JPH0581942A - パターン化した透明導電膜の形成方法 - Google Patents
パターン化した透明導電膜の形成方法Info
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- JPH0581942A JPH0581942A JP23941591A JP23941591A JPH0581942A JP H0581942 A JPH0581942 A JP H0581942A JP 23941591 A JP23941591 A JP 23941591A JP 23941591 A JP23941591 A JP 23941591A JP H0581942 A JPH0581942 A JP H0581942A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低抵抗で高透過率のパターン化した透明導電
膜を、簡単に、且つ、安価に形成できるパターン化した
透明導電膜の形成方法を提供することをその目的とす
る。 【構成】 マスキングインクを基板１上の導電膜不要部
分に塗布・乾燥し、熱または光により硬化させてマスキ
ングパターン２を形成し、その上に、インジウム化合物
とスズ化合物の少なくとも一つを含んだ化合物とその溶
媒からなる透明導電膜形成用組成物を塗布して透明導電
膜形成用組成物層３を形成し、これらを形成した前記基
板を加熱処理することにより、前記マスキングパターン
２を熱分解してその上に塗布された透明導電膜形成用組
成物と共に除去し、前記マスキングインクが塗布されて
いない基板上の部分に透明導電膜を形成することを特徴
とする。
膜を、簡単に、且つ、安価に形成できるパターン化した
透明導電膜の形成方法を提供することをその目的とす
る。 【構成】 マスキングインクを基板１上の導電膜不要部
分に塗布・乾燥し、熱または光により硬化させてマスキ
ングパターン２を形成し、その上に、インジウム化合物
とスズ化合物の少なくとも一つを含んだ化合物とその溶
媒からなる透明導電膜形成用組成物を塗布して透明導電
膜形成用組成物層３を形成し、これらを形成した前記基
板を加熱処理することにより、前記マスキングパターン
２を熱分解してその上に塗布された透明導電膜形成用組
成物と共に除去し、前記マスキングインクが塗布されて
いない基板上の部分に透明導電膜を形成することを特徴
とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子、エレク
トロルミネッセンス（ＥＬ）表示素子等の表示素子の電
極、又は、自動車、航空機、建築物等の窓ガラスの防曇
または氷結防止の発熱体として使用される、ガラス、セ
ラミックス等の基板上に形成した透明導電膜に関し、特
に、パターン化した透明導電膜の形成方法に関するもの
である。
トロルミネッセンス（ＥＬ）表示素子等の表示素子の電
極、又は、自動車、航空機、建築物等の窓ガラスの防曇
または氷結防止の発熱体として使用される、ガラス、セ
ラミックス等の基板上に形成した透明導電膜に関し、特
に、パターン化した透明導電膜の形成方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来から、液晶表示素子、エレクトロル
ミネッセンス（ＥＬ）表示素子などの表示素子類の電極
や、自動車、航空機、建築物などの窓ガラスの防曇また
は氷結防止のための発熱抵抗体に、可視光に対して高透
過性を有する透明導電膜が使用されている。
ミネッセンス（ＥＬ）表示素子などの表示素子類の電極
や、自動車、航空機、建築物などの窓ガラスの防曇また
は氷結防止のための発熱抵抗体に、可視光に対して高透
過性を有する透明導電膜が使用されている。
【０００３】この透明導電膜を形成する透明導電性材料
として、従来から、酸化スズ・酸化アンチモン系（ＡＴ
