JPH06101102B2 - クリ−ニングデイスク - Google Patents
クリ−ニングデイスクInfo
- Publication number
- JPH06101102B2 JPH06101102B2 JP60067718A JP6771885A JPH06101102B2 JP H06101102 B2 JPH06101102 B2 JP H06101102B2 JP 60067718 A JP60067718 A JP 60067718A JP 6771885 A JP6771885 A JP 6771885A JP H06101102 B2 JPH06101102 B2 JP H06101102B2
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- Japan
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- cleaning
- disk
- cleaning disk
- acid
- head
- Prior art date
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- Paints Or Removers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えばパーソナルコンピユータ等のフロツピ
ーデイスク駆動装置に内蔵されている磁気ヘッドをクリ
ーニングするためのクリーニングデイスクに関する。
ーデイスク駆動装置に内蔵されている磁気ヘッドをクリ
ーニングするためのクリーニングデイスクに関する。
近年、マイクロコンピユータやパーソナルコンピユータ
等の普及はめざましく、オフイスや一般家庭にまで広く
浸透してきており、その使われ方は業務用からゲーム等
まで幅広く使われている。
等の普及はめざましく、オフイスや一般家庭にまで広く
浸透してきており、その使われ方は業務用からゲーム等
まで幅広く使われている。
一方、記録媒体としては、取扱いが便利でランダムアク
セスが可能な円板状のフロツピーデイスクが使用され、
最近では3.5インチMED（Micro Floppy Disk）に代表さ
れる小型のフロツピーデイスクが多用されている。
セスが可能な円板状のフロツピーデイスクが使用され、
最近では3.5インチMED（Micro Floppy Disk）に代表さ
れる小型のフロツピーデイスクが多用されている。
上記フロツピーデイスクは、磁気記録技術を応用したも
ので、例えばポリエチレンテレフタレート等よりなる支
持体上に、γ−Fe2O3や強磁性金属等の磁性粉を塩化ビ
ニル等の樹脂結合剤とともに厚さ２μｍ程度塗布して、
記録再生に関与する磁性膜を形成したものであつて、高
速で回転して同心円状の多数のトラツクに情報の記録再
生を行うものである。
ので、例えばポリエチレンテレフタレート等よりなる支
持体上に、γ−Fe2O3や強磁性金属等の磁性粉を塩化ビ
ニル等の樹脂結合剤とともに厚さ２μｍ程度塗布して、
記録再生に関与する磁性膜を形成したものであつて、高
速で回転して同心円状の多数のトラツクに情報の記録再
生を行うものである。
このようなフロツピーデイスクを、例えばフロツピーデ
イスク駆動装置により長時間駆動させると、デイスクと
ヘツドの摺接により上記磁性膜が摩耗され、このため磁
性膜が脱離して脱離粉が多かれ少なかれ発生し、これを
防止することは困難である。このため、磁気ヘッドが上
記脱離粉により汚染され、ドロツプアウト、ヘツドクロ
ツグあるいはノイズの発生原因となつており、さらに、
この脱離現象が進行するとスペーシングロスを引き起こ
す原因となり、読み取りエラー等を生じる原因となつて
いる。
イスク駆動装置により長時間駆動させると、デイスクと
ヘツドの摺接により上記磁性膜が摩耗され、このため磁
性膜が脱離して脱離粉が多かれ少なかれ発生し、これを
防止することは困難である。このため、磁気ヘッドが上
記脱離粉により汚染され、ドロツプアウト、ヘツドクロ
ツグあるいはノイズの発生原因となつており、さらに、
この脱離現象が進行するとスペーシングロスを引き起こ
す原因となり、読み取りエラー等を生じる原因となつて
いる。
従つて、上記磁気ヘッドは定期的にクリーニングする必
要があるが、例えば磁気テープの記録再生に使用される
磁気ヘッドの場合にはクリーニングテープや綿棒等によ
り簡単に清浄化することができるのに対して、フロツピ
ーデイスクに記録再生するフロツピーデイスク駆動装置
の場合、磁気ヘツドが装置内部に組み込まれているた
め、上記ヘツドをクリーニングすることが困難である。
特に、記録容量を増加するために基板の両面に磁性層を
形成した、いわゆる両面フロツピーデイスク用のフロツ
ピーデイスク駆動装置にあつては、この傾向が顕著であ
る。
要があるが、例えば磁気テープの記録再生に使用される
磁気ヘッドの場合にはクリーニングテープや綿棒等によ
り簡単に清浄化することができるのに対して、フロツピ
ーデイスクに記録再生するフロツピーデイスク駆動装置
