JPH059763B2 - - Google Patents
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- JPH059763B2 JPH059763B2 JP58104606A JP10460683A JPH059763B2 JP H059763 B2 JPH059763 B2 JP H059763B2 JP 58104606 A JP58104606 A JP 58104606A JP 10460683 A JP10460683 A JP 10460683A JP H059763 B2 JPH059763 B2 JP H059763B2
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/20—Measuring radiation intensity with scintillation detectors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
- C03C13/045—Silica-containing oxide glass compositions
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/102—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type for infrared and ultraviolet radiation
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は放射線場内を光フアイバにて光情報を
正確に伝送するための方法に関するものである。
正確に伝送するための方法に関するものである。
通常光フアイバは放射線の被曝を受けるとその
光伝送損失が増大する性質をもつている。このた
め原子炉周辺の放射線場において使用する光フア
イバとしては放射線の被曝によっても光伝送損失
量の変化が可及的に少ないもの、即ち耐放射線性
光フアイバが望まれる。ところでこの耐放射線性
は光フアイバ中のOH基含有量及び光情報の波長
帯と密接な関係があることが従来知られている。
従来にあつては発光部、受光部等の装置を最も安
価に構成し得るため、光の波長帯として0.8μm帯
（厳密には0.78〜0.88μm）が選定され、また光フ
アイバに含有させるべきOH基は0.8μm帯の光情
報を用いる場合において放射線被曝後の光伝送損
失量が最も少なくなる値に設定して光フアイバを
構成している。
光伝送損失が増大する性質をもつている。このた
め原子炉周辺の放射線場において使用する光フア
イバとしては放射線の被曝によっても光伝送損失
量の変化が可及的に少ないもの、即ち耐放射線性
光フアイバが望まれる。ところでこの耐放射線性
は光フアイバ中のOH基含有量及び光情報の波長
帯と密接な関係があることが従来知られている。
従来にあつては発光部、受光部等の装置を最も安
価に構成し得るため、光の波長帯として0.8μm帯
（厳密には0.78〜0.88μm）が選定され、また光フ
アイバに含有させるべきOH基は0.8μm帯の光情
報を用いる場合において放射線被曝後の光伝送損
失量が最も少なくなる値に設定して光フアイバを
構成している。
しかしこのような従来の方法にあつては高精度
の情報の伝送には不十分なことが多く、光伝送損
失量の一層の低減が望まれている。
の情報の伝送には不十分なことが多く、光伝送損
失量の一層の低減が望まれている。
本発明者等はこのような光フアイバの耐放射線
性についての実験研究の結果、放射線被曝環境下
においては1.3μm帯で、しかもOH基含有量の少
ない（OH基含有量1ppm以下、望ましくは極力
少ない方がよい）コアを有する光フアイバを使用
するのが光伝送損失の低減効果が大きいことを知
見した。
性についての実験研究の結果、放射線被曝環境下
においては1.3μm帯で、しかもOH基含有量の少
ない（OH基含有量1ppm以下、望ましくは極力
少ない方がよい）コアを有する光フアイバを使用
するのが光伝送損失の低減効果が大きいことを知
見した。
本発明はかかる知見に基づきなされたものであ
つて、その目的とするところは高純度石英ガラス
に1ppm以下のOH基を含有させたコアを有する
光フアイバを用い、波長1.3μm帯の光にて情報を
伝送することを特徴とする放射線場内における光
情報伝送方法を提供するにある。
つて、その目的とするところは高純度石英ガラス
に1ppm以下のOH基を含有させたコアを有する
光フアイバを用い、波長1.3μm帯の光にて情報を
伝送することを特徴とする放射線場内における光
情報伝送方法を提供するにある。
以下本発明方法を図面に基づき具体的に説明す
