JPH0585728A - チタン酸バリウム薄膜の形成方法 - Google Patents
チタン酸バリウム薄膜の形成方法Info
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- JPH0585728A JPH0585728A JP27735991A JP27735991A JPH0585728A JP H0585728 A JPH0585728 A JP H0585728A JP 27735991 A JP27735991 A JP 27735991A JP 27735991 A JP27735991 A JP 27735991A JP H0585728 A JPH0585728 A JP H0585728A
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- barium titanate
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 複雑で大掛かりな設備や、厳しい成膜条件を
必要とすることなく、無機材料、金属材料などの種々の
材料からなる基材の表面にチタン酸バリウム薄膜を形成
する。 【構成】 基材２と、少なくともＢａＯ，Ｂ2Ｏ3を含有
するガラス１とを所定の間隔をおいて対向させ、六フッ
化チタン酸イオン（ＴｉＦ6 2-）を含有する水溶液３に
浸漬することにより、ガラス１からその構成成分を溶出
させ、基材２の表面にＢａＴｉＯＦ4の薄膜を形成させ
た後、基材２の表面をアルカリ水溶液で処理する。
必要とすることなく、無機材料、金属材料などの種々の
材料からなる基材の表面にチタン酸バリウム薄膜を形成
する。 【構成】 基材２と、少なくともＢａＯ，Ｂ2Ｏ3を含有
するガラス１とを所定の間隔をおいて対向させ、六フッ
化チタン酸イオン（ＴｉＦ6 2-）を含有する水溶液３に
浸漬することにより、ガラス１からその構成成分を溶出
させ、基材２の表面にＢａＴｉＯＦ4の薄膜を形成させ
た後、基材２の表面をアルカリ水溶液で処理する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、複雑な工程によるこ
となく、基材上にチタン酸バリウム薄膜を簡便に形成す
る方法に関する。
となく、基材上にチタン酸バリウム薄膜を簡便に形成す
る方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ3）は、
強誘電体材料、圧電体材料、焦電体材料として優れた性
質を有し、超音波センサ、コンデンサ、アクチュエー
タ、焦電型赤外線センサ、不揮発性メモリーなどの種々
のデバイスに幅広く利用されており、さらに多くの分野
への応用が試みられている。そして、チタン酸バリウム
をこれらのデバイスに応用する場合、その特性を有効に
利用するために、チタン酸バリウムを薄膜として用いる
ことが一般的である。
強誘電体材料、圧電体材料、焦電体材料として優れた性
質を有し、超音波センサ、コンデンサ、アクチュエー
タ、焦電型赤外線センサ、不揮発性メモリーなどの種々
のデバイスに幅広く利用されており、さらに多くの分野
への応用が試みられている。そして、チタン酸バリウム
をこれらのデバイスに応用する場合、その特性を有効に
利用するために、チタン酸バリウムを薄膜として用いる
ことが一般的である。
【０００３】そして、基材上にチタン酸バリウム（Ｂａ
ＴｉＯ3）薄膜を形成する方法としては、従来より、 チタン金属表面を化成処理する方法（例えば、特開昭
６１−３０６７８号） 、 スパッタ蒸発したターゲット物質を基板（基材）
上に沈着させて薄膜を形成するスパッタリング法（例え
ば、特開平２−９４２０９号）によるもの、 プラズマを利用して薄膜を形成するプラズマ蒸着法に
よるもの（例えば、特開平２−２５８７００号）、 湿式の薄膜形成方法である水熱電気化学法によるもの
