JPH0586020A - α，β−ジヒドロキシ−γ，δ−不飽和カルボン酸チオールエステル誘導体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】光学活性な６−デオキシタロース、４−Ｃ−メ
チルリボース、リボースなどの単糖の合成に有用な新規
な中間体およびその製造方法を提供する。 【構成】α，β−不飽和アルデヒドとケテンモノチオア
セタールとを光学活性ジアミンおよびスズ化合物の存在
下に反応させることにより、一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ はそれぞれ水素原子また
は低級アルキル基を表し、Ｒ⁴ はアリールメチル基を表
し、Ｒ⁵ は低級アルキル基を表す。）で表されるα，β
−ジヒドロキシ−γ，δ−不飽和カルボン酸チオールエ
ステル誘導体を得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規なα，β−ジヒドロ
キシ−γ，δ−不飽和カルボン酸チオールエステル誘導
体に関する。本発明のα，β−ジヒドロキシ−γ，δ−
不飽和カルボン酸チオールエステル誘導体は、各種糖類
の合成中間体として有用である。

【０００２】

【従来の技術】近年、糖化学の進歩に伴い、各種グリコ
シドが生理作用発現に重要な役割を果たしていることが
明らかとなってきている。しかしながら、これらの構成
成分である単糖のなかには入手困難なものも少なくな
く、それらの効率的な合成法の開発が強く望まれてき
た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来、これら単糖の合
成法として光学活性な２，３−Ｏ−イソプロピリデン−
グリセルアルデヒド、４−Ｏ−ベンジル−２，３−Ｏ−
イソプロピリデン−Ｌ−トレオースなどを原料とする方
法などが報告されているが、これらは光学活性な天然物
を原料とするものであり、より汎用性のある合成中間
体、合成方法の開発が待望されている。

【０００４】しかして、本発明の目的は、各種単糖の合
成に有用な新規な化合物であるα，β−ジヒドロキシ−
γ，δ−不飽和カルボン酸チオールエステル誘導体を提
供することにある。

【０００５】本発明の他の目的は当該α，β−ジヒドロ
キシ−γ，δ−不飽和カルボン酸チオールエステル誘導
体の製造方法を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、一般式（１）

【化５】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ はそれぞれ水素原子また
は低級アルキル基を表し、Ｒ⁴ はアリールメチル基を表
し、Ｒ⁵ は低級アルキル基を表す。）で示されるα，β
−ジヒドロキシ−γ，δ−不飽和カルボン酸チオールエ
ステル誘導体（以下、これらの化合物をチオールエステ
ル誘導体Ｉと称する）を提供することによって達成され
る。

【０００７】また、一般式（２）

【化６】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ はそれぞれ水素原子また
は低級アルキル基を表す。）で示されるα，β−不飽和
アルデヒド（以下、これらの化合物をアルデヒドIIと称
する）と一般式（３）

【化７】 （式中、Ｒ⁴ はアリールメチル基を表し、Ｒ⁵ は低級ア
ルキル基を表し、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ およびＲ⁸ はそれぞれ低級
アルキル基またはアリール基を表す。）で示されるケテ
ンモノチオアセタール（以下、モノチオアセタールIII
と称する) とを光学活性ジアミンおよびスズ化合物の存
在下に反応させることを特徴とするチオールエステル誘
導体I の製造方法を提供することによって達成される。

【０００８】ここで、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、
Ｒ⁷ およびＲ⁸ が表す低級アルキル基としては、直鎖状
または分岐状のいずれでもよく、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル
基、ｔ−ブチル基、ペンチル基などの炭素数１〜６のも
のが挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、イソプ
ロピル基、ｔ−ブチル基である。Ｒ⁴ が表すアリールメ
チル基としては、例えばベンジル基、ｐ−メトキシベン
ジル基、ｐ−クロルベンジル基などが挙げられ、好まし
くはベンジル基である。Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ およびＲ⁸ が表すア
リール基としてはフェニル基などが挙げられる。

【０００９】アルデヒドIIとモノチオアセタールIII と
の反応に用いられる光学活性ジアミンとしては、１−メ
チル−２−（（ピペリジン−１−イル）メチル）ピロリ
ジン、１−メチル−２−（（ピロリジン−１−イル）メ
チル）ピロリジンなど置換基を有するアミノメチルピロ
リジン誘導体が好ましく、またスズ化合物としてはジブ
チルスズジアセテートなどの四価のスズ化合物、スズト
リフラートなどの二価のスズ化合物が挙げられる。