Ｏ）や酸化インジウム・酸化スズ系（ＩＴＯ）などが知
られており、これらの金属酸化物はガラスまたはセラミ
ック基板上に被膜を形成し、透明導電膜とすることがで
きる。
として、従来から、酸化スズ・酸化アンチモン系（ＡＴ
Ｏ）や酸化インジウム・酸化スズ系（ＩＴＯ）などが知
られており、これらの金属酸化物はガラスまたはセラミ
ック基板上に被膜を形成し、透明導電膜とすることがで
きる。
【０００４】この透明導電膜の形成方法としては、次の
方法が知られている。
方法が知られている。
【０００５】(1) 真空蒸着法 (2） スパッタリング法 (3） ＣＶＤ法 (4） 塗布法
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の(1) 、
(2) 、(3) の方法では、通常、ホトリソグラフィまたは
レジスト印刷し、エッチングによりパターン形成をして
いるが、装置が複雑かつ高価で、製品のコストと量産性
に問題点があり、大型製品の生産や複雑なパターンの透
明導電膜を形成することが困難であるという問題点があ
った。又、(4) の方法は、上記の(1) 、(2) 、(3) の方
法の問題点を解決する可能性を有しているものの、実用
に耐え得る透明導電膜を形成することが困難であるとい
う問題点があった。例えば、光硬化性の官能基を含有す
る有機酸のスズ塩およびインジウム塩を含むペースト状
組成物、無機インジウム塩と無機スズ塩と非水系シリカ
ゾルとセルロース化合物の有機溶液からなる組成物等を
透明導電膜形成用組成物としてスクリーン印刷する方法
や、インジウム化合物とスズ化合物とガム系天然樹脂ロ
ジンとターペン系高沸点溶剤とからなる組成物を透明導
電膜形成用組成物としてオフセット印刷する方法では、
次の２つの問題点を有している。
(2) 、(3) の方法では、通常、ホトリソグラフィまたは
レジスト印刷し、エッチングによりパターン形成をして
いるが、装置が複雑かつ高価で、製品のコストと量産性
に問題点があり、大型製品の生産や複雑なパターンの透
明導電膜を形成することが困難であるという問題点があ
った。又、(4) の方法は、上記の(1) 、(2) 、(3) の方
法の問題点を解決する可能性を有しているものの、実用
に耐え得る透明導電膜を形成することが困難であるとい
う問題点があった。例えば、光硬化性の官能基を含有す
る有機酸のスズ塩およびインジウム塩を含むペースト状
組成物、無機インジウム塩と無機スズ塩と非水系シリカ
ゾルとセルロース化合物の有機溶液からなる組成物等を
透明導電膜形成用組成物としてスクリーン印刷する方法
や、インジウム化合物とスズ化合物とガム系天然樹脂ロ
ジンとターペン系高沸点溶剤とからなる組成物を透明導
電膜形成用組成物としてオフセット印刷する方法では、
次の２つの問題点を有している。
【０００７】第１に、スクリーン印刷方法やオフセット
印刷方法の宿命である、ベタ印刷部分の膜厚のばらつき
が大きいこと及びパターン印刷の端の部分の膜厚が薄く
なるという問題点が挙げられる。そして、第２に、これ
らの透明導電膜形成用組成物は印刷性を良くするため
に、セルロース化合物やガム系天然樹脂ロジン等の樹脂
を含んでおり、これらは、加熱して透明導電膜を形成す
る際に、熱分解しても、透明導電膜中にフリーカーボン
として残留しやすく、このために、透明導電膜の特性劣
化が避けられないという問題点がある。
印刷方法の宿命である、ベタ印刷部分の膜厚のばらつき
が大きいこと及びパターン印刷の端の部分の膜厚が薄く
なるという問題点が挙げられる。そして、第２に、これ
らの透明導電膜形成用組成物は印刷性を良くするため
に、セルロース化合物やガム系天然樹脂ロジン等の樹脂
を含んでおり、これらは、加熱して透明導電膜を形成す
る際に、熱分解しても、透明導電膜中にフリーカーボン
として残留しやすく、このために、透明導電膜の特性劣
化が避けられないという問題点がある。