（例えば、ＪＪＡＰＶｏｌ．２８ No.１１（１９８
９））、 など種々の形成方法が知られている。
ＴｉＯ3）薄膜を形成する方法としては、従来より、 チタン金属表面を化成処理する方法（例えば、特開昭
６１−３０６７８号） 、 スパッタ蒸発したターゲット物質を基板（基材）
上に沈着させて薄膜を形成するスパッタリング法（例え
ば、特開平２−９４２０９号）によるもの、 プラズマを利用して薄膜を形成するプラズマ蒸着法に
よるもの（例えば、特開平２−２５８７００号）、 湿式の薄膜形成方法である水熱電気化学法によるもの
（例えば、ＪＪＡＰＶｏｌ．２８ No.１１（１９８
９））、 など種々の形成方法が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のＢ
ａＴｉＯ3薄膜の形成方法には、それぞれ次のような問
題点がある。すなわち、 のチタン金属表面を化成処理する方法は、基材がチタ
ン金属に限定され、チタン以外の材料を基材として用い
る場合には適用できない、 のスパッタリング法は、複雑で高価な装置を必要と
し、設備費用が大きくなる、 のプラズマ蒸着法は、複雑で大掛かりな装置を必要と
し、さらに、高温に耐える基材にしか適用できない、 の水熱電気化学法は、基材自体を電極として用いるた
め、良導性の金属基材にしか適用することができず、ま
た、オートクレーブを用いて高温高圧下で成膜するた
め、耐熱性の小さい有機基材には適用できない、 など種々の問題点を包含している。
ａＴｉＯ3薄膜の形成方法には、それぞれ次のような問
題点がある。すなわち、 のチタン金属表面を化成処理する方法は、基材がチタ
ン金属に限定され、チタン以外の材料を基材として用い
る場合には適用できない、 のスパッタリング法は、複雑で高価な装置を必要と
し、設備費用が大きくなる、 のプラズマ蒸着法は、複雑で大掛かりな装置を必要と
し、さらに、高温に耐える基材にしか適用できない、 の水熱電気化学法は、基材自体を電極として用いるた
め、良導性の金属基材にしか適用することができず、ま
た、オートクレーブを用いて高温高圧下で成膜するた
め、耐熱性の小さい有機基材には適用できない、 など種々の問題点を包含している。
【０００５】この発明は上記問題点を解決するものであ
り、複雑で大掛かりな設備や、厳しい成膜条件を必要と
することなく、無機材料、金属材料などの種々の材料か
らなる基材の表面にチタン酸バリウム薄膜を簡便に形成
することが可能なチタン酸バリウム薄膜の形成方法を提
供することを目的とする。
り、複雑で大掛かりな設備や、厳しい成膜条件を必要と
することなく、無機材料、金属材料などの種々の材料か
らなる基材の表面にチタン酸バリウム薄膜を簡便に形成
することが可能なチタン酸バリウム薄膜の形成方法を提
供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】発明者らはこれまでに、
水酸アパタイトに対して実質的に過飽和の水溶液に、Ｃ
ａＯ−ＳｉＯ2系ガラスを基材と共に浸漬することによ
り、基材の表面に水酸アパタイト薄膜を形成する方法を
提案している（特開平１−７４８２９）。この方法は、
種々の材料からなる基材上の広い面積に、低温の温度条
件下で、極めて簡便かつ経済的にセラミックス薄膜を形
成することが可能な方法であり、そのポイントは、ガラ
スからアパタイト組成のイオンを適量溶出させ、水溶液
中のイオンと適度な速度で反応させることにある。
水酸アパタイトに対して実質的に過飽和の水溶液に、Ｃ
ａＯ−ＳｉＯ2系ガラスを基材と共に浸漬することによ
り、基材の表面に水酸アパタイト薄膜を形成する方法を
提案している（特開平１−７４８２９）。この方法は、
種々の材料からなる基材上の広い面積に、低温の温度条
件下で、極めて簡便かつ経済的にセラミックス薄膜を形