【００１０】アルデヒドIIとモノチオアセタールIII と
の反応は、不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましく、ア
ルデヒドIIに対し通常約０．５〜２モル当量、好ましく
は０．８〜１．５モル当量の光学活性ジアミンと該ジア
ミンに対して通常約０．８〜１．０モル当量、好ましく
は０．９〜１．０モル当量のスズ化合物の存在下に実施
される。モノチオアセタールIII はアルデヒドIIに対し
通常約０．８〜１．５モル当量、好ましくは０．９〜
１．３モル当量が使用される。反応は塩化メチレン、ク
ロロホルム等の不活性溶媒中、−８０〜３０℃の範囲の
温度で、行うのが好ましい。

【００１１】このようにして得られたチオールエステル
誘導体Ｉの反応混合物からの単離・精製は、通常の有機
化合物の単離・精製において用いられる方法と同様にし
て行われる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチ
ルエーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸、重曹
水、食塩水で順次洗浄し、乾燥後、濃縮して粗生成物を
得、必要に応じて再結晶、クロマトグラフィなどにより
精製することにより、チオールエステル誘導体Ｉを得る
ことができる。

【００１２】本発明のチオールエステル誘導体Ｉは、そ
の二重結合部分を例えば触媒量の四酸化オスミウムの存
在下、Ｎ−メチルモルホリンオキシドなどの酸化剤で酸
化してジヒドロキシル化したのち、ラクトン化し、さら
にラクトン部分を水素化ジイソブチルアルミニウムなど
で還元してラクトールとし、次いで保護基を除去するこ
とにより、光学活性な６−デオキシタロース、４−Ｃ−
メチルリボース、リボースなどに変換することができ
る。

【００１３】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例により限定されるもので
はない。

【００１４】実施例１ スズ（II) トリフレート１２５０ｍｇと（Ｓ）−１−メ
チル−２−（（ピペリジン−１−イル）メチル）ピロリ
ジン６５７ｍｇとを塩化メチレン２０ｍｌに溶解し、得
られた溶液にジブチルスズジアセテート１１６０ｍｇを
室温で加えた。得られた混合液を３０分間撹拌し、−７
８℃に冷却したのち、混合液にＳ−エチル−２−ベンジ
ルオキシエタンチオレートのシリルエノールエーテル９
７３ｍｇの塩化メチレン溶液（５ｍｌ）とクロトンアル
デヒド１８９ｍｇの塩化メチレン溶液（５ｍｌ）とを滴
下した。次いで、得られた反応液を同温度にて２０時間
撹拌したのち、重曹水で処理した。得られた反応液をジ
エチルエーテルで抽出し、抽出液を水洗し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥したのち、濾過を行い、これより減圧下
に溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有
するＳ−エチル−２−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシ
−４−ヘキセンチオエートを６４３ｍｇ得た（収率８５
％）（アンチ／シン＞９８／２、アンチ型＞９７％ｅ
ｅ）。 ¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＣｌ₄ ，ＴＭＳ）：１．２
５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．７０（ｄ，３Ｈ，Ｊ
＝５Ｈｚ），２．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ），２．
８５（ｑ，２Ｈ，７Ｈｚ），３．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
５Ｈｚ），４．０５〜４．４５（ｍ，１Ｈ），４．４５
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１Ｈｚ），４．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ
＝１１Ｈｚ），５．１５〜６．００（ｍ，２Ｈ），７．
３０（ｍ，５Ｈ） 旋光度：［α］_D ^29.4＋７３．１°（ｃ＝１．０７，ベ
ンゼン）

