JPH06100344B2 - 電熱放射加熱部のための加熱装置 - Google Patents

電熱放射加熱部のための加熱装置

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JPH06100344B2
JPH06100344B2 JP60031387A JP3138785A JPH06100344B2 JP H06100344 B2 JPH06100344 B2 JP H06100344B2 JP 60031387 A JP60031387 A JP 60031387A JP 3138785 A JP3138785 A JP 3138785A JP H06100344 B2 JPH06100344 B2 JP H06100344B2
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    • F24C7/00—Stoves or ranges heated by electric energy
    • F24C7/06—Arrangement or mounting of electric heating elements
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00—Ohmic-resistance heating
    • H05B3/68—Heating arrangements specially adapted for cooking plates or analogous hot-plates
    • H05B3/74—Non-metallic plates, e.g. vitroceramic, ceramic or glassceramic hobs, also including power or control circuits
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は電熱放射加熱部のための加熱装置に関する。
〔従来の技術〕
かかる加熱装置は通常、放射熱を透過する板例えばガラ
スセラミツク板の下に、電気エネルギーを与え得る放射
加熱要素を有する放射加熱体が配置されて構成されてい
る。この放射加熱体は加熱部領域にわたりできる限り均
一に分散されている。通常は放射加熱要素である加熱コ
イルが熱及び電気を絶縁する耐熱材料の上に置かれ大気
に開放されている。周囲大気による急激な損傷を防ぐた
めに、かかる加熱要素は通常1000℃までの運転温度に対
し設計されており、またこの温度以下で使用される。二
つの加熱回路が一つの加熱部領域内に配置されているこ
とが知られており、その際より大きい接続ワット数のた
めの一つの加熱領域がその電気的入力について従つてま
たその熱的出力について調節可能にされており、特殊な
要求例えば短時間にさつとゆでる作業のための通常は容
量のより小さい他の加熱回路が定格全加熱容量を有する
第１の加熱回路に付加接続されている。
加熱装置のための放射加熱体として保護ガス例えばハロ
ゲンにより保護された放射加熱要素が用いられ、この放
射加熱要素が封入された保護ガスにより非常に高い温度
例えば2000℃までの温度で運転できることも知られてい
る。この放射加熱体は、広く用いられている周囲大気に
さらされた通常温度放射加熱要素に比べて、少なくとも
製造技術的に著しく高価である。放射技術的に知られた
事実からこの高温放射加熱要素は特別の放射特性を有す
る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
この発明は、製造技術的にまた操作技術的に好ましい前
提を与え、且つ種々の使用条件及び運転条件に対し機能
的に有利に構成された、電熱放射加熱部のための加熱装
置を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
周知の技術水準よりも前向きに広い範囲においてこれら
要求を満たす加熱装置は、この発明に基づき電熱放射加
熱部領域の中に高温放射加熱要素と通常温度放射加熱要
素とが組み合わせて配置されていることを特徴とする。
高温放射加熱要素は周知の方法において保護ガスにより
囲まれガラスセラミツク管に密封された加熱要素とする
ことが有利である。保護ガスとして例えばハロゲン（そ
の他にすべての希ガス及び窒素、ナトリウム等々）が封
入される。かかる高温放射加熱要素は約2000℃の運転温
度に対し設計されるのが有利である。
通常温度放射加熱要素は周知の方法において周囲大気に
さらされた加熱要素であり、約1000℃の運転温度に対し
設計されている。
〔作用効果〕
放射加熱部領域の中に高温放射加熱要素と通常温度放射
加熱要素とを組み合わせて使用することにより、両加熱
システムの有利な各特性が相互に補完して一体化され
る。従つて両形式の放射加熱要素には異なつた運転機能
と操作機能を従属させることができる。すなわち通常温
度放射加熱要素は例えば煮物又は肉焼きと言う基本負荷
の充足のために用いることができ、この基本負荷におい
てはこの加熱システムの熱慣性が作業の経過に非常に有
利に作用する。一方高温放射加熱要素は通常は短時間の
加熱のためのピーク負荷例えば短時間にさつとゆでる時
のために用いられる。ここではこの放射加熱要素の比較
的熱慣性の少ない特性が加熱対象物の目標温度への到達
時点までの加熱プロセスに対して有利に作用する。
煮物と肉焼きの作業のための通常の使用目的に対して、
通常温度放射加熱要素は約1500ワツトまでの接続ワツト
数に対して設計されており、高温放射加熱要素は約700
ワツトまでの接続ワツト数に対して設計されている。
この発明に基づく加熱装置はその実施態様により、通常
温度放射加熱要素と高温放射加熱要素とに対し従属する
制御器具により個々に電気エネルギーが与えられること
ができることを特徴とし、その際通常温度放射加熱要素
に調節された及び／又は操作された電気エネルギーが与
えられることができ、高温放射加熱要素に一定の電気エ
ネルギーが与えられることができるので有利である。こ
れに関連して、通常温度放射加熱要素は周知で且つ実証
された調節手段又は操作手段の下に置かれ、これらの手
段には電源における接続条件のみならず加熱技術上の条
件をも勘案されている。これに対して高温放射加熱要素
はその都度その全接続容量でもつて比較的連続的に投入
される。
この発明に基づく加熱装置は他の有利な実施態様によ
り、通常温度放射加熱要素と高温放射加熱要素とが加熱
部領域の中に対称的に配置されるのを特徴とし、その際
通常温度放射加熱要素並びに高温放射加熱要素を放射加
熱部領域にわたりほぼ均一に分散するのが特に有利であ
る。加熱技術上は高温放射加熱要素と通常温度放射加熱
要素とを加熱部領域の中で交互に順に例えばリング状に
又はら線状に配置するのが有利である。
熱放射エネルギー、特に高温放射加熱要素から加熱対象