成することが可能な方法であり、そのポイントは、ガラ
スからアパタイト組成のイオンを適量溶出させ、水溶液
中のイオンと適度な速度で反応させることにある。
【０００７】発明者らは、上記の知見に基づき、使用す
るガラスの組成、基材などを浸漬する水溶液の組成及び
イオン濃度などについて鋭意研究を重ねた結果、基材を
ガラスとともに六フッ化チタン酸イオンを含む水溶液に
浸漬し、これをアルカリで処理することにより基材上に
チタン酸バリウム薄膜を形成できることを知りこの発明
を完成させた。
るガラスの組成、基材などを浸漬する水溶液の組成及び
イオン濃度などについて鋭意研究を重ねた結果、基材を
ガラスとともに六フッ化チタン酸イオンを含む水溶液に
浸漬し、これをアルカリで処理することにより基材上に
チタン酸バリウム薄膜を形成できることを知りこの発明
を完成させた。
【０００８】すなわち、この発明のチタン酸バリウム薄
膜の形成方法は、基材と、少なくともＢａＯ，Ｂ2Ｏ3を
含有するガラスとを所定の間隔をおいて対向させ、六フ
ッ化チタン酸イオン（ＴｉＦ6 2-）を含有する水溶液に
浸漬することにより、前記ガラスからその構成成分を溶
出させ、前記基材の表面にＢａＴｉＯＦ4の薄膜を形成
させた後、前記基材の表面をアルカリ水溶液で処理する
ことにより、前記基材の表面にチタン酸バリウム（Ｂａ
ＴｉＯ3）薄膜を得ることを特徴とする。
膜の形成方法は、基材と、少なくともＢａＯ，Ｂ2Ｏ3を
含有するガラスとを所定の間隔をおいて対向させ、六フ
ッ化チタン酸イオン（ＴｉＦ6 2-）を含有する水溶液に
浸漬することにより、前記ガラスからその構成成分を溶
出させ、前記基材の表面にＢａＴｉＯＦ4の薄膜を形成
させた後、前記基材の表面をアルカリ水溶液で処理する
ことにより、前記基材の表面にチタン酸バリウム（Ｂａ
ＴｉＯ3）薄膜を得ることを特徴とする。
【０００９】この発明の形成方法によれば、チタン酸バ
リウム薄膜は、以下に説明するようなメカニズムにより
形成されるものと考えられる。
リウム薄膜は、以下に説明するようなメカニズムにより
形成されるものと考えられる。
【００１０】ＢａＯとＢ2Ｏ3を含有するガラスを六フッ
化チタン酸イオンを含む水溶液に浸漬すると、ガラスか
らＢａとＢがイオンとして溶出し、これらの溶出イオン
が水溶液中のＴｉＦ6 2-イオンと反応して、ＢａＴｉＯ
Ｆ4薄膜とＢＦ4 -イオンを生成する。そして、ＢａＴｉ
ＯＦ4薄膜がその表面に形成された基材をアルカリ水溶
液（例えば、水酸化ナトリウム水溶液）に浸漬して処理
することにより、ＢａＴｉＯＦ4がアルカリ域における
安定相であるチタン酸バリウムに変態して、基材上にチ
タン酸バリウム薄膜が形成される。
化チタン酸イオンを含む水溶液に浸漬すると、ガラスか
らＢａとＢがイオンとして溶出し、これらの溶出イオン
が水溶液中のＴｉＦ6 2-イオンと反応して、ＢａＴｉＯ
Ｆ4薄膜とＢＦ4 -イオンを生成する。そして、ＢａＴｉ
ＯＦ4薄膜がその表面に形成された基材をアルカリ水溶
液（例えば、水酸化ナトリウム水溶液）に浸漬して処理
することにより、ＢａＴｉＯＦ4がアルカリ域における
安定相であるチタン酸バリウムに変態して、基材上にチ
タン酸バリウム薄膜が形成される。
【００１１】次に、この発明の構成について詳しく説明
する。
する。
【００１２】この発明のチタン酸バリウム薄膜の形成方
法を効率よく実施するためには、基材と対向させて六
フッ化チタン酸イオンを含有する水溶液に浸漬するガラ
スの組成、ＢａＴｉＯＦ4の薄膜が形成された後の基
材を浸漬するアルカリ水溶液のｐＨ、及びアルカリ水
溶液の温度、などの諸条件を所定の範囲内に調節するこ
とが望ましい。
法を効率よく実施するためには、基材と対向させて六
フッ化チタン酸イオンを含有する水溶液に浸漬するガラ
スの組成、ＢａＴｉＯＦ4の薄膜が形成された後の基
材を浸漬するアルカリ水溶液のｐＨ、及びアルカリ水