【００１５】実施例２ スズ（II) トリフレート９００ｍｇと（Ｓ）−１−メチ
ル−２−（（ピペリジン−１−イル）メチル）ピロリジ
ン４７５ｍｇとを塩化メチレン２０ｍｌに溶解し、得ら
れた溶液にジブチルスズジアセテート８３９ｍｇを室温
で加えた。得られた混合液を３０分間撹拌し、−７８℃
に冷却したのち、混合液にＳ−エチル−２−ベンジルオ
キシエタンチオレートのシリルエノールエーテル７００
ｍｇの塩化メチレン溶液（５ｍｌ）とメタアクロレイン
１４８ｍｇの塩化メチレン溶液（５ｍｌ）とを滴下し
た。次いで、得られた反応液を同温度にて２０時間撹拌
したのち、重曹水で処理した。得られた反応液をジエチ
ルエーテルで抽出し、抽出液を水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥したのち、濾過を行い、これより減圧下に溶
媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィで精製することにより、下記の物性を有する
Ｓ−エチル−２−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシ−４
−メチル−４−ペンテンチオエートを３２８ｍｇ得た
（収率７１％）（アンチ／シン＝９１／９、アンチ型＞
９６％ｅｅ）。 ¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＣｌ₄ ，ＴＭＳ）：１．２
５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．７０（ｓ，３Ｈ），
２．８５（ｓ，１Ｈ） ，２．８５（ｑ，２Ｈ，７Ｈ
ｚ），４．６０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．９０
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．３０（ｓ，５Ｈ） 旋光度：［α］_D ^29.2＋７１．２°（ｃ＝１．０７，ベ
ンゼン）

【００１６】実施例３ スズ（II) トリフレート９６０ｍｇと（Ｓ）−１−メチ
ル−２−（（ピペリジン−１−イル）メチル）ピロリジ
ン９００ｍｇとを塩化メチレン２０ｍｌに溶解し、得ら
れた溶液にジブチルスズジアセテート８８９ｍｇを室温
で加えた。得られた混合液を３０分間撹拌し、−７８℃
に冷却したのち、混合液にＳ−エチル−２−ベンジルオ
キシエタンチオレートのシリルエノールエーテル６５５
ｍｇの塩化メチレン溶液（５ｍｌ）とアクロレイン９３
ｍｇの塩化メチレン溶液（５ｍｌ）とを滴下した。次い
で、得られた反応液を同温度にて２０時間撹拌したの
ち、重曹水で処理した。得られた反応液をジエチルエー
テルで抽出し、抽出液を水洗し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥したのち、濾過を行い、これより減圧下に溶媒を留
去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィで精製することにより、下記の物性を有するＳ−エ
チル−２−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシ−４−ペン
テンチオエートを２９５ｍｇ得た（収率６７％）（アン
チ／シン＞９８／２、アンチ型＞９７％ｅｅ）。 ¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＣｌ₄ ，ＴＭＳ）：１．２
５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．４５（ｓ，１Ｈ），
２．８５（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．８５（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．２５（ｍ，１Ｈ），４．３０〜
４．９０（ｍ，２Ｈ），５．００〜６．２０（ｍ，３
Ｈ），７．２５（ｓ，５Ｈ） 旋光度：［α］_D ^27.0＋８６．３°（ｃ＝１．４４，ベ
ンゼン）

【００１７】参考例１ （１）（２Ｒ，３Ｒ）−Ｓ−エチル−２−ベンジルオキ
シ−３−ヒドロキシ−４−ヘキセンチオエート２０５ｍ
ｇをアセトン４ｍｌに溶解し、得られた溶液に水０．５
ｍｌを加えたのち、Ｎ−メチルモルホリンオキシド２８
７ｍｇ（１２０ｍｏｌ％）および酸化オスミウム１９ｍ
ｇ（５ｍｏｌ％）を室温にて加えた。反応混合液を６時
間撹拌したのち、クロロホルムで希釈し、希釈液に硫化
水素を吹き込んだ。得られた反応液を濾過し、濃縮した
のち、シリカゲル薄層クロマトグラフィにより精製し
て、下記の物性を有する（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−
２−ベンジルオキシ−３，４−ジヒドロキシ−δ−カプ
ロラクトン９６ｍｇと（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−２
−ベンジルオキシ−３，５−ジヒドロキシ−γ−カプロ
ラクトン３８ｍｇを得た（収率７２％）。 ¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（（ＣＤ₃ ）₂ ＣＯ，ＴＭ
Ｓ）：１．３０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．３５〜
３．３０（ｍ，３Ｈ），３．７０〜４．２０（ｍ，１
Ｈ），４．２０〜４．６０（ｍ，２Ｈ），４．６０〜
５．１５（ｍ，２Ｈ），７．４０（ｓ，５Ｈ）および
１．２５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ），２．２０〜３．３
５（ｍ，３Ｈ），３．６０〜４．５０（ｍ，３Ｈ），
４．６５〜５．２０（ｍ，２Ｈ），７．４０（ｓ，５
Ｈ）

