JPH0596086U - 経糸処理用リード部材 - Google Patents

経糸処理用リード部材

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JPH0596086U
JPH0596086U JP4486492U JP4486492U JPH0596086U JP H0596086 U JPH0596086 U JP H0596086U JP 4486492 U JP4486492 U JP 4486492U JP 4486492 U JP4486492 U JP 4486492U JP H0596086 U JPH0596086 U JP H0596086U
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JP
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warp
hard carbon
plating
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JP4486492U
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直井  孝一
貢 榎本
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Citizen Watch Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】本考案は、製作上の制約がなく、耐食性、密着
性、耐摩耗性に優れた経糸処理用リード部材を提供す
る。 【構成】この経糸処理用リード部材8は、基体11上に、
直接または中間層12を介して、硬質カーボン被膜層13を
設けてなるものである。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は経糸処理用リード部材、とくには各種織物の製造に際し、経糸を整経 、糊付け、製織の各工程で処理するときに用いられるリードにおいて、これを構 成する部材の耐摩耗性を向上させたリード部材に関する。
【0002】
【従来の技術】
経糸処理用のリードは糊付けされた経糸と接触するため摩耗がひどく、その対 策として、基体にクロムメッキを施すなどで対応してきたが、耐食性、密着性、 耐摩耗性の点で満足できるものではなかった。 このため、全体をセラミックス製にしたものも提案されているが、細かい細工 ができないという製作上の制約があった。 また、基体に直接硬質カーボン被膜層を形成する方法は密着信頼性が低く、ま た溶射による被膜形成法は基体が軟化するおそれがあるなど、いずれも実用に程 遠い状態にあった。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】
したがって、本考案の目的は、製作上の制約がなく、耐食性、密着性、耐摩耗 性に優れた経糸処理用リード部材を提供しようとするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本考案による経糸処理用リード部材は、基体上に、直接または中間層を介し て、硬質カーボン被膜層を設けたことを特徴とするものであり、また、この中間 層として、Ni−Pメッキによる被膜層上にPVD法によるTiおよびSi被膜 層を設けたものとしたことを好適とするものである。
【0005】 以下、本考案の経糸処理用リード部材を例示した図面に基づいて説明する。 図1は本考案のリード部材の適用状態を、糊付け機における使用状況を例とし て示すものである。また、図2は図1におけるリードの斜視図である。 図1および図2において、整形ビームから引き出された経糸シート1は糊液槽 2に導かれ、イマージョンロール3によってアクリル系およびPVA系樹脂を主 体とする糊液4に浸され、サイジングロール5およびスクイージングロール6に よって絞られた後、リード7のリード片(リード部材)8‥間を通ってさばかれ て、整列した状態で乾燥室9に送られて乾燥される。
【0006】 図3および図4はそれぞれ異なる態様のリード部材の断面構造を拡大して示す もので、11は基体、12は中間層、13は硬質カーボン被膜層である。 ここで、基体11としてはステンレス鋼材料、鉄鋼材料、超硬材料、その他非 鉄金属材料等が用いられる。中間層12にはNi−Pメッキによる厚さ1〜10 μmの被膜層 121上に(あるいは時効処理を施した後)PVD法(スパッタ リングまたはイオンプレーティングなどの物理的蒸着法)による厚さ0.05〜 0.3μmのTi被膜層 122および厚さ0.05〜1.0μmのSi被膜層 123を施したものが密着信頼性の向上のために好適である。また、硬質カー ボン被膜層13はプラズマーCVD(化学的蒸着法)により厚さ0.1〜3.0 μmの膜を施す。 なお、基体11としてステンレス鋼を用いたときは上記中間層12、とくにN i−Pメッキによる被膜層121を施す必要はない。
【0007】
【実施例】
以下、本考案に係る経糸処理用リード部材を、図4に示した実施態様に基づい て説明する。 図4における基体11上に、下記の液組成と条件の湿式メッキによって厚さ2 〜5μmのNi−Pメッキによる被膜層121を形成した。 [メッキ液組成] ・硫酸ニッケル 20g/l ・次亜リン酸ナトリウム 25 〃 ・乳酸 25 〃 ・プロピオン酸 3 〃 [メッキ条件] ・pH 4〜5 ・温度 90℃
【0008】 次に、このNi−Pメッキによる被膜層 121上にPVD法により厚さ0. 01μmのTi被膜層 122と厚さ 0.5μmのSi被膜層 123とを順 次形成した。 その後、このSi被膜層 123上に、プラズマ−CVD法により下記の条件 で厚さ2μmの硬質カーボン被膜層13を形成した。 [硬質カーボン被膜層形成条件] ・ガス種 メタンガス ・成膜圧力 0.1Torr ・高周波電力 300W ・成膜速度 0.12μm/分 このようにしてビッカース硬度が3,000〜5,000(Hv)の硬質カー ボン被膜層13を持つ経糸処理用リード部材が得られた。
【0009】 この経糸処理用リード部材と通常のクロムメッキ被膜のリード部材とを、下記 の条件で糸摩耗試験により比較した。 [糸摩耗試験条件] ・糸の種類 ポリエステル ・テンション 40gf ・ワーク回転数 1,000rpm 通常のクロムメッキ被膜のリード部材では10時間の試験で糸溝が発生したが 、本考案の硬質カーボン被膜層を設けたリード部材では、50時間後でも全く異 状が認められなかった。このように本考案品は通常のクロムメッキ被膜を設けた ものよりも5倍以上の耐久性を持つことが判った。
【0010】
【考案の効果】
本考案の経糸処理用リード部材によれば、製作上の制約がなく、従来品に比べ て耐食性、密着性および耐摩耗性を向上することができるので、摩耗による経糸 処理用リードの交換頻度が少なくなり、糊付け機を始めとする経糸処理のための 織機や整経機などの高速化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案に係る経糸処理用リード部材の一実施態
様を示す説明図である。
【図2】図2におけるリードの詳細を示す斜視図であ
る。
【図3】本考案に係る経糸処理用リード部材の第1の態
様の詳細を示す断面図である。
【図4】本考案に係る経糸処理用リード部材の別の態様
の詳細を示す断面図である。
【符号の説明】
8…リード部材、 11…基体、 12…中間層、 13…硬
質カーボン被膜層、121…Ni−Pメッキによる被膜
層、 122…Ti被膜層、 123…Si被膜層。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】基体上に、直接または中間層を介して、硬
    質カーボン被膜層を設けたことを特徴とする経糸処理用
    リード部材。
  2. 【請求項2】中間層が、Ni−Pメッキによる被膜層上
    にPVD法によるTiおよびSi被膜層を設けたもので
    ある請求項1記載の経糸処理用リード部材。
JP1992044864U 1992-06-04 1992-06-04 経糸処理用リード部材 Expired - Lifetime JP2593707Y2 (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01149968A (ja) * 1987-12-07 1989-06-13 Toshiba Corp 繊維摺動部材の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH01149968A (ja) * 1987-12-07 1989-06-13 Toshiba Corp 繊維摺動部材の製造方法

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