溶液の温度、などの諸条件を所定の範囲内に調節するこ
とが望ましい。
【００１３】まず、この発明のチタン酸バリウム薄膜の
形成方法に用いるガラスとしては、少なくともＢａＯ及
びＢ2Ｏ3を含有するガラスを用いることが必要であり、
ＢａＯ及びＢ2Ｏ3を主成分として含有するものが望まし
く、ＢａＯが１〜５０mol％、Ｂ2Ｏ3が５０〜１００mol
％の範囲にあることが好ましい。表１に好ましいガラス
の例を示す。この他、ガラスとしては、ＭｇＯ，Ｃａ
Ｏ，ＳｒＯなどを含有しているものを用いてもよい。
形成方法に用いるガラスとしては、少なくともＢａＯ及
びＢ2Ｏ3を含有するガラスを用いることが必要であり、
ＢａＯ及びＢ2Ｏ3を主成分として含有するものが望まし
く、ＢａＯが１〜５０mol％、Ｂ2Ｏ3が５０〜１００mol
％の範囲にあることが好ましい。表１に好ましいガラス
の例を示す。この他、ガラスとしては、ＭｇＯ，Ｃａ
Ｏ，ＳｒＯなどを含有しているものを用いてもよい。
【００１４】
【表１】
【００１５】表１において、No.１〜６のガラスはＢａ
ＯとＢ2Ｏ3のみを含むガラスであり、No.７〜１０はＢ
ａＯとＢ2Ｏ3の他にＴｉＯ2を含有するガラスである。
これらのガラスは、いずれも各種基材上にＢａＴｉＯＦ
4の薄膜を形成する能力を有するガラスである。
ＯとＢ2Ｏ3のみを含むガラスであり、No.７〜１０はＢ
ａＯとＢ2Ｏ3の他にＴｉＯ2を含有するガラスである。
これらのガラスは、いずれも各種基材上にＢａＴｉＯＦ
4の薄膜を形成する能力を有するガラスである。
【００１６】また、基材とガラスを浸漬する水溶液は、
例えば、六フッ化チタン酸アンモニウムまたは六フッ化
チタン酸を所定量秤量し、これをイオン交換水に溶解す
ることにより調製することができる。六フッ化チタン酸
イオンの濃度は、膜形成速度に影響するが、０．０１mM
／l 以上であればよい。このように、六フッ化チタン酸
イオン濃度が低濃度であっても膜が形成されるため、六
フッ化チタン酸イオン濃度は必ずしも高濃度である必要
はない。
例えば、六フッ化チタン酸アンモニウムまたは六フッ化
チタン酸を所定量秤量し、これをイオン交換水に溶解す
ることにより調製することができる。六フッ化チタン酸
イオンの濃度は、膜形成速度に影響するが、０．０１mM
／l 以上であればよい。このように、六フッ化チタン酸
イオン濃度が低濃度であっても膜が形成されるため、六
フッ化チタン酸イオン濃度は必ずしも高濃度である必要
はない。
【００１７】さらに、ＢａＴｉＯＦ4薄膜が形成された
基材を浸漬するアルカリ水溶液は、そのｐＨが１３未満
のときにはチタン酸バリウム以外の相が安定となるため
好ましくなく、また、水溶液温度が４０℃未満の場合に
は、ＢａＴｉＯ3のアモルファス相が形成されるため、
安定なチタン酸バリウム結晶相を生成させることができ
ない。したがって、アルカリ水溶液は、そのｐＨが１３
以上で、水溶液温度が４０℃以上であることが望まし
い。
基材を浸漬するアルカリ水溶液は、そのｐＨが１３未満
のときにはチタン酸バリウム以外の相が安定となるため
好ましくなく、また、水溶液温度が４０℃未満の場合に
は、ＢａＴｉＯ3のアモルファス相が形成されるため、
安定なチタン酸バリウム結晶相を生成させることができ
ない。したがって、アルカリ水溶液は、そのｐＨが１３
以上で、水溶液温度が４０℃以上であることが望まし
い。
【００１８】
【実施例】以下、実施例を示して、この発明をより具体
的に説明する。
的に説明する。
【００１９】［実施例１］表１のNo.１のガラス組成に
なるように炭酸バリウム及びホウ酸を白金るつぼに秤取
する。そして、これを１１００℃に加熱して１時間溶融
した後、融液を金属板上に流し出し、上から別の金属板
で押えてガラス板を作成する。それから、このガラス板
を１０mm×１０mm×１mmの大きさにカットする。次い
