶縁手段２０′は微少細孔を有するいぶし
たシリカの如き絶縁材料或いは他の低い“Ｋ”ファクタ
を有する材料よりなるケークである。かかるケークは先
の実施例に於けるケークの如き複数の円形の浅い空洞を
有していてよい。これらの空洞はケークの上面に形成さ
れる。しかしながら、巻線パターンの多様性を広げ生産
コストを低減すべく溝は除外されてよい。この実施例に
於てはケークは一つの大きな空洞３０′を有するか、さ
もなくば空洞を有さないものとする。発熱体１２′及び
熱溜めディスク１８′は各ケークの上或いは内部に設置
される。抵抗線４６は円板部３２′の上に設置され、熱
溜め１６′は抵抗線の上に置かれる。円板部３２′は、
抵抗線４６及びディスク１８′が空洞３０′内に配置さ
れたとき、熱溜めディスクの上面が絶縁ケークの上面３
４′より僅かに上方に位置するように、充分な厚みを有
している。更に、皿２４′の高さは絶縁ケークの高さよ
り僅かに低い。従ってケークの上面は皿の側壁２８′の
上端より僅かに上方に位置する。
【００１６】装置１０′は又、ガスケット２９′を含ん
でいてよく、該ガスケットはケークの円周部の周りに延
在するシール要素を構成している。ガスケットは皿２
４′の側壁２８′の内側に取付けられケークの上面３
４′とガラス／セラミック部分Ｓの下面との間にて圧縮
されている。しかしながら、先の実施例に於けるガスケ
ット２９及び本実施例に於けるガスケット２９′の何れ
も用いられなくてもよい。むしろ、もし絶縁ケークの直
立する側面が充分に圧縮されて必要なシールを形成し得
るならば、別個のガスケットの使用は要求されない。
でいてよく、該ガスケットはケークの円周部の周りに延
在するシール要素を構成している。ガスケットは皿２
４′の側壁２８′の内側に取付けられケークの上面３
４′とガラス／セラミック部分Ｓの下面との間にて圧縮
されている。しかしながら、先の実施例に於けるガスケ
ット２９及び本実施例に於けるガスケット２９′の何れ
も用いられなくてもよい。むしろ、もし絶縁ケークの直
立する側面が充分に圧縮されて必要なシールを形成し得
るならば、別個のガスケットの使用は要求されない。
【００１７】装置１０′は更に皿の底部及び側部より電
気的に絶縁された電気端子３６ａ′、３６ｂ′を含んで
いる。かかる端子は抵抗線４６を電気回路に接続するの
に用いられる。導体３８ａ′、３８ｂ′が抵抗線４６の
長さに沿って配置され下方へ延在している。絶縁ケーク
は開口４２ａ′及び４２ｂ′を有しており、抵抗線が空
洞３０′へ挿入されるときこれらの開口を通って導体が
延在するようになっている。導体３８ａ′、３８ｂ′は
絶縁ケーク内のこれらの垂直方向の開口を通って導か
れ、抵抗線４６が所定の位置へ配置されると導体の端部
が端子３６ａ′、３６ｂ′の各々に接続される。皿が上
部調理面の下側に取付けられると、電線４４ａ′、４４
ｂ′が端子の外端に接続され抵抗線４６を含む電気回路
が完成される。発熱体１４の場合と同様に、抵抗線４６
は温度検出素子としても機能する。抵抗線の検出素子と
しての作動は該抵抗線の電気抵抗を検知する電子制御器
と共に行われる。この場合にも、制御器は交流電圧が零
レベルを横切るときに発熱体の抵抗を読取るようプログ
ラムされていてよい。もし温度が所定の温度より上であ
れば、制御器は発熱体を通る電気回路を開放する。温度
設定は上部調理面の温度が安全なレベルを超過しないこ
とを保証とする。
気的に絶縁された電気端子３６ａ′、３６ｂ′を含んで
いる。かかる端子は抵抗線４６を電気回路に接続するの
に用いられる。導体３８ａ′、３８ｂ′が抵抗線４６の
長さに沿って配置され下方へ延在している。絶縁ケーク
は開口４２ａ′及び４２ｂ′を有しており、抵抗線が空
洞３０′へ挿入されるときこれらの開口を通って導体が
延在するようになっている。導体３８ａ′、３８ｂ′は
絶縁ケーク内のこれらの垂直方向の開口を通って導か
れ、抵抗線４６が所定の位置へ配置されると導体の端部
が端子３６ａ′、３６ｂ′の各々に接続される。皿が上
部調理面の下側に取付けられると、電線４４ａ′、４４
ｂ′が端子の外端に接続され抵抗線４６を含む電気回路
が完成される。発熱体１４の場合と同様に、抵抗線４６
は温度検出素子としても機能する。抵抗線の検出素子と
しての作動は該抵抗線の電気抵抗を検知する電子制御器
と共に行われる。この場合にも、制御器は交流電圧が零
レベルを横切るときに発熱体の抵抗を読取るようプログ
ラムされていてよい。もし温度が所定の温度より上であ
れば、制御器は発熱体を通る電気回路を開放する。温度
設定は上部調理面の温度が安全なレベルを超過しないこ
とを保証とする。
【００１８】以上の説明より、本発明の幾つかの目的が
達成され他の有利な結果が得られることが理解されるで
あろう。
達成され他の有利な結果が得られることが理解されるで
あろう。
【００１９】上述の構成に於ては本発明の範囲から逸脱
することなく種々の変更がなされてよく、以上の記載及
び添付の図面に示される要件は例示として解釈されるべ
きものであり、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
することなく種々の変更がなされてよく、以上の記載及
び添付の図面に示される要件は例示として解釈されるべ
きものであり、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【図１】一般的なレンジの上面図。
【図２】レンジに於ける従来の一般的な加熱装置の断面
図。
図。
【図３】本発明による加熱装置の第一の実施例の断面
図。
図。
【図４】加熱装置に於ける発熱体の上面図。
【図５】本発明に係る加熱装置の第二の実施例の断面
図。
図。
【図６】第二の実施例に於て用いられる発熱体の上面