【００１８】（２）上記の方法により得られた（２Ｒ，
３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ベンジルオキシ−３，４−ジ
ヒドロキシ−δ−カプロラクトン４８ｍｇを塩化メチレ
ン４ｍｌに溶解し、得られた溶液に水素化ジイソブチル
アルミニウムのヘキサン溶液（１．０ｗ／ｖ％）１ｍｌ
を−７８℃にて滴下した。次いで、得られた反応液をリ
ン酸緩衝液（ｐＨ＝７）０．７ｍｌで処理し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥したのち、減圧下に濃縮し、濃縮物を
シリカゲル薄層クロマトグラフィで精製し、次いでエタ
ノール５ｍｌに溶解した。得られた溶液に５％パラジウ
ム−炭素１０ｍｇを加えて水素雰囲気下で撹拌した。得
られた反応液を濾過したのち、濃縮することにより、下
記の物性を有する６−デオキシ−Ｌ−タロースを２２ｍ
ｇ得た（収率７１％）。 ¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（（ＣＤ₃ ）₂ ＣＯ，ＴＭ
Ｓ）：１．１０〜１．５０（ｍ，３Ｈ），３．２０〜
４．４０（ｍ，５Ｈ），４．５０〜５．３５（ｍ，４
Ｈ） 旋光度：［α］_D ^28.0−２１．４°（ｃ＝０．８５，Ｈ
₂₀）

【００１９】参考例２ （１）（２Ｒ，３Ｒ）−Ｓ−エチル−２−ベンジルオキ
シ−３−ヒドロキシ−４−メチル−４−ペンテンチオエ
ート１２５ｍｇをアセトン４ｍｌに溶解し、得られた溶
液に水０．５ｍｌを加えたのち、Ｎ−メチルモルホリン
オキシド１９４ｍｇ（１２０ｍｏｌ％）および酸化オス
ミウム１１ｍｇ（５ｍｏｌ％）を室温にて加えた。反応
混合液を６時間撹拌したのち、クロロホルムで希釈し、
希釈液に硫化水素を吹き込んだ。得られた反応液を濾過
し、濃縮したのち、シリカゲル薄層クロマトグラフィに
より精製して、下記の物性を有する（２Ｒ，３Ｒ，４
Ｒ）−２−ベンジルオキシ−３，５−ジヒドロキシ−４
−メチル−γ−バレロラクトン７７ｍｇと（２Ｒ，３
Ｒ，４Ｓ）−２−ベンジルオキシ−３，５−ジヒドロキ
シ−γ−バレロラクトン１２ｍｇを得た（収率７９
％）。 ¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ，ＴＭＳ）：１．
３０（ｓ，３Ｈ），３．０５（ｓ，１Ｈ），３．２０〜
３．７５（ｍ，３Ｈ），４．１５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ），４．６０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ），４．５０〜
５．１０（ｍ，２Ｈ），７．３０（ｓ，５Ｈ）および ¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（（ＣＤ₃ ）₂ ＣＯ，ＴＭ
Ｓ）：１．３５（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｓ，２Ｈ），
３．７５（ｓ，２Ｈ），４．３０（ｓ，１Ｈ），４．５
５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ），４．８０（ｓ，２Ｈ），
７．３０（ｓ，５Ｈ）

【００２０】（２）上記の方法により得られた（２Ｒ，
３Ｒ，４Ｒ）−２−ベンジルオキシ−３，５−ジヒドロ
キシ−４−メチル−γ−バレロラクトン５７ｍｇを塩化
メチレン４ｍｌに溶解し、得られた溶液に水素化ジイソ
ブチルアルミニウムのヘキサン溶液（１．０ｗ／ｖ％）
１ｍｌを−７８℃にて滴下した。次いで、得られた反応
液をリン酸緩衝液（ｐＨ＝７）０．７ｍｌで処理し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥したのち、減圧下に濃縮し、濃
縮物をシリカゲル薄層クロマトグラフィで精製し、次い
でエタノール５ｍｌに溶解した。得られた溶液に５％パ
ラジウム−炭素１０ｍｇを加えて水素雰囲気下で撹拌し
た。得られた反応液を濾過したのち、濃縮することによ
り、下記の物性を有する４−Ｃ−メチル−Ｄ−リボース
を２３ｍｇ得た（収率６３％）。 ¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤ₃ ＯＤ，ＴＭＳ）：１．
１５（ｓ，３Ｈ），３．２５〜３．８０（ｍ，４Ｈ），
４．６５〜５．１０（ｍ，５Ｈ） 旋光度：［α］_D ^27.0−３０．８°（ｃ＝１．５２，Ｃ
Ｈ₃ ＯＨ）