で、カットされたガラスを種々の材料、すなわち、アル
ミナ焼結体、金、銀、ＰＭＭＡ、ポリエチレンからなる
基板（基材）に対向させ、ガラスと基材を、その間に
０．５mmの距離（隙間）が保たれるようにスペーサ４
（図１）を介して固定する。それから、図１に示すよう
に、互に固定したガラス１と基板２を、六フッ化チタン
酸アンモニウムを５０mMの濃度になるように溶解した３
０mlの水溶液３に浸漬し、液温を２５℃に保って１５時
間浸漬を継続する。浸漬後、取り出した基板２を、８０
℃に加熱した１０規定の水酸化ナトリウム水溶液に浸漬
し、その温度で５時間浸漬を継続する。そして、５時間
の浸漬後に基材を取り出し、チタン酸バリウム薄膜の形
成状態を観察した。
なるように炭酸バリウム及びホウ酸を白金るつぼに秤取
する。そして、これを１１００℃に加熱して１時間溶融
した後、融液を金属板上に流し出し、上から別の金属板
で押えてガラス板を作成する。それから、このガラス板
を１０mm×１０mm×１mmの大きさにカットする。次い
で、カットされたガラスを種々の材料、すなわち、アル
ミナ焼結体、金、銀、ＰＭＭＡ、ポリエチレンからなる
基板（基材）に対向させ、ガラスと基材を、その間に
０．５mmの距離（隙間）が保たれるようにスペーサ４
（図１）を介して固定する。それから、図１に示すよう
に、互に固定したガラス１と基板２を、六フッ化チタン
酸アンモニウムを５０mMの濃度になるように溶解した３
０mlの水溶液３に浸漬し、液温を２５℃に保って１５時
間浸漬を継続する。浸漬後、取り出した基板２を、８０
℃に加熱した１０規定の水酸化ナトリウム水溶液に浸漬
し、その温度で５時間浸漬を継続する。そして、５時間
の浸漬後に基材を取り出し、チタン酸バリウム薄膜の形
成状態を観察した。
【００２０】その結果、基板の、六フッ化チタン酸イオ
ン水溶液に浸漬したときにガラス１と対向していた面
に、厚さ約５００nmのＢａＴｉＯ3薄膜が形成されてい
ることが確認された。
ン水溶液に浸漬したときにガラス１と対向していた面
に、厚さ約５００nmのＢａＴｉＯ3薄膜が形成されてい
ることが確認された。
【００２１】［実施例２］表１のNo.７の組成になるよ
うに、炭酸バリウム，ホウ酸及び二酸化チタンを秤量
し、白金るつぼに入れて１１００℃に加熱して１時間溶
融した後、融液を金属板上に流し出し、その上から別の
金属板で押えてガラス板を作成する。それから、このガ
ラス板を１０mm×１０mm×１mmの大きさにカットする。
次いで、カットされたガラスをアルミナ焼結体、金、
銀、ＰＭＭＡ、ポリエチレンからなる各基板（基材）に
対向させ、ガラスと基材を、その間に０．５mmの距離
（隙間）が保たれるようにスペーサ４（図１）を介して
固定する。それから、図１に示すように、互に固定した
ガラス１ａと基板２を、六フッ化チタン酸アンモニウム
を５００mMの濃度になるように溶解した３０mlの水溶液
３ａに浸漬し、液温を５０℃に保って、５時間浸漬を継
続する。浸漬後、取り出した基板２を、７０℃に加熱し
た５規定の水酸化ナトリウム溶液に浸漬し、７０℃で５
時間浸漬を継続する。そして、５時間の浸漬後に基材を
取り出し、チタン酸バリウム薄膜の形成状態を観察し
た。
うに、炭酸バリウム，ホウ酸及び二酸化チタンを秤量
し、白金るつぼに入れて１１００℃に加熱して１時間溶
融した後、融液を金属板上に流し出し、その上から別の
金属板で押えてガラス板を作成する。それから、このガ
ラス板を１０mm×１０mm×１mmの大きさにカットする。
次いで、カットされたガラスをアルミナ焼結体、金、
銀、ＰＭＭＡ、ポリエチレンからなる各基板（基材）に
対向させ、ガラスと基材を、その間に０．５mmの距離
（隙間）が保たれるようにスペーサ４（図１）を介して
固定する。それから、図１に示すように、互に固定した
ガラス１ａと基板２を、六フッ化チタン酸アンモニウム