【０００８】本発明は、上記の問題点を解決して、低抵
抗で高透過率を有するパターン化した透明導電膜を簡単
に安価に得られるパターン化した透明導電膜の形成方法
を提供することをその課題としている。
抗で高透過率を有するパターン化した透明導電膜を簡単
に安価に得られるパターン化した透明導電膜の形成方法
を提供することをその課題としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明のパターン化した
透明導電膜の形成方法は、上記の課題を解決するため
に、マスキングインクを基板上の導電膜不要部分に塗布
・乾燥し、熱または光により硬化させてマスキングパタ
ーンを形成し、その上に、インジウム化合物とスズ化合
物の少なくとも一つを含んだ化合物とその溶媒からなる
透明導電膜形成用組成物を塗布して透明導電膜形成用組
成物層を形成し、これらを形成した前記基板を加熱処理
することにより、前記マスキングパターンを熱分解して
その上に塗布された透明導電膜形成用組成物と共に除去
し、前記マスキングインクが塗布されていない基板上の
部分に透明導電膜を形成することを特徴とする。
透明導電膜の形成方法は、上記の課題を解決するため
に、マスキングインクを基板上の導電膜不要部分に塗布
・乾燥し、熱または光により硬化させてマスキングパタ
ーンを形成し、その上に、インジウム化合物とスズ化合
物の少なくとも一つを含んだ化合物とその溶媒からなる
透明導電膜形成用組成物を塗布して透明導電膜形成用組
成物層を形成し、これらを形成した前記基板を加熱処理
することにより、前記マスキングパターンを熱分解して
その上に塗布された透明導電膜形成用組成物と共に除去
し、前記マスキングインクが塗布されていない基板上の
部分に透明導電膜を形成することを特徴とする。
【００１０】又、マスキングインクはエポキシ系樹脂と
ウレタン系樹脂の少なくとも一つを含むことが好適であ
る。
ウレタン系樹脂の少なくとも一つを含むことが好適であ
る。
【００１１】又、透明導電膜形成用組成物は無機インジ
ウム化合物及び有機スズ化合物と、インジウムとスズの
いずれにも配位可能な有機化合物からなる液状有機物と
を混合加熱処理して部分的に加水分解させ、この液体に
多価アルコール類を混合して得られたものであることが
好適である。
ウム化合物及び有機スズ化合物と、インジウムとスズの
いずれにも配位可能な有機化合物からなる液状有機物と
を混合加熱処理して部分的に加水分解させ、この液体に
多価アルコール類を混合して得られたものであることが
好適である。
【００１２】
【作用】本発明のパターン化した透明導電膜の形成方法
は、基板上に塗布・乾燥し、熱又は光によって硬化した
マスキングインクは、この基板上に塗布した透明導電膜
形成用組成物を加熱処理によって透明導電膜にする際
に、熱分解し、そのマスキングインク上に塗布した透明
導電膜形成用組成物と共に、前記基板上から除去されて
しまい、前記基板上のマスキングインクが塗布されてい
ない部分に塗布された透明導電膜形成用組成物のみがパ
ターン化した透明導電膜を形成するので、そのパターン
はマスキングインクの印刷パターンで決まり、透明導電
膜形成用組成物の塗布は、前記基板上に、均一に塗布す
ることだけに重点を置くことができ、従来技術の透明導
電膜の膜厚の不均一の問題点を解決できる。
は、基板上に塗布・乾燥し、熱又は光によって硬化した
マスキングインクは、この基板上に塗布した透明導電膜
形成用組成物を加熱処理によって透明導電膜にする際
に、熱分解し、そのマスキングインク上に塗布した透明
導電膜形成用組成物と共に、前記基板上から除去されて
しまい、前記基板上のマスキングインクが塗布されてい
ない部分に塗布された透明導電膜形成用組成物のみがパ
ターン化した透明導電膜を形成するので、そのパターン
はマスキングインクの印刷パターンで決まり、透明導電