の場合、磁気ヘツドが装置内部に組み込まれているた
め、上記ヘツドをクリーニングすることが困難である。
特に、記録容量を増加するために基板の両面に磁性層を
形成した、いわゆる両面フロツピーデイスク用のフロツ
ピーデイスク駆動装置にあつては、この傾向が顕著であ
る。
そこで、フロツピーデイスク駆動装置に内蔵された磁気
ヘッドをクリーニングするためのクリーニングデイスク
が必要となる。
ヘッドをクリーニングするためのクリーニングデイスク
が必要となる。
上記クリーニングデイスクとしてはヘツドを研磨する目
的から、Al2O3やCr2O3等の研磨材のみ、あるいは上記研
磨剤にこれらよりもモース硬度の低い酸化鉄系等を混し
た研磨材を支持基板上に形成した、いわゆる乾式クリー
ニングデイスクがあるが、ヘツドをキズ付け易いという
問題がある。あるいは、上記クリーニングデイスクとし
て、例えば和紙等を円板にし、使用時にアルコール等を
含ませて使用する、いわゆる湿式クリーニングデイスク
があるが、このクリーニングデイスクは、その表面の平
滑度が低くヘツド破損の虞れがあるという問題がある。
的から、Al2O3やCr2O3等の研磨材のみ、あるいは上記研
磨剤にこれらよりもモース硬度の低い酸化鉄系等を混し
た研磨材を支持基板上に形成した、いわゆる乾式クリー
ニングデイスクがあるが、ヘツドをキズ付け易いという
問題がある。あるいは、上記クリーニングデイスクとし
て、例えば和紙等を円板にし、使用時にアルコール等を
含ませて使用する、いわゆる湿式クリーニングデイスク
があるが、このクリーニングデイスクは、その表面の平
滑度が低くヘツド破損の虞れがあるという問題がある。
このように、従来のクリーニングデイスクでは、フロツ
ピーデイスク駆動装置に内蔵された磁気ヘッドにキズを
与えたり、あるいはヘツドを破損する虞れがあり、効果
的なクリーニングが困難であるという問題がある。
ピーデイスク駆動装置に内蔵された磁気ヘッドにキズを
与えたり、あるいはヘツドを破損する虞れがあり、効果
的なクリーニングが困難であるという問題がある。
そこで、本発明は上記問題点を解決するために提案され
たものであつて、上記磁気ヘッドにキズや破損を与える
ことなく効果的にクリーニングできるクリーニングデイ
スクを提供することを目的とするものである。
たものであつて、上記磁気ヘッドにキズや破損を与える
ことなく効果的にクリーニングできるクリーニングデイ
スクを提供することを目的とするものである。
この目的を達成するために、本発明のクリーニングデイ
スクは、モース硬度４以上の研磨剤と潤滑剤と樹脂結合
剤とを含有する塗膜を形成したことを特徴とするもので
ある。
スクは、モース硬度４以上の研磨剤と潤滑剤と樹脂結合
剤とを含有する塗膜を形成したことを特徴とするもので
ある。
ここで、研磨材としては、溶融アルミナ、炭化ケイ素、
酸化クロム（Cr2O3）、コランダム、人造コランダム、
ダイヤモンド、人造ダイヤモンド、ザクロ石、エメリー
（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、γ−Fe2O3等が使用
される。これらの研磨剤はモース硬度が４以上であり、
平均粒子径が0.3〜５μｍの大きさのものが使用され
る。
酸化クロム（Cr2O3）、コランダム、人造コランダム、
ダイヤモンド、人造ダイヤモンド、ザクロ石、エメリー
（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、γ−Fe2O3等が使用
される。これらの研磨剤はモース硬度が４以上であり、
平均粒子径が0.3〜５μｍの大きさのものが使用され
る。
潤滑剤としては、脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコンオ
イル、フツ素系界面活性剤等が使用できる。これらの潤
滑剤は研磨剤100重量部に対して0.5〜10重量部の範囲で
添加される。
イル、フツ素系界面活性剤等が使用できる。これらの潤
滑剤は研磨剤100重量部に対して0.5〜10重量部の範囲で
添加される。
上記脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、バル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノ
ール酸、リノレン酸等の炭素数が12個以上のものが使用
できる。
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノ
ール酸、リノレン酸等の炭素数が12個以上のものが使用
できる。
上記脂肪酸エステルとしては、ステアリン酸エチル、ス
テアリン酸ブチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸
モノグリセリド、オレイン酸モノグリセリド等が使用で
きる。
テアリン酸ブチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸
モノグリセリド、オレイン酸モノグリセリド等が使用で