を５００mMの濃度になるように溶解した３０mlの水溶液
３ａに浸漬し、液温を５０℃に保って、５時間浸漬を継
続する。浸漬後、取り出した基板２を、７０℃に加熱し
た５規定の水酸化ナトリウム溶液に浸漬し、７０℃で５
時間浸漬を継続する。そして、５時間の浸漬後に基材を
取り出し、チタン酸バリウム薄膜の形成状態を観察し
た。
【００２２】その結果、基板の、六フッ化チタン酸イオ
ン水溶液に浸漬したときにガラスと対向していた面に、
厚さ約８００nmのＢａＴｉＯ3薄膜が形成されているこ
とが確認された。
ン水溶液に浸漬したときにガラスと対向していた面に、
厚さ約８００nmのＢａＴｉＯ3薄膜が形成されているこ
とが確認された。
【００２３】なお、上記実施例ではガラスと基材との間
の距離を０．５mmとした場合について説明したが、ガラ
スと基材との間の距離は、これに限定されるものではな
く、水溶液中の六フッ化チタン酸イオンの濃度や液温な
どの条件を考慮して適切な値に調整することができる。
の距離を０．５mmとした場合について説明したが、ガラ
スと基材との間の距離は、これに限定されるものではな
く、水溶液中の六フッ化チタン酸イオンの濃度や液温な
どの条件を考慮して適切な値に調整することができる。
【００２４】また、ＢａＴｉＯＦ4薄膜が形成された基
材を浸漬するアルカリ水溶液は、水酸化ナトリウム溶液
に限られるものではなく、水酸カリウム溶液その他のア
ルカリ水溶液を用いることが可能である。
材を浸漬するアルカリ水溶液は、水酸化ナトリウム溶液
に限られるものではなく、水酸カリウム溶液その他のア
ルカリ水溶液を用いることが可能である。
【００２５】
【発明の効果】上述のように、この発明のチタン酸バリ
ウム薄膜の形成方法は、基材と、ＢａＯ，Ｂ2Ｏ3を含有
するガラスを対向させ、これを六フッ化チタン酸イオン
を含有する水溶液に浸漬して基材の表面にＢａＴｉＯＦ
4の薄膜を形成させた後、基材の表面をアルカリ水溶液
で処理するように構成しているので、複雑で大掛かりな
設備や、厳しい成膜条件を必要とせずに、無機材料、金
属材料、有機材料など、種々の材料からなる基材上の広
い面積に、チタン酸バリウム薄膜を極めて簡便に形成す
ることができる。
ウム薄膜の形成方法は、基材と、ＢａＯ，Ｂ2Ｏ3を含有
するガラスを対向させ、これを六フッ化チタン酸イオン
を含有する水溶液に浸漬して基材の表面にＢａＴｉＯＦ
4の薄膜を形成させた後、基材の表面をアルカリ水溶液
で処理するように構成しているので、複雑で大掛かりな
設備や、厳しい成膜条件を必要とせずに、無機材料、金
属材料、有機材料など、種々の材料からなる基材上の広
い面積に、チタン酸バリウム薄膜を極めて簡便に形成す
ることができる。
【００２６】また、この発明のチタン酸バリウム薄膜の
形成方法によれば、特に、有機材料からなる基材の表面
にチタン酸バリウム薄膜を形成することが可能になるた
め、従来の誘電体や圧電共振子などへの応用にととまら
ず、さらに広い用途に応用することが可能になる。
形成方法によれば、特に、有機材料からなる基材の表面
にチタン酸バリウム薄膜を形成することが可能になるた
め、従来の誘電体や圧電共振子などへの応用にととまら
ず、さらに広い用途に応用することが可能になる。
【図１】この発明のチタン酸バリウム薄膜の形成方法の
一工程を示す図である。
一工程を示す図である。
１ ガラス ２ 基材 ３ 六フッ化チタン酸イオンを含有する水
溶液 ４ スペーサ
溶液 ４ スペーサ
Claims (4)
- 【請求項１】 基材と、少なくともＢａＯ，Ｂ2Ｏ3を含
有するガラスとを所定の間隔をおいて対向させ、六フッ
化チタン酸イオン（ＴｉＦ6 2-）を含有する水溶液に浸
漬することにより、前記ガラスからその構成成分を溶出
させ、前記基材の表面にＢａＴｉＯＦ4の薄膜を形成さ
せた後、前記基材の表面をアルカリ水溶液で処理するこ
