JPH0594943A - 半導体ウエーハチヤツク - Google Patents

半導体ウエーハチヤツク

Info

Publication number
JPH0594943A
JPH0594943A JP9461291A JP9461291A JPH0594943A JP H0594943 A JPH0594943 A JP H0594943A JP 9461291 A JP9461291 A JP 9461291A JP 9461291 A JP9461291 A JP 9461291A JP H0594943 A JPH0594943 A JP H0594943A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
semiconductor wafer
vacuum
wafer chuck
chuck
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9461291A
Other languages
English (en)
Inventor
Minoru Kashihara
稔 樫原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP9461291A priority Critical patent/JPH0594943A/ja
Publication of JPH0594943A publication Critical patent/JPH0594943A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】異物を付着させることなく所定のそり量以内で
種々の口径のウェーハを吸着保持する。 【構成】ウェーハ5を載置する面を蜂の巣状に明けられ
た喇叭状穴6を有する蜂の巣状部材1を設け、ウェーハ
5の口径に応じて、喇叭状穴6の空間部の真空度を変え
て吸着し、ウェーハの口径が変ってもそりを一定以内に
しウェーハ5を保持する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェーハを真空
吸着により保持し、回転させる半導体ウェアチャックに
関し、特に半導体ウェーハ面にフォトレジストを塗布し
たりするレジスト塗布装置における半導体ウェーハチャ
ックに関する。
【0002】
【従来の技術】図2(a)及び(b)は従来の一例を示
す半導体ウェーハチャックの上面図及び断面図である。
従来、この種の半導体ウェーハチャックは、例えば図2
に示すように、外縁部3が円形であるとともに裏面に排
気孔2aを有する回転軸2が取付けられる支持板1aを
有している。また外縁部3の内側には、ウェーハ5を支
持する支柱4が支持板1aの底部より突出しており、そ
の先端部は外縁部の高さとは同一である。
【0003】このような半導体ウェーハチャックを使用
して、ウェーハ5を保持して回転させる場合は、まず外
縁部3と支柱4とでなす面にウェーハを載置する。次
に、図示されていない真空排気装置を動作させ、排気孔
2aより支柱4,外縁部3及びウェーハ5の裏面からな
る空間部の空気を排気し、数Torrの真空にすること
によって、ウェーハ5を支持板1aに固定保持する。ま
たウェーハ5を支持板1aより取外す場合は、真空排気
装置側より真空を導入して、空間部を大気圧に戻し、取
外していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
ウェーハチャックでは、ウェーハを吸着保持するときに
ウェーハのそりを規定値より大きくなるのを防止するた
めに、多数の支柱でウェーハを一様に支える構造になっ
ているため、支柱の先端部とウェーハと接触する面積が
多く、異物がウェーハに付着する機会が多く、しばしば
後工程に異物付着によるウェーハ処理不良をもたらすと
いう問題がある。また、ウェーハの大きさが変ると、そ
れに応じた支持板を用意しなければならないという欠点
もある。
【0005】本発明の目的は、かかる問題を解消すべ
く、異物を付着させることなく所定のそり量以内で種々
の口径のウェーハを吸着保持する半導体ウェーハチャッ
クを提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体ウェーハ
チャックは、半導体ウェーハの載置面にこの載置側に拡
げられる喇叭状の穴が明けられる蜂の巣状部材と、前記
半導体ウェーハ面と前記穴とで形成される空間を真空排
気し、その真空度を可変出来ることを特徴としている。
【0007】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。図1(a)及び(b)は本発明の一実施例を示す半
導体ウェーハチャックの上面図及びAA断面図である。
この半導体ウェーハチャックは、図1に示すように、ウ
ェーハ5の載置面側に拡がりをもつ喇叭状穴7が複数個
明けられた蜂の巣状部材1としたことである。そして、
図面には示していないが、回転軸2の排気孔2aと通ず
る真空排気装置を接続している。
【0008】また、この喇叭状穴7との間のウェーハ5
との接触面は極力狭くしてある。一方、真空排気装置
は、通常市販されている回転真空ポンプとバリアブルリ
ーク弁とを組合せたもので、到達真空度を0.1Tor
rから600Torr程度まで調整出来るようになって
いる。この真空排気能力を調整することは、ウェーハの
直径が変るごとに、その板厚も変化するので、板圧に応
じて真空度を変えることで、吸着圧力を変化させ、ウェ
ーハ5のそりを一定にすることである。
【0009】この半導体ウェーハチャックの動作は、従
来と変りはないが、ウェハーの外径すなわち、その板厚
によって、バリアブルリーク弁を調整して、ウェーハ5
の吸着保持の圧力を変えることである。例えば、8イン
チのような大口径ウェーハであれば、真空度を0.1T
orr程度とし、5インチのような小口径ウェーハであ
れば、400Torr程度で十分吸着保持力が得られ
る。
【0010】このように、ウェーハ5と接触する部分を
蜂の巣状に明けられた面とすることで、従来の接触面よ
りはるかに少くすることが出来、かつ、十分な保持力を
もたせることが出来た。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ウェーハ
の載置面を蜂の巣状とし、吸着保持力を得るために穴を
喇叭状とし、吸着保持力を可変することによって、異物
を付着させることなく所定のそり量以内で種々の口径の
ウェーハを吸着保持できる半導体ウェーハチャックが得
られるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す半導体ウェーハチャッ
クの(a)は上面図、(b)はAA断面図である。
【図2】従来の一例を示す半導体ウェーハチャックの
(a)は上面図、(b)は断面図である。
【符号の説明】
1 蜂の巣状部材 1a 支持板 2 回転軸 2a 排気孔 3 外線部 4 支柱 5 ウェーハ 6 喇叭状穴
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/68 P 8418−4M