【００２１】参考例３ （１）（２Ｒ，３Ｒ）−Ｓ−エチル−２−ベンジルオキ
シ−３−ヒドロキシ−４−ペンテンチオエート２９５ｍ
ｇをアセトン４ｍｌに溶解し、得られた溶液に水０．５
ｍｌを加えたのち、Ｎ−メチルモルホリンオキシド４４
６ｍｇ（１２０ｍｏｌ％）および酸化オスミウム２３ｍ
ｇ（５ｍｏｌ％）を室温にて加えた。反応混合液を６時
間撹拌したのち、クロロホルムで希釈し、希釈液に硫化
水素を吹き込んだ。得られた反応液を濾過し、濃縮した
のち、シリカゲル薄層クロマトグラフィにより精製し
て、下記の物性を有する（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−ベ
ンジルオキシ−３，４−ジヒドロキシ−δ−バレロラク
トン１４３ｍｇと（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−２−ベンジル
オキシ−３，５−ジヒドロキシ−γ−バレロラクトン５
５ｍｇを得た（収率７５％）。 ¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤ₃ ）₂ ＣＯ，ＴＭＳ）：
２．８０（ｓ，１Ｈ），３．８５（ｍ，３Ｈ），４．４
５（ｍ，２Ｈ），４．８５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝３Ｈｚ），
７．３５（ｓ，５Ｈ）および３．００〜３．４５（ｍ，
３Ｈ），３．６０〜４．０５（ｍ，２Ｈ），４．０５〜
４．５５（ｍ，２Ｈ），４．８５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２Ｈ
ｚ），７．３５（ｓ，５Ｈ）

【００２２】（２）上記の方法により得られた（２Ｒ，
３Ｒ，４Ｒ）−２−ベンジルオキシ−３，４−ジヒドロ
キシ−δ−バレロラクトン１１１ｍｇを塩化メチレン４
ｍｌに溶解し、得られた溶液に水素化ジイソブチルアル
ミニウムのヘキサン溶液（１．０ｗ／ｖ％）２ｍｌを−
７８℃にて滴下した。次いで、得られた反応液をリン酸
緩衝液（ｐＨ＝７）１．５ｍｌで処理し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥したのち、減圧下に濃縮し、濃縮液をシリ
カゲル薄層クロマトグラフィで精製し、次いでエタノー
ル５ｍｌに溶解した。得られた溶液に５％パラジウム−
炭素１０ｍｇを加えて水素雰囲気下で撹拌した。得られ
た反応液を濾過したのち、濃縮することにより、下記の
物性を有するＤ−リボースを３８ｍｇ得た（収率５５
％）。 ¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤ₃ ＯＤ，ＴＭＳ）：３．
２０〜４．３５（ｍ，３Ｈ），３．８０（ｓ，２Ｈ），
４．３５〜５．５０（ｍ，４Ｈ） 旋光度：［α］_D ^31.6−１８．６°（ｃ＝０．７０４，
Ｈ₂ Ｏ）

【００２３】

【発明の効果】本発明によれば、上記の実施例、参考例
から明らかなとおり、光学活性な各種単糖類の合成に有
用な中間体およびその製造方法が提供される。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ はそれぞれ水素原子また
   は低級アルキル基を表し、Ｒ⁴ はアリールメチル基を表
   し、Ｒ⁵ は低級アルキル基を表す。）で示されるα，β
   −ジヒドロキシ−γ，δ−不飽和カルボン酸チオールエ
   ステル誘導体。
2. 【請求項２】 一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ はそれぞれ水素原子また
   は低級アルキル基を表す。）で示されるα，β−不飽和
   アルデヒドと一般式（３） 【化３】 （式中、Ｒ⁴ はアリールメチル基を表し、Ｒ⁵ は低級ア
   ルキル基を表し、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ およびＲ⁸ はそれぞれ低級
   アルキル基またはアリール基を表す。）で示されるケテ
   ンモノチオアセタールとを光学活性ジアミンおよびスズ
   化合物の存在下に反応させることを特徴とする一般式
   （１） 【化４】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ はそれぞれ水素原子また
   は低級アルキル基を表し、Ｒ⁴ はアリールメチル基を表
   し、Ｒ⁵ は低級アルキル基を表す。）で示されるα，β
   −ジヒドロキシ−γ，δ−不飽和カルボン酸チオールエ
   ステル誘導体の製造方法。