JPH0581174B2 - - Google Patents

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JPH0581174B2
JPH0581174B2 JP62204329A JP20432987A JPH0581174B2 JP H0581174 B2 JPH0581174 B2 JP H0581174B2 JP 62204329 A JP62204329 A JP 62204329A JP 20432987 A JP20432987 A JP 20432987A JP H0581174 B2 JPH0581174 B2 JP H0581174B2
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wafer
center
arm
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rotating
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JP62204329A
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Tsutomu Nakadai
Tsunemi Fukushima
Tsutomu Ppongo
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Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication date
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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、ウエハ表面検査装置に関し、詳し
くは、表面検査処理のスループツトを向上させる
ことができるようなウエハ表面検査装置に関す
る。
[従来の技術] この種の従来技術としては、ウエハを収納した
カセツトから一枚一枚のウエハをローダに設けら
れたハンドリングアームで取出して位置決めステ
ージへ置き、ここでウエハ載置テーブルの中心に
一致するようにウエハを位置決めし、その後、表
面検査をする回転テーブル等のウエハ載置テーブ
ルにウエハをセツトしている。
[解決しようとする問題点] このような従来の位置決め方式では、一旦、位
置決めした後に、ウエハ載置テーブル上にウエハ
がセツトされる関係から検査に入るまでに時間が
かかり、効率よく検査ができない。
また、位置決めステージと検査のためのウエハ
載置テーブルとが連続して配置される関係から装
置全体が大きくならざるを得ない。
この発明は、このような従来技術の問題点を解
決するものであつて、特別に中心位置決めステー
ジを設けることなく、効率よく検査ができるウエ
ハ表面検査装置を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段] このような目的を達成するためのこの発明のウ
エハ表面検査装置の構成は、カセツトからウエハ
を取出すウエハ取出アームを有するウエハハンド
リング機構と、このウエハハンドリング機構に隣
接して設けられ、ウエハ取出しアームによつて収
納されているウエハが取出されるカセツトと、ウ
エハハンドリング機構に隣接して設けられ、ウエ
ハ取出アームから検査すべきウエハを受ける表面
状態測定部とを備えていて、表面状態測定部はウ
エハ載置テーブルとこのウエハ載置テーブルの外
側に配置され、このウエハ載置テーブル上に置か
れたウエハをこのウエハ載置テーブルの中心に位
置決めする中心位置決め機構とウエハ載置テーブ
ル及び中心位置決め機構を一体的にウエハロード
位置から表面検査位置まで移動させる移動機構と
を有していて、ウエハ載置テーブルは検査すべき
ウエハをウエハ取出しアームからウエハロード位
置において受け、中心位置決め機構はウエハロー
ド位置から表面検査位置にウエハ載置テーブルが
移動する過程ウエハをウエハ載置テーブルの中心
に位置決めするものである。
[作用] このようにウエハの中心位置決め機構をウエハ
載置テーブルと一体的に表面状態測定部に設け
て、表面状態測定部のウエハロード位置から検査
位置まで移動中に中心位置決めをするようにすれ
ば、特別に位置決めステージを独立して設ける必
要がなく、かつ移動中に位置決めが完了するの
で、位置決め処理に要する時間分を短縮できる。
その結果、ウエハ表面検査処理のスループツトが
向上する。
しかも、中心位置決め機構をローダ側のカセツ
トと表面状態測定部との間に設ける必要がないの
で、ローダ側のカセツトと表面状態測定部とをウ
エアハンドリング機構に隣接して設けることが可
能であり、ウエハ表面検査装置全体を小型化でき
る。
[実施例] 以下、この発明の一実施例について図面を参照
して詳細に説明する。
第1図は、この発明を適用したウエハ表面検査
装置の一実施例の平面概要図であり、第2図は、
ハンドリング装置を中心とする縦断面概要図、第
3図は、表面状態測定ユニツトのウエハ載置機構
を中心とする側面図、第4図は、その中心位置決
め機構を説明するためのウエハ載置機構の平面
図、第5図は、その一部省略正面図、第6図は、
回動アーム連動回動機構の説明図、第7図は、外
径の相違する各ウエハのオリフラの関係を示す説
明図である。なお、これら各図において同等なも
のは同一の符号で示す。
第1図において、31は、ウエハ表面検査装置
30の装置のほぼ中央部に配置されたウエハハン
ドリング機構であつて、カセツトからウエハを取
出し、カセツトにウエハを装填する2つの回転ア
ーム38,39を有している。
ウエハハンドリング機構31の外側周囲には、
3つのカセツト33,34,35が装置テーブル
(図示せず)に交換可能に装着されていて、これ
らは、ウエハ表面検査装置30の前面側及び左右
両側に位置している。
装置前面から見て、ウエハハンドリング機構3
1を挟んで奥側には、表面状態測定ユニツト36
が配置されていて、カセツト33には、検査前の
複数のウエハ37が所定間隔で上下方向に積上げ
られて収納され、これがローダ側のカセツトとな
つている。また、カセツト34及びカセツト35
は、それぞれ最初は空となつていて検査済みのウ
エハ37を収納するアンローダ側のカセツトとな
つている。