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウェーハの載置面にこの載置側に
    拡げられる喇叭状の穴が明けられる蜂の巣状部材と、前
    記半導体ウェーハ面と前記穴とで形成される空間を真空
    排気し、その真空度を可変出来ることを特徴とする半導
    体ウェーハチャック。
JP9461291A 1991-04-25 1991-04-25 半導体ウエーハチヤツク Pending JPH0594943A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9461291A JPH0594943A (ja) 1991-04-25 1991-04-25 半導体ウエーハチヤツク

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9461291A JPH0594943A (ja) 1991-04-25 1991-04-25 半導体ウエーハチヤツク

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0594943A true JPH0594943A (ja) 1993-04-16

Family

ID=14115073

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9461291A Pending JPH0594943A (ja) 1991-04-25 1991-04-25 半導体ウエーハチヤツク

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0594943A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5588203A (en) * 1995-02-28 1996-12-31 Matsushita Communication Industrial Corporation Of America Nozzle for a vacuum mounting head
CN114243413A (zh) * 2021-12-10 2022-03-25 中国电子科技集团公司第三十八研究所 一种用于smp连接器的自动化去金搪锡工装

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5588203A (en) * 1995-02-28 1996-12-31 Matsushita Communication Industrial Corporation Of America Nozzle for a vacuum mounting head
CN114243413A (zh) * 2021-12-10 2022-03-25 中国电子科技集团公司第三十八研究所 一种用于smp连接器的自动化去金搪锡工装
CN114243413B (zh) * 2021-12-10 2023-10-20 中国电子科技集团公司第三十八研究所 一种用于smp连接器的自动化去金搪锡工装

Similar Documents

Publication Publication Date Title
USRE31053E (en) Apparatus and method for holding and planarizing thin workpieces
JPH08195428A (ja) 真空吸着装置
KR19990023901A (ko) 기판처리장치, 기판지지장치, 기판처리방법 및 기판제조방법
JPH08279549A (ja) 真空吸着装置
JPH10135316A (ja) 薄板状基板の真空吸着方法及びその真空吸着テーブル装置
JPH07136885A (ja) 真空チャック
JP3121886B2 (ja) 真空吸着装置
JPH06204324A (ja) ウエハチャック
JPH06326174A (ja) ウェハ真空吸着装置
JPH0594943A (ja) 半導体ウエーハチヤツク
US6729947B1 (en) Semiconductor wafer handler
JPH08330401A (ja) ウエハチャック
JPH06132387A (ja) 真空吸着ステージ
JPH05160102A (ja) スピンナ及びそれを用いた半導体装置の製造方法
JPH10218364A (ja) ウエハ保持用ステージ
JPH0516088A (ja) 吸着保持具
JP2004322218A (ja) 真空吸着装置
JP3164629B2 (ja) 半導体ウエハ用真空チャックステージ
JPH11260895A (ja) 半導体用ウエハの支持装置
JP4649066B2 (ja) 真空チャック
JPH0253558A (ja) 吸着治具
KR100462565B1 (ko) 반도체 제조설비의 진공 척
KR200205142Y1 (ko) 반도체웨이퍼홀딩용척
US20080051018A1 (en) Semiconductor Wafer Handler
JP2001053428A (ja) ボール吸着ヘッド