る。第１図は本発明方法に用いる光フアイバの模
式的断面図であり、図中１はコア、２はクラツド
層、３は必要により設けられる、例えば石英ガラ
ス等よりなるサポート層を示している。コア１は
OH基含有量が1ppm以下（実施例では50ppb）、
望ましくは零の石英ガラス製である。OH基の含
有量は光情報として1.3μm帯のものを用いる限
り、可及的に少なくするのが望ましく、1ppm以
下では実用上支障を生じない。
る。第１図は本発明方法に用いる光フアイバの模
式的断面図であり、図中１はコア、２はクラツド
層、３は必要により設けられる、例えば石英ガラ
ス等よりなるサポート層を示している。コア１は
OH基含有量が1ppm以下（実施例では50ppb）、
望ましくは零の石英ガラス製である。OH基の含
有量は光情報として1.3μm帯のものを用いる限
り、可及的に少なくするのが望ましく、1ppm以
下では実用上支障を生じない。
尚、クラツド層２の材質は特に限定するもので
はなく、従来より用いられている例えばポリマー
のクラツド、石英ガラスクラツド等を適宜採用し
てよい。
はなく、従来より用いられている例えばポリマー
のクラツド、石英ガラスクラツド等を適宜採用し
てよい。
第２図は105Ｒの放射線量の（γ線）照射後に
おける光伝送損失量と、光フアイバ中のOH基含
有量を、また縦軸に光伝送損失量（dB／Km）を
とつて示してある。
おける光伝送損失量と、光フアイバ中のOH基含
有量を、また縦軸に光伝送損失量（dB／Km）を
とつて示してある。
グラフ中実線は1.3μm帯の光を用いた場合を、
また破線は0.85μm帯の光を用いた場合を示して
いる。このグラフから明らかなように、0.85μm
帯の光を用いる場合には光フアイバ中のOH基含
有量の最適値はあるが比較的光伝送損失量が大き
いのに対し、1.3μm帯の光を用いる場合にはOH
基含有量を少なくすれば放射線被曝下における光
伝送損失量が減少し、30ppm以上ではむしろ
0.8μm帯の光を用いる場合に比較して光伝送損失
量は大きいが20ppm以下では0.8μm帯の光を用い
たときの光伝送損失量より急激に少なくなり、
1ppm以下では格段に少なく、零に近づくに従つ
てその差が更に増大していることが解る。
また破線は0.85μm帯の光を用いた場合を示して
いる。このグラフから明らかなように、0.85μm
帯の光を用いる場合には光フアイバ中のOH基含
有量の最適値はあるが比較的光伝送損失量が大き
いのに対し、1.3μm帯の光を用いる場合にはOH
基含有量を少なくすれば放射線被曝下における光
伝送損失量が減少し、30ppm以上ではむしろ
0.8μm帯の光を用いる場合に比較して光伝送損失
量は大きいが20ppm以下では0.8μm帯の光を用い
たときの光伝送損失量より急激に少なくなり、
1ppm以下では格段に少なく、零に近づくに従つ
てその差が更に増大していることが解る。
次に本発明方法と参照方法との比較試験結果に
ついて説明する。
ついて説明する。
試験は本発明方法としてOH基を50ppb含有す
る純粋石英光フアイバにて1.30μm帯の光情報を、
また参照方法として、OH基を300ppm含有する
純粋石英光フアイバにて0.8μm帯の光情報を伝送
させ、照射線量Ｒと光伝送損失量（dB／Km）と
の関係を調べた。結果は第３図に示すとおりであ
る。第３図のグラフは横軸に照射線量Ｒを、また
縦軸に光伝送損失量（dB／Km）をとつて示して
あり、グラフ中実線は本発明方法によるOH基含
有量50ppbの石英ガラスコアを有する光フアイバ
を1.3μm帯で使用した時の結果を、また破線は
OH基含有量300ppmの石英ガラスコアを有する
光フアイバを0.8μm帯で使用した場合の結果を示
している。このグラフから明らかなように、照射
線量が増大しても参照方法に比較して本発明方法
における光伝送損失量は格段に低減されているこ
とが解る。
る純粋石英光フアイバにて1.30μm帯の光情報を、
また参照方法として、OH基を300ppm含有する
純粋石英光フアイバにて0.8μm帯の光情報を伝送
させ、照射線量Ｒと光伝送損失量（dB／Km）と
の関係を調べた。結果は第３図に示すとおりであ
る。第３図のグラフは横軸に照射線量Ｒを、また
縦軸に光伝送損失量（dB／Km）をとつて示して
あり、グラフ中実線は本発明方法によるOH基含
有量50ppbの石英ガラスコアを有する光フアイバ
を1.3μm帯で使用した時の結果を、また破線は
OH基含有量300ppmの石英ガラスコアを有する
光フアイバを0.8μm帯で使用した場合の結果を示
している。このグラフから明らかなように、照射
線量が増大しても参照方法に比較して本発明方法
における光伝送損失量は格段に低減されているこ
とが解る。
なおこの耐放射線性はα，β，γ線に対しては
勿論、中性子線等に対しても同様の効果があるこ