物に対し放射される熱エネルギーを良好に利用するため
に、放射加熱要素支持体の底の部分に熱放射反射体を配
置するのが有利である。
〔実施例〕
次にこの発明に基づく加熱装置の三つの実施例を示す図
面を参照しながら、この発明を詳細に説明する。
第１図及び第２図は実施例１、第３図は実施例２、第４
図は実施例３を示す。
図面において、放射加熱部領域1,11,21の中に高温放射
加熱要素2,12,22及び通常温度放射加熱要素3,13,23,2
3′が相並んで配置されている。第１図においては高温
放射加熱要素２は棒状に形成されており、一方第３図及
び第４図においてはリング状に形成された高温放射加熱
要素12、22が放射加熱部ユニツトの内部に配置されてい
る。
高温放射加熱要素2,12,22は周知の方法において構成さ
れており、その際例えばタングステンから成る電熱線は
ガラスセラミツク管により気密に囲まれ、この管は電熱
線を保護するために保護ガス例えばハロゲンにより満た
されている。かかる高温放射加熱要素は約2000℃の運転
温度で運転することができる。
通常温度加熱要素3,13,23,23′は周知の方法において放
射加熱部ユニツトの中に開放されてら線形に置かれてい
るので、この加熱要素は周囲大気にさらされている。従
つて合理的な運転温度は約1000℃までに制限される。
第２図においては、放射加熱要素3,2がガラスセラミツ
ク板４の下の一平面上に皿形ケース５の内部に配置され
ており、このガラスセラミツク板は放射熱に対し良好な
透過特性を有する。その際通常温度加熱要素３は熱及び
電気を絶縁する耐熱材料６の中に置かれ、一方高温放射
加熱要素２は点状に支持されているだけで広い範囲にわ
たつて支持されていない。従つてこの高温放射加熱要素
の下には放射反射体７を配置することができ、この反射
体は高温放射加熱要素２から下に向かつて放射された熱
エネルギーを再び上に向かつて反射する。そのために良
好な放射熱利用が達成される。
【図面の簡単な説明】
第１図はこの発明に基づく放射加熱部の実施例１の平面
図、第２図は第１図に示す放射加熱部の縦断面図、第３
図は実施例２の平面図、第４図は実施例３の平面図であ
る。 1,11,21…加熱部領域、2,12,22…高温放射加熱要素、3,
13,23,23′…通常温度放射加熱要素、７…放射反射体。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】高温放射加熱要素（２、12、22）と通常温
    度放射加熱要素（３、13、23、23′）とが組み合わせて
    配置され、高温放射加熱要素（２、12、22）が保護ガス
    により囲まれた加熱要素でありしかも約2000℃の運転温
    度に対し設計され、通常温度放射加熱要素（３、13、2
    3、23′）が周囲大気にさらされた加熱要素であること
    を特徴とする電熱放射加熱部のための加熱装置。
  2. 【請求項２】通常温度放射加熱要素（３、13、23、2
    3′）が約1000℃の運転温度に対し設計されていること
    を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の加熱装置。
  3. 【請求項３】通常温度放射加熱要素（３、13、23、2
    3′）が約1500ワットまでの接続容量に対し設計されて
    いることを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項
    記載の加熱装置。
  4. 【請求項４】高温放射加熱要素（２、12、22）が約700
    ワットまでの接続容量に対し設計されていることを特徴
    とする特許請求の範囲第１項記載の加熱装置。
  5. 【請求項５】通常温度放射加熱要素（３、13、23、2
    3′）と高温放射加熱要素（２、12、22）とに対し従属
    する制御器具により個々に電気エネルギーが与えられる
    ことができることを特徴とする特許請求の範囲第１項な
    いし第４項のいずれか１つに記載の加熱装置。
  6. 【請求項６】通常温度放射加熱要素（３、13、23、2
    3′）に調節された及び／又は操作された電気エネルギ
    ーが与えられることができ、高温放射加熱要素（２、1
    2、22）に一定の電気エネルギーが与えられることがで
    きることを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第５
    項のいずれか１つに記載の加熱装置。
  7. 【請求項７】通常温度放射加熱要素（３、13、23、2
    3′）と高温放射加熱要素（２、12、22）とが加熱部領
    域（１、11、21）の中に対称的に配置されていることを
    特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第６項のいずれ
    か１つに記載の加熱装置。
  8. 【請求項８】高温放射加熱要素（２、12、22）並びに通
    常温度放射加熱要素（３、13、23、23′）が加熱部領域
    にわたりほぼ均一に分散されていることを特徴とする特
    許請求の範囲第１項ないし第７項のいずれか１つに記載
    の加熱装置。
  9. 【請求項９】通常温度放射加熱要素（23、23′）と高温
    放射加熱要素（22）とが加熱部領域（21）の中に交互に
    順に配置されていることを特徴とする特許請求の範囲第
    １項ないし第８項のいずれか１つに記載の加熱装置。
  10. 【請求項１０】少なくとも高温放射加熱要素（２、12、
    22）の下の部分に放射熱を反射する層（７）が配置され
    ていることを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第
    ９項のいずれか１つに記載の加熱装置。
JP60031387A 1984-02-23 1985-02-19 電熱放射加熱部のための加熱装置 Expired - Lifetime JPH06100344B2 (ja)

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AU (1) AU573690B2 (ja)
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CA (1) CA1236870A (ja)
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DK (1) DK161164B (ja)
ES (1) ES8606614A1 (ja)
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IT (2) IT1183373B (ja)
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