膜形成用組成物の塗布は、前記基板上に、均一に塗布す
ることだけに重点を置くことができ、従来技術の透明導
電膜の膜厚の不均一の問題点を解決できる。
【００１３】又、本発明で使用する透明導電膜形成用組
成物は、前記従来例で印刷性向上のために使用され、熱
分解時にフリーカーボンとして残留し易いセルロース化
合物やガム系天然樹脂ロジン等を含まず、何も塗布され
ていない基板上に塗布されて、加熱処理により透明導電
膜に形成されるので、透明導電膜中にフリーカーボンが
残留することがなく、従来技術の問題点を解決できる。
成物は、前記従来例で印刷性向上のために使用され、熱
分解時にフリーカーボンとして残留し易いセルロース化
合物やガム系天然樹脂ロジン等を含まず、何も塗布され
ていない基板上に塗布されて、加熱処理により透明導電
膜に形成されるので、透明導電膜中にフリーカーボンが
残留することがなく、従来技術の問題点を解決できる。
【００１４】本発明のパターン化した透明導電膜の形成
方法において、マスキングインクを基板上に塗布・乾燥
した後に、熱または光により硬化させるのは、このマス
キングインク上に透明導電膜形成用組成物を塗布する際
に、透明導電膜形成用組成物の溶剤に対する、マスキン
グインクの耐溶剤性向上をはかるためである。そして、
マスキングインクは熱または光により硬化する樹脂を含
むものであれば良く、エポキシ系樹脂やウレタン系樹脂
を含むことが好適である。
方法において、マスキングインクを基板上に塗布・乾燥
した後に、熱または光により硬化させるのは、このマス
キングインク上に透明導電膜形成用組成物を塗布する際
に、透明導電膜形成用組成物の溶剤に対する、マスキン
グインクの耐溶剤性向上をはかるためである。そして、
マスキングインクは熱または光により硬化する樹脂を含
むものであれば良く、エポキシ系樹脂やウレタン系樹脂
を含むことが好適である。
【００１５】又、所望のパターンに対して、ネガパター
ンのマスキングインク用の樹脂膜を形成する方法として
は、スクリーン印刷法やオフセット印刷法等により、直
接パターンを形成する方法や、光硬化樹脂の場合にはロ
ールコート、スピンコートやディップコートした後にフ
ォトリソグラフィでパターンを形成する方法が挙げられ
るが、スクリーン印刷法やオフセット印刷法を用いる方
法が生産性やコストの面で好適である。
ンのマスキングインク用の樹脂膜を形成する方法として
は、スクリーン印刷法やオフセット印刷法等により、直
接パターンを形成する方法や、光硬化樹脂の場合にはロ
ールコート、スピンコートやディップコートした後にフ
ォトリソグラフィでパターンを形成する方法が挙げられ
るが、スクリーン印刷法やオフセット印刷法を用いる方
法が生産性やコストの面で好適である。
【００１６】又、透明導電膜形成用組成物の塗布には、
スクリーン印刷法、ロールコート法、ディップコート
法、スピンコート法等を用いることができるが、ディッ
プコート法、スピンコート法が、透明導電膜のベタ印刷
部分の膜厚のばらつきが小さく、パターンの端の部分の
膜厚もベタ印刷部分の膜厚とほぼ同じになるので好適で
ある。
スクリーン印刷法、ロールコート法、ディップコート
法、スピンコート法等を用いることができるが、ディッ
プコート法、スピンコート法が、透明導電膜のベタ印刷
部分の膜厚のばらつきが小さく、パターンの端の部分の
膜厚もベタ印刷部分の膜厚とほぼ同じになるので好適で
ある。
【００１７】又、熱処理温度としては、透明導電膜形成
用組成物が透明導電膜に変化しマスキングインクが分解
する温度以上で、かつ基板の変形温度以下であればよ
く、４００°Ｃ〜７００°Ｃが好適である。
用組成物が透明導電膜に変化しマスキングインクが分解
する温度以上で、かつ基板の変形温度以下であればよ
く、４００°Ｃ〜７００°Ｃが好適である。
【００１８】
【実施例】以下、本発明の実施例方法を図１、図２と表
１とに基づいて説明する。