図。
図。
Ａ１〜Ａ４…加熱領域 Ｒ…レンジ ＲＴ…レンジ上部 Ｓ…上側部分 １０、１０′…電気加熱装置 １２、１２′…電気加熱手段 １４…発熱体 １６、１６′…熱溜め手段 １８、１８′…熱溜めディスク ２０、２０′…絶縁ケーク（絶縁手段） ２２…三脚台 ２２′…支持手段 ２４、２４′…皿（支持手段） ２６、２６′…底部 ２８、２８′…側部 ２９、２９′…ガスケット ３０、３０′…空洞 ３２′…円板部 ３４、３４′…上面 ３６ａ、３６ｂ、３６ａ′３６ｂ′…電気端子 ３８ａ、３８ｂ、３８ａ′、３８ｂ′…導体 ４０、４２…開口 ４４ａ、４４ｂ…電線 ４６…発熱体
Claims (11)
- 【請求項１】ガラス／セラミック製の上部調理面（Ｓ）
を有する電気レンジ（Ｒ）に於て使用される電気加熱装
置にして、 電流が供給されこれに応答して熱エネルギを発生する電
気加熱手段（１２）と、 前記電気加熱手段より熱エネルギを吸収し前記上部調理
面の下側の表面積に熱伝導により熱エネルギを拡散する
熱溜め手段（１６）と、 前記電気加熱手段と前記熱溜め手段とを前記上部調理面
の下側近傍に支持する支持手段（２６、２８）と、 前記電気加熱手段と前記支持手段との間に配設され断熱
及び電気絶縁を達成する絶縁手段（２０）と、を有する
電気加熱装置。 - 【請求項２】請求項１記載の電気加熱装置にして、前記
電気加熱手段は金属シースよりなる発熱体（１４）を含
んでいることを特徴とする電気加熱装置。 - 【請求項３】請求項２記載の電気加熱装置にして、前記
金属シースは螺旋状の発熱体を形成していることを特徴
とする電気加熱装置。 - 【請求項４】請求項１記載の電気加熱装置にして、前記
電気加熱手段は深波状の抵抗素子よりなる発熱体（４
６）を含んでいることを特徴とする電気加熱装置。 - 【請求項５】請求項１乃至４の何れかに記載の電気加熱
装置にして、前記熱溜め手段は半透明材料よりなること
を特徴とする電気加熱装置。 - 【請求項６】請求項５記載の電気加熱装置にして、前記
熱溜め手段は窒化アルミニウム材料よりなることを特徴
とする電気加熱装置。 - 【請求項７】請求項１乃至６の何れかに記載の電気加熱
装置にして、前記絶縁手段は多孔性の絶縁物質より形成
された絶縁ケークを含んでいることを特徴とする電気加
熱装置。 - 【請求項８】請求項７記載の電気加熱装置にして、前記
ケークは前記電気加熱手段が配置されるべき空洞（３
０）を有していることを特徴とする電気加熱装置。 - 【請求項９】請求項１乃至８の何れかに記載の電気加熱
装置にして、前記電気加熱手段は更に該装置の温度を検
出する温度検出手段と前記温度が所定の値を超過した場
合に前記電気加熱手段への電流を遮断する手段とを含む
ことを特徴とする電気加熱装置。 - 【請求項１０】請求項９記載の電気加熱装置にして、前
記温度検出手段は前記温度を電気抵抗の変化によって間
接的に検知することを特徴とする電気加熱装置。 - 【請求項１１】請求項１乃至１０の何れかに記載の電気
加熱装置にして、更に、上部調理面との間にシールを形
成すべく前記支持手段に取り付けられるガスケット手段
（２９）を含むことを特徴とする電気加熱装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/849,890 US5220155A (en) | 1992-03-12 | 1992-03-12 | Heating and sensing apparatus for range top |
| US849890 | 1992-03-12 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06101850A true JPH06101850A (ja) | 1994-04-12 |
| JP3351849B2 JP3351849B2 (ja) | 2002-12-03 |
Family
ID=25306766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07904993A Expired - Fee Related JP3351849B2 (ja) | 1992-03-12 | 1993-03-12 | 調理用レンジのための電気加熱装置 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5220155A (ja) |
| EP (1) | EP0560708B1 (ja) |
| JP (1) | JP3351849B2 (ja) |
| AT (1) | ATE163500T1 (ja) |
| AU (1) | AU663762B2 (ja) |
| CA (1) | CA2080088C (ja) |
| DE (1) | DE69317063T2 (ja) |
| DK (1) | DK0560708T3 (ja) |
| ES (1) | ES2114599T3 (ja) |
| MX (1) | MX9301398A (ja) |
| NZ (1) | NZ247040A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016515693A (ja) * | 2013-04-03 | 2016-05-30 | ソシエテ ミューラー アンド シーアイーイー | 安全装置を備えた暖房装置 |
| CN105805793A (zh) * | 2014-12-30 | 2016-07-27 | 无锡汉思特电器科技有限公司 | 一种电陶炉结构 |