きる。
上記シリコンオイルとしては、ジアルキルポリシロキサ
ン、ジアルコキシポリシロキサン、モノアルキルモノア
ルコキシポリシロキサン、フエニルポリシロキサン、フ
ロロアルキルポリシロキサン等が使用できる。
ン、ジアルコキシポリシロキサン、モノアルキルモノア
ルコキシポリシロキサン、フエニルポリシロキサン、フ
ロロアルキルポリシロキサン等が使用できる。
上記フツ素系界面活性剤としては、パーフロロアルキル
カルボン酸及びパーフロロアルキルスルホン酸と、Na,
K,Mg,Zn,Al,Fe,Co,Ni等との塩、パーフロロアルキルリ
ン酸エステル、パーフロロアルキルベタイン、パーフロ
ロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフロロエチ
レンオキサイド、パーフロロアルキル脂肪族エステル等
が使用できる。
カルボン酸及びパーフロロアルキルスルホン酸と、Na,
K,Mg,Zn,Al,Fe,Co,Ni等との塩、パーフロロアルキルリ
ン酸エステル、パーフロロアルキルベタイン、パーフロ
ロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフロロエチ
レンオキサイド、パーフロロアルキル脂肪族エステル等
が使用できる。
樹脂結合剤としては、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合
体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−ア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビ
ニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリ
デン共重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合
体、熱可塑性ポリウレタン樹脂、フエノキシ樹脂、ポリ
塩化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合
体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルアセタール、セルロース誘導
体、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエステル樹
脂、フエノール樹脂、エポキシ樹脂、熱硬化性ポリウレ
タン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキツド樹脂、
尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。
体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−ア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビ
ニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリ
デン共重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合
体、熱可塑性ポリウレタン樹脂、フエノキシ樹脂、ポリ
塩化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合
体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルアセタール、セルロース誘導
体、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエステル樹
脂、フエノール樹脂、エポキシ樹脂、熱硬化性ポリウレ
タン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキツド樹脂、
尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。
これら各材料は、溶剤に分散して塗料として調製される
が、この溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、
ブタノール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチ
ルエーテル等のエステル類、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサ
ン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化
炭化水素、ニトルプロパン等が挙げられる。
が、この溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、
ブタノール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチ
ルエーテル等のエステル類、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサ
ン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化
炭化水素、ニトルプロパン等が挙げられる。
また、研磨剤を樹脂結合剤に均一に分散させるために分
散剤を添加した方が好ましく、この分散剤としてはカプ
リル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライジン酸、
リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸等の炭素数12
〜18個の脂肪酸（R1COOH、R1は炭素数11〜17個のアルキ
ルまたはアルケニル基）：前記の脂肪酸のアルカリ金属
（Li,Na,K等）またはアルカリ土類金属（Mg,Ca,Ba）か
ら成る金属石鹸：前記の脂肪酸エステルの弗素を含有し
た化合物：前記の脂肪酸のアミド：ポリアルキレンオキ
サイドアルキルリン酸エステル：レシチン：トリアルキ
ルポリオレフインオキシ第四アンモニウム塩（アルキル
は炭素数１〜５個、オレフインはエチレン、プロピレン
など）：等が使用される。この他に炭素数12以上の高級
アルコール、及びこれらの他に硫酸エステル等も使用可
能である。
散剤を添加した方が好ましく、この分散剤としてはカプ
リル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライジン酸、
リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸等の炭素数12
〜18個の脂肪酸（R1COOH、R1は炭素数11〜17個のアルキ
ルまたはアルケニル基）：前記の脂肪酸のアルカリ金属
（Li,Na,K等）またはアルカリ土類金属（Mg,Ca,Ba）か
ら成る金属石鹸：前記の脂肪酸エステルの弗素を含有し
た化合物：前記の脂肪酸のアミド：ポリアルキレンオキ
サイドアルキルリン酸エステル：レシチン：トリアルキ
ルポリオレフインオキシ第四アンモニウム塩（アルキル
は炭素数１〜５個、オレフインはエチレン、プロピレン
など）：等が使用される。この他に炭素数12以上の高級
アルコール、及びこれらの他に硫酸エステル等も使用可
能である。
以上の組成物をボールミル等にて充分に混錬後、支持基
板上に所望の厚さに塗布乾燥し、クリーニングデイスク
原反を作製する。
板上に所望の厚さに塗布乾燥し、クリーニングデイスク
原反を作製する。
ここで上記支持基板の素材としては、非磁性のものが好
ましく、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル
類、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフイン
類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース
誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニ
ル系樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド
イミド等のプラスチツク等が挙げられる。
ましく、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル
類、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフイン
類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース
誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニ
ル系樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド
イミド等のプラスチツク等が挙げられる。
以上で得られたクリーニングデイスク原反を所望のサイ
ズとなるように打ち抜き、さらに内張りしたジヤケツト
に組み込みクリーニングデイスクを作製する。
ズとなるように打ち抜き、さらに内張りしたジヤケツト
に組み込みクリーニングデイスクを作製する。
ここで、得られたクリーニングデイスクの表面粗度は中
心線平均粗さRaで0.07〜0.7μｍの範囲が好ましく、0.0
7μｍ以下では充分なクリーニング効果が得られず、0.7
μｍ以上ではかえつてクリーニング性が低下し、またヘ
ツドを傷付ける虞れがある。
心線平均粗さRaで0.07〜0.7μｍの範囲が好ましく、0.0
7μｍ以下では充分なクリーニング効果が得られず、0.7
μｍ以上ではかえつてクリーニング性が低下し、またヘ
ツドを傷付ける虞れがある。
したがつて、本発明のクリーニングデイスクによれば、
クリーニングデイスクの塗膜中にモース硬度４以上の研
磨剤と潤滑剤とを含有しているので、フロツピーデイス
ク駆動装置に内蔵される磁気ヘッドが効果的に清浄さ