１とに基づいて説明する。
【００１９】本発明の第１実施例方法では、図１、図２
において、エポキシ系樹脂と有機ビヒクルと有機溶剤か
らなるマスキングインクを、ＳｉＯ2 コート並ガラス基
板１上に、スクリーン印刷により、線幅２ｍｍ、間隔
Ｏ．５ｍｍのパターンに印刷し、６０°Ｃで１Ｏ分乾燥
した後、１３０°Ｃで３０分間熱処理して硬化させてマ
スキングパターン２を形成する。
において、エポキシ系樹脂と有機ビヒクルと有機溶剤か
らなるマスキングインクを、ＳｉＯ2 コート並ガラス基
板１上に、スクリーン印刷により、線幅２ｍｍ、間隔
Ｏ．５ｍｍのパターンに印刷し、６０°Ｃで１Ｏ分乾燥
した後、１３０°Ｃで３０分間熱処理して硬化させてマ
スキングパターン２を形成する。
【００２０】次に、１リットルの三角フラスコに、４５
ｇの硝酸インジウム｛ＩｎＯ（ＮＯ3 ）3 ・３Ｈ2 Ｏ｝
を秤量し、５０ｇのアセチルアセトンを加えて、室温で
混合・溶解させた。その溶液に、２．７ｇのシュウ酸第
１スズ（ＳｎＣ2 Ｏ4 ）とアセトンを加えて還流し、そ
の還流後の溶液を、室温付近まで冷却し、１０ｇのグリ
セリンを加えて、撹拌・混合し、透明導電膜形成用組成
物を得、これを前記の基板上にスピンコートし、透明導
電膜形成用組成物層３を形成した。
ｇの硝酸インジウム｛ＩｎＯ（ＮＯ3 ）3 ・３Ｈ2 Ｏ｝
を秤量し、５０ｇのアセチルアセトンを加えて、室温で
混合・溶解させた。その溶液に、２．７ｇのシュウ酸第
１スズ（ＳｎＣ2 Ｏ4 ）とアセトンを加えて還流し、そ
の還流後の溶液を、室温付近まで冷却し、１０ｇのグリ
セリンを加えて、撹拌・混合し、透明導電膜形成用組成
物を得、これを前記の基板上にスピンコートし、透明導
電膜形成用組成物層３を形成した。
【００２１】上記の処理を行った基板を５分間室温で放
置し、１００°Ｃで５分間乾燥した後、５００°Ｃで１
時間焼成し、本発明の第１実施例方法を使用したパター
ン化した透明導電膜４を得た。この結果を表１に示す。
置し、１００°Ｃで５分間乾燥した後、５００°Ｃで１
時間焼成し、本発明の第１実施例方法を使用したパター
ン化した透明導電膜４を得た。この結果を表１に示す。
【００２２】本発明の第２実施例方法では、図１、図２
において、ウレタン系樹脂とシランカップリング剤と有
機ビヒクルと有機溶剤からなるマスキングインクを、Ｓ
ｉＯ2 コート並ガラス基板１上に、スクリーン印刷によ
り、線幅２ｍｍ、間隔Ｏ．５ｍｍのパターンに印刷し、
９０°Ｃで１Ｏ分乾燥した後、高圧水銀灯で紫外線照射
して硬化させてマスキングパターン２を形成する。
において、ウレタン系樹脂とシランカップリング剤と有
機ビヒクルと有機溶剤からなるマスキングインクを、Ｓ
ｉＯ2 コート並ガラス基板１上に、スクリーン印刷によ
り、線幅２ｍｍ、間隔Ｏ．５ｍｍのパターンに印刷し、
９０°Ｃで１Ｏ分乾燥した後、高圧水銀灯で紫外線照射
して硬化させてマスキングパターン２を形成する。
【００２３】次に、第１実施例方法と同様に、１リット
ルの三角フラスコに、４５ｇの硝酸インジウム｛ＩｎＯ
（ＮＯ3 ）3 ・３Ｈ2Ｏ｝を秤量し、５０ｇのアセチル
アセトンを加えて、室温で混合・溶解させた。その溶液
に、２．７ｇのシュウ酸第１スズ（ＳｎＣ2 Ｏ4 ）とア
セトンを加えて還流し、その還流後の溶液を、室温付近
まで冷却し、１０ｇのグリセリンを加えて、撹拌・混合
し、透明導電膜形成用組成物を得、これを前記の基板上
にスピンコートし、透明導電膜形成用組成物層３を形成
した。
ルの三角フラスコに、４５ｇの硝酸インジウム｛ＩｎＯ
（ＮＯ3 ）3 ・３Ｈ2Ｏ｝を秤量し、５０ｇのアセチル
アセトンを加えて、室温で混合・溶解させた。その溶液
に、２．７ｇのシュウ酸第１スズ（ＳｎＣ2 Ｏ4 ）とア
セトンを加えて還流し、その還流後の溶液を、室温付近
まで冷却し、１０ｇのグリセリンを加えて、撹拌・混合
し、透明導電膜形成用組成物を得、これを前記の基板上