とにより、前記基材の表面にチタン酸バリウム（ＢａＴ
ｉＯ3）薄膜を得ることを特徴とするチタン酸バリウム
薄膜の形成方法。 - 【請求項２】 前記ガラスが、バリウム（Ｂａ）とボロ
ン（Ｂ）を、それぞれＢａＯ，Ｂ2Ｏ3に換算して、 ＢａＯ ： １〜 ５０mol％ Ｂ2Ｏ3 ： ５０〜１００mol％ の範囲で含有することを特徴とする請求項１記載のチタ
ン酸バリウム薄膜の形成方法。 - 【請求項３】 前記アルカリ水溶液のｐＨが１３以上で
あることを特徴とする請求項１記載のチタン酸バリウム
薄膜の形成方法。 - 【請求項４】 前記アルカリ水溶液の温度が４０℃以上
であることを特徴とする請求項１記載のチタン酸バリウ
ム薄膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27735991A JP3237145B2 (ja) | 1991-09-28 | 1991-09-28 | チタン酸バリウム薄膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27735991A JP3237145B2 (ja) | 1991-09-28 | 1991-09-28 | チタン酸バリウム薄膜の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0585728A true JPH0585728A (ja) | 1993-04-06 |
| JP3237145B2 JP3237145B2 (ja) | 2001-12-10 |
Family
ID=17582428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27735991A Expired - Fee Related JP3237145B2 (ja) | 1991-09-28 | 1991-09-28 | チタン酸バリウム薄膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3237145B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6461952B2 (en) * | 1999-12-10 | 2002-10-08 | National Science Council | Method for growing barium titanate thin film |
| JP2008266086A (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Daiken Kagaku Kogyo Kk | 板状結晶のＢａＴｉＯ３、その前駆体、それらの製法及びグリーンシート |
-
1991
- 1991-09-28 JP JP27735991A patent/JP3237145B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6461952B2 (en) * | 1999-12-10 | 2002-10-08 | National Science Council | Method for growing barium titanate thin film |
| JP2008266086A (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Daiken Kagaku Kogyo Kk | 板状結晶のＢａＴｉＯ３、その前駆体、それらの製法及びグリーンシート |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3237145B2 (ja) | 2001-12-10 |
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