れ、また傷付きが発生することもない。
クリーニングデイスクの塗膜中にモース硬度４以上の研
磨剤と潤滑剤とを含有しているので、フロツピーデイス
ク駆動装置に内蔵される磁気ヘッドが効果的に清浄さ
れ、また傷付きが発生することもない。
以下、本発明の具体的実施例について説明する。
実施例１ Cr2O3 ・・・90重量部 （モース硬度８、平均粒径0.5μｍ） γ−Fe2O3 ・・・210重量部 （平均粒径0.8μｍ） ブチルスチアレート ・・・15重量部 （研磨材比５％） 塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂 ・・・50重量部 （Vcc製VAGH） ウレタン樹脂 ・・・50重量部 （グツドリツチ製エスタン5701） レシチン ・・・３重量部 メチルエチルケトン ・・・560重量部 メチルイソブチルケトン ・・・280重量部 シクロヘキサノン ・・・280重量部 以上のような割合で混合した混合物をボールミルにて48
時間混練した後、イソシアネート硬化剤（日本ポリウレ
タン製コロネートＬ）を20重量部加え充分に攪拌し、さ
らにフイルターを通してゴミ等の異物を除去し、塗料を
調製した。
時間混練した後、イソシアネート硬化剤（日本ポリウレ
タン製コロネートＬ）を20重量部加え充分に攪拌し、さ
らにフイルターを通してゴミ等の異物を除去し、塗料を
調製した。
次いで、上記塗料を厚さ75μｍのポリエチレンテレフタ
レートよりなる基板上に塗布膜が３〜４μｍ程度となる
ように、塗布機で塗布し、さらに、この塗膜中の溶剤を
熱風より蒸発させて、クリーニング層を基板上に固定し
たクリーニングデイスク原反を作製した。
レートよりなる基板上に塗布膜が３〜４μｍ程度となる
ように、塗布機で塗布し、さらに、この塗膜中の溶剤を
熱風より蒸発させて、クリーニング層を基板上に固定し
たクリーニングデイスク原反を作製した。
最後に、上記原反を所定のサイズ（例えば直径5.25イン
チあるいは3.5インチ）となるよう抜き型を用いて打ち
抜き、ライナーを内張りしたジヤケツトに組み込んでク
リーニングデイスクを作製した。
チあるいは3.5インチ）となるよう抜き型を用いて打ち
抜き、ライナーを内張りしたジヤケツトに組み込んでク
リーニングデイスクを作製した。
実施例２ クリーニングデイスクの表面粗度Raを変化させるため、
実施例１において、クリーニングデイスク原反を作製
後、カレンダー処理を温度50℃、線圧力250kg/口で行
い、他は実施例１と同様の手法によりクリーニングデイ
スクを作製した。
実施例１において、クリーニングデイスク原反を作製
後、カレンダー処理を温度50℃、線圧力250kg/口で行
い、他は実施例１と同様の手法によりクリーニングデイ
スクを作製した。
実施例３ カレンダー処理を温度80℃、線圧力250kg/口に変え、実
施例２と同様の手法によりクリーニングデイスクを作製
した。
施例２と同様の手法によりクリーニングデイスクを作製
した。
実施例４ クリーニングデイスクの表面粗度Raを変化させるため、
塗膜中の溶剤を熱風により蒸発させる工程における相対
的風量を実施例１の1.4倍とし、他は実施例１と同様の
手法によりクリーニングデイスクを作製した。
塗膜中の溶剤を熱風により蒸発させる工程における相対
的風量を実施例１の1.4倍とし、他は実施例１と同様の
手法によりクリーニングデイスクを作製した。
実施例５ 実施例４と同様、溶剤蒸発工程における相対的風量を実
施例１の1.8倍とし、他は実施例１と同様の手法により
クリーニングデイスクを作製した。
施例１の1.8倍とし、他は実施例１と同様の手法により
クリーニングデイスクを作製した。
実施例６ クリーニングデイスクの表面粗度Raを変えるために、溶
剤のトルエン等の貪溶剤を加え、実施例１の溶剤（良溶
剤）とこの貪溶剤の比が良溶剤／貪溶剤＝7/3となるよ
うな溶剤に変え、他は実施例１と同様の手法によりクリ
ーニングデイスクを作製した。
剤のトルエン等の貪溶剤を加え、実施例１の溶剤（良溶
剤）とこの貪溶剤の比が良溶剤／貪溶剤＝7/3となるよ
うな溶剤に変え、他は実施例１と同様の手法によりクリ
ーニングデイスクを作製した。
実施例７ 実施例６と同様、良溶剤／貪溶剤＝4/6となるような溶
剤に変え、他は実施例１と同様の手法によりクリーニン
グデイスクを作製した。
剤に変え、他は実施例１と同様の手法によりクリーニン
グデイスクを作製した。
実施例８ 実施例６と同様、良溶剤／貪溶剤＝1/9となるような溶
剤に変え、他は実施例１と同様の手法によりクリーニン
グデイスクを作製した。
剤に変え、他は実施例１と同様の手法によりクリーニン
グデイスクを作製した。
実施例９ クリーニングデイスクの表面粗度Raを変えるために、樹
脂結合剤を以下の材料に変え、他は実施例１と同様の手
法によりクリーニングデイスクを作製した。
脂結合剤を以下の材料に変え、他は実施例１と同様の手
法によりクリーニングデイスクを作製した。