にスピンコートし、透明導電膜形成用組成物層３を形成
した。
【００２４】上記の処理を行った基板を５分間室温で放
置し、１００°Ｃで５分間乾燥した後、５００°Ｃで１
時間焼成し、本発明の第２実施例方法を使用したパター
ン化した透明導電膜４を得た。この結果を表１に示す。
置し、１００°Ｃで５分間乾燥した後、５００°Ｃで１
時間焼成し、本発明の第２実施例方法を使用したパター
ン化した透明導電膜４を得た。この結果を表１に示す。
【００２５】本発明の第３実施例方法では、透明導電膜
形成用組成物を、マスキングパターン２を形成したＳｉ
Ｏ2 コート並ガラス基板１上に、ディップコートした。
他は本発明の第１実施例方法に同じである。この結果を
表１に示す。
形成用組成物を、マスキングパターン２を形成したＳｉ
Ｏ2 コート並ガラス基板１上に、ディップコートした。
他は本発明の第１実施例方法に同じである。この結果を
表１に示す。
【００２６】比較例方法として、１リットルの三角フラ
スコに、４５ｇの硝酸インジウム｛ＩｎＯ（ＮＯ3 ）3
・３Ｈ2 Ｏ｝と５．４ｇの塩化第２スズ（ＳｎＣｌ4 ・
５Ｈ2 Ｏ）を秤量し、α−テルピネオールとニトロセル
ロースを加えて、撹拌・混合して透明導電膜形成用組成
物を合成した。その透明導電膜形成用組成物を、ＳｉＯ
2 コート並ガラス基板１上にスクリーン印刷し、線幅２
ｍｍ、間隔０．５ｍｍのパターンを形成した。この基板
を５分間室温で放置し、１００°Ｃで１０分間乾燥した
後、５００°Ｃで１時間焼成し、比較例方法を使用した
パターン化した透明導電膜を得た。
スコに、４５ｇの硝酸インジウム｛ＩｎＯ（ＮＯ3 ）3
・３Ｈ2 Ｏ｝と５．４ｇの塩化第２スズ（ＳｎＣｌ4 ・
５Ｈ2 Ｏ）を秤量し、α−テルピネオールとニトロセル
ロースを加えて、撹拌・混合して透明導電膜形成用組成
物を合成した。その透明導電膜形成用組成物を、ＳｉＯ
2 コート並ガラス基板１上にスクリーン印刷し、線幅２
ｍｍ、間隔０．５ｍｍのパターンを形成した。この基板
を５分間室温で放置し、１００°Ｃで１０分間乾燥した
後、５００°Ｃで１時間焼成し、比較例方法を使用した
パターン化した透明導電膜を得た。
【００２７】この結果を表１に示す。
【００２８】
【表１】
【００２９】表１で明らかなように、本発明の第１、第
２、第３の実施例方法を使用して製作した透明導電膜
は、比較例方法を使用して製作した透明導電膜に比較し
て、膜厚の均一性、導電性の良さ、光の透過率、パター
ンの精度のどれについても優れている。
２、第３の実施例方法を使用して製作した透明導電膜
は、比較例方法を使用して製作した透明導電膜に比較し
て、膜厚の均一性、導電性の良さ、光の透過率、パター
ンの精度のどれについても優れている。
【００３０】本発明のパターン化した透明導電膜の形成
方法は、上記の実施例方法に限らず種々の態様が可能で
ある。インジウム化合物、スズ化合物の選択と配合量は
自由である。溶媒やマスキングインクや印刷方法や塗布
方法の選択も自由にできる。
方法は、上記の実施例方法に限らず種々の態様が可能で
ある。インジウム化合物、スズ化合物の選択と配合量は
自由である。溶媒やマスキングインクや印刷方法や塗布
方法の選択も自由にできる。
【００３１】
【発明の効果】本発明のパターン化した透明導電膜の形
成方法を使用すると、導電性と可視光の透過性が優れた
パターン化した透明導電膜を容易に、且つ、安価に得る
ことができ、表示素子の透明電極、及び、自動車や航空
機や建築物の窓ガラスの防曇又は氷結防止用の透明発熱
抵抗体等を安価に高性能に製造できるという効果を奏す
る。
成方法を使用すると、導電性と可視光の透過性が優れた
パターン化した透明導電膜を容易に、且つ、安価に得る
ことができ、表示素子の透明電極、及び、自動車や航空
機や建築物の窓ガラスの防曇又は氷結防止用の透明発熱
抵抗体等を安価に高性能に製造できるという効果を奏す