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| GB2293952A (en) * | 1994-10-05 | 1996-04-10 | Redring Electric Ltd | A heating unit for a ceramic hob |
| DE19604658A1 (de) * | 1996-02-09 | 1997-08-14 | Ako Werke Gmbh & Co | Temperaturmeßeinrichtung für eine Regelschaltung eines elektrischen Strahlungsheizgeräts |
| USD431156S (en) * | 1996-04-24 | 2000-09-26 | Lewis Robert A | Surface ornamentation for a control panel on a range top |
| WO2000063564A1 (en) * | 1999-04-15 | 2000-10-26 | T-Lock Pty. Ltd. | Locking device for an axialy moving pin |
| US6403930B2 (en) * | 2000-03-15 | 2002-06-11 | Emerson Electric Co. | Modular radiant heating unit having a thermally insulating gasket and methods of assembling same |
| DE10112234C1 (de) | 2001-03-06 | 2002-07-25 | Schott Glas | Keramik-Kochfeld |
| DE10250317B4 (de) * | 2002-10-29 | 2004-10-28 | Schott Glas | Glas- oder Glaskeramikplatte mit einer elektrischen Heizeinheit |
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| JP4321213B2 (ja) * | 2003-10-24 | 2009-08-26 | ウシオ電機株式会社 | 加熱ユニット |
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| DE102005005520A1 (de) | 2005-02-01 | 2006-08-10 | E.G.O. Elektro-Gerätebau GmbH | Heizeinrichtung mit Temperatursensor und Kochfeld mit Heizeinrichtungen |
| CN102168861B (zh) * | 2011-06-09 | 2013-04-03 | 中山市格普斯纳米电热科技有限公司 | 电热炉 |
| CN109780586A (zh) * | 2019-01-14 | 2019-05-21 | 盐城苏源机电科技有限公司 | 一种高温即热式多用型电加热烹饪炉灶 |
| CN112923559A (zh) * | 2019-12-06 | 2021-06-08 | M·A·克罗 | 电空间加热器 |
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| US3622754A (en) * | 1970-07-24 | 1971-11-23 | Gen Electric | Glass plate surface heating unit with even temperature distribution |
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| US3686477A (en) * | 1971-08-06 | 1972-08-22 | Gen Electric | Mounting system for solid plate surface heating units |
| JPS4872737A (ja) * | 1971-12-08 | 1973-10-01 | ||
| US3805023A (en) * | 1972-03-31 | 1974-04-16 | Horizons Inc | Electrical heating device having metal depositions: in a porous anodized metal layer |
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-
1992
- 1992-03-12 US US07/849,890 patent/US5220155A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-10-07 CA CA002080088A patent/CA2080088C/en not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-03-02 NZ NZ247040A patent/NZ247040A/en not_active IP Right Cessation
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- 1993-03-12 MX MX9301398A patent/MX9301398A/es not_active IP Right Cessation
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