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体樹脂 ・・・50重量部 （Vcc製VAGH） アクリルニトリル系樹脂 ・・・50重量部 （日本ゼオン製1432J） 実施例10 実施例１において、潤滑剤であるブチルステアレートを
オレイン酸に変え、他は実施例１と同様の手法によりク
リーニングデイスクを作製した。
オレイン酸に変え、他は実施例１と同様の手法によりク
リーニングデイスクを作製した。
実施例11 実施例１において、潤滑剤であるブチルステアレートを
ヘキシルミリステート（15重量部）とオレイン酸（５重
量部）に変え、他は実施例１と同様の手法によりクリー
ニングデイスクを作製した。
ヘキシルミリステート（15重量部）とオレイン酸（５重
量部）に変え、他は実施例１と同様の手法によりクリー
ニングデイスクを作製した。
実施例12 実施例１において、研磨剤（Cr2O3＋γ−Fe2O3）をCr2O
3（モース硬度８、平均粒径0.5μｍ）300重量部に変
え、他は実施例１と同様の手法によりクリーニングデイ
スクを作製した。
3（モース硬度８、平均粒径0.5μｍ）300重量部に変
え、他は実施例１と同様の手法によりクリーニングデイ
スクを作製した。
比較例１ 実施例１において、潤滑剤であるブチルステアレートを
混合しないで塗液を調製し、他は実施例１と同様の手法
によりクリーニングデイスクを作製した。
混合しないで塗液を調製し、他は実施例１と同様の手法
によりクリーニングデイスクを作製した。
比較例２ 実施例12において、潤滑剤であるブチルステアレートを
混合しないで塗液を調製し、他は実施例１と同様の手法
によりクリーニングデイスクを作製した。
混合しないで塗液を調製し、他は実施例１と同様の手法
によりクリーニングデイスクを作製した。
以上により作製された各クリーニングデイスクに対し
て、表面粗度Raを測定し、次いで、上記各クリーニング
デイスクをフロツピーデイスク駆動装置に装着して、初
期及び300万回走行後の磁気ヘツドの摺接面を観察して
クリーニング効果を調べた。結果を第１表に示す。第１
表中、初期クリーニング性はその効果の程度をＡないし
Ｄで示したもので、Ａが最も良く、Ｂ、Ｃまでは良好で
あるが、Ｄではクリーニング効果がほとんど現われてい
ないことを示す。一方、300万回走行後のキズの程度
は、○が良好、×が不良を示す。
て、表面粗度Raを測定し、次いで、上記各クリーニング
デイスクをフロツピーデイスク駆動装置に装着して、初
期及び300万回走行後の磁気ヘツドの摺接面を観察して
クリーニング効果を調べた。結果を第１表に示す。第１
表中、初期クリーニング性はその効果の程度をＡないし
Ｄで示したもので、Ａが最も良く、Ｂ、Ｃまでは良好で
あるが、Ｄではクリーニング効果がほとんど現われてい
ないことを示す。一方、300万回走行後のキズの程度
は、○が良好、×が不良を示す。
第１表より、潤滑剤を含まない塗膜を有するクリーニン
グシート（比較例１、比較例２）は、初期のクリーニン
グ効果は良好であるが、長時間使用するとヘツドとの摺
動により塗膜の一部が脱離し、この脱離粉がヘツドに付
着して、ヘツドにキズを与えてしまう。しかし、潤滑剤
を含む塗膜を有するクリーニングシート（実施例１ない
し実施例12）は、300万回走行後でも、ヘツドの表面は
非常に滑らかなものであつた。
グシート（比較例１、比較例２）は、初期のクリーニン
グ効果は良好であるが、長時間使用するとヘツドとの摺
動により塗膜の一部が脱離し、この脱離粉がヘツドに付
着して、ヘツドにキズを与えてしまう。しかし、潤滑剤
を含む塗膜を有するクリーニングシート（実施例１ない
し実施例12）は、300万回走行後でも、ヘツドの表面は
非常に滑らかなものであつた。
また、上記第１表より表面粗度Raと初期クリーニング性
との関係を調べた。結果を第１図に示す。この第１図よ
り、表面粗度Raと初期クリーニング性の間には相関がみ
られ、良好なクリーニング効果を得るには、0.07μｍ以
上の表面粗度Raが必要であることがわかる。
との関係を調べた。結果を第１図に示す。この第１図よ
り、表面粗度Raと初期クリーニング性の間には相関がみ
られ、良好なクリーニング効果を得るには、0.07μｍ以
上の表面粗度Raが必要であることがわかる。
以上の説明からも明らかなように、本発明のクリーニン
グデイスクは、モース硬度４以上の研磨剤と潤滑剤と樹
脂結合剤とを含有する塗膜を形成しているので、使用初
期はもちろん長時間使用後であつても、磁気ヘツドにキ
ズや破損を与えることなく効果的にクリーニングするこ
とができる。
グデイスクは、モース硬度４以上の研磨剤と潤滑剤と樹
脂結合剤とを含有する塗膜を形成しているので、使用初
期はもちろん長時間使用後であつても、磁気ヘツドにキ
ズや破損を与えることなく効果的にクリーニングするこ
とができる。
また、上記クリーニングデイスクは、磁気デイスクと同
一形状であるので、通常の磁気デイスクと同様にフロツ
ピーデイスク駆動装置に装着することにより磁気ヘツド
を簡単にクリーニングすることができる。
一形状であるので、通常の磁気デイスクと同様にフロツ
ピーデイスク駆動装置に装着することにより磁気ヘツド