る。
【図１】本発明の実施例方法を使用した中間製品の断面
図である。
図である。
【図２】本発明の実施例方法を使用した製品の断面図で
ある。
ある。
１ 基板 ２ マスキングパターン ３ 透明導電膜形成用組成物層 ４ 透明導電膜
Claims (3)
- 【請求項１】 マスキングインクを基板上の導電膜不要
部分に塗布・乾燥し、熱または光により硬化させてマス
キングパターンを形成し、その上に、インジウム化合物
とスズ化合物の少なくとも一つを含んだ化合物とその溶
媒からなる透明導電膜形成用組成物を塗布して透明導電
膜形成用組成物層を形成し、これらを形成した前記基板
を加熱処理することにより、前記マスキングパターンを
熱分解してその上に塗布された透明導電膜形成用組成物
と共に除去し、前記マスキングインクが塗布されていな
い基板上の部分に透明導電膜を形成することを特徴とす
るパターン化した透明導電膜の形成方法。 - 【請求項２】 マスキングインクはエポキシ系樹脂とウ
レタン系樹脂の少なくとも一つを含む請求項１に記載の
パターン化した透明導電膜の形成方法。 - 【請求項３】 透明導電膜形成用組成物は無機インジウ
ム化合物及び有機スズ化合物と、インジウムとスズのい
ずれにも配位可能な有機化合物を含む液状有機物とを、
混合加熱処理して部分的に加水分解させ、この液体に多
価アルコール類を混合して得られたものである請求項１
に記載のパターン化した透明導電膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23941591A JPH0581942A (ja) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | パターン化した透明導電膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23941591A JPH0581942A (ja) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | パターン化した透明導電膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0581942A true JPH0581942A (ja) | 1993-04-02 |
Family
ID=17044437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23941591A Pending JPH0581942A (ja) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | パターン化した透明導電膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0581942A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11602767B2 (en) * | 2019-06-28 | 2023-03-14 | Vitro Flat Glass Llc | Substrate having a burnable coating mask |
-
1991
- 1991-09-19 JP JP23941591A patent/JPH0581942A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11602767B2 (en) * | 2019-06-28 | 2023-03-14 | Vitro Flat Glass Llc | Substrate having a burnable coating mask |
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