とが確認されている。
勿論、中性子線等に対しても同様の効果があるこ
とが確認されている。
以上の如く本発明方法にあつてはOH基含有量
を1ppm以下としたコアを有する光フアイバにて
1.3μm帯の光情報を伝送することとしているか
ら、従来の如く0.8μm帯の光の伝送手段として用
いる場合に比較して光伝送損失量が格段に低減し
得て放射線場での使用によつてもその被曝による
影響を可及的に低減出来て正確な情報伝達を必要
とする場合において信頼性が高いなど本発明は優
れた効果を奏するものである。
を1ppm以下としたコアを有する光フアイバにて
1.3μm帯の光情報を伝送することとしているか
ら、従来の如く0.8μm帯の光の伝送手段として用
いる場合に比較して光伝送損失量が格段に低減し
得て放射線場での使用によつてもその被曝による
影響を可及的に低減出来て正確な情報伝達を必要
とする場合において信頼性が高いなど本発明は優
れた効果を奏するものである。
第１図は本発明方法に用いる光フアイバの模式
的断面図、第２図は放射線による光伝送損失量を
示すグラフ、第３図は本発明方法と参照方法との
比較試験結果を示すグラフである。 １……コア、２……クラツド層、３……サポー
ト層。
的断面図、第２図は放射線による光伝送損失量を
示すグラフ、第３図は本発明方法と参照方法との
比較試験結果を示すグラフである。 １……コア、２……クラツド層、３……サポー
ト層。
Claims (1)
- １ 高純度石英ガラスに1ppm以下のOH基を含
有させたコアを有する光フアイバを用い、波長
1.3μm帯の光にて情報を伝送することを特徴とす
る放射線場内における光情報伝送方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58104606A JPS59228602A (ja) | 1983-06-10 | 1983-06-10 | 放射線場内における光情報伝送方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58104606A JPS59228602A (ja) | 1983-06-10 | 1983-06-10 | 放射線場内における光情報伝送方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59228602A JPS59228602A (ja) | 1984-12-22 |
| JPH059763B2 true JPH059763B2 (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=14385075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58104606A Granted JPS59228602A (ja) | 1983-06-10 | 1983-06-10 | 放射線場内における光情報伝送方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59228602A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5989243A (en) * | 1984-12-07 | 1999-11-23 | Advanced Interventional Systems, Inc. | Excimer laser angioplasty system |
| US5470330A (en) * | 1984-12-07 | 1995-11-28 | Advanced Interventional Systems, Inc. | Guidance and delivery system for high-energy pulsed laser light |
| US4799754A (en) * | 1985-09-25 | 1989-01-24 | Advanced Interventional Systems, Inc. | Delivery system for high-energy pulsed ultraviolet laser light |
| JPS61251538A (ja) * | 1985-04-26 | 1986-11-08 | Chiyoe Yamanaka | 光フアイバ |
-
1983
- 1983-06-10 JP JP58104606A patent/JPS59228602A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59228602A (ja) | 1984-12-22 |
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