を簡単にクリーニングすることができる。
従つて、本発明のクリーニングデイスクで磁気ヘツドを
クリーニングすれば、このヘツドの汚れを効果的に解消
することができ、記録再生時のヘツドクロツグ、ノイ
ズ、スペーシングロスあるいはドロツプアウト等を防止
することができる。
クリーニングすれば、このヘツドの汚れを効果的に解消
することができ、記録再生時のヘツドクロツグ、ノイ
ズ、スペーシングロスあるいはドロツプアウト等を防止
することができる。
第１図はクリーニングデイスクの表面粗度とその初期ク
リーニング性との関係を示す特性図である。
リーニング性との関係を示す特性図である。
Claims (1)
- 【請求項１】モース硬度４以上の研磨剤と潤滑剤と樹脂
結合剤とを含有する塗膜を形成したことを特徴とするク
リーニングデイスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60067718A JPH06101102B2 (ja) | 1985-03-30 | 1985-03-30 | クリ−ニングデイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60067718A JPH06101102B2 (ja) | 1985-03-30 | 1985-03-30 | クリ−ニングデイスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61227216A JPS61227216A (ja) | 1986-10-09 |
| JPH06101102B2 true JPH06101102B2 (ja) | 1994-12-12 |
Family
ID=13353013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60067718A Expired - Lifetime JPH06101102B2 (ja) | 1985-03-30 | 1985-03-30 | クリ−ニングデイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06101102B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02126484A (ja) * | 1988-11-04 | 1990-05-15 | Sony Chem Corp | 磁気テープ用ダスティングテープ |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5263716A (en) * | 1975-11-21 | 1977-05-26 | Tdk Corp | Head cleaning disk |
| JPS5377612A (en) * | 1976-12-21 | 1978-07-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | Cleaning tape for magnetic recorder |
| JPS5554822U (ja) * | 1978-10-05 | 1980-04-14 | ||
| JPS5554820U (ja) * | 1978-10-06 | 1980-04-14 | ||
| JPS578917A (en) * | 1980-06-20 | 1982-01-18 | Tdk Corp | Cleaning tape for magnetic recorder |
-
1985
- 1985-03-30 JP JP60067718A patent/JPH06101102B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5263716A (en) * | 1975-11-21 | 1977-05-26 | Tdk Corp | Head cleaning disk |
| JPS5377612A (en) * | 1976-12-21 | 1978-07-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | Cleaning tape for magnetic recorder |
| JPS5554822U (ja) * | 1978-10-05 | 1980-04-14 | ||
| JPS5554820U (ja) * | 1978-10-06 | 1980-04-14 | ||
| JPS578917A (en) * | 1980-06-20 | 1982-01-18 | Tdk Corp | Cleaning tape for magnetic recorder |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61227216A (ja) | 1986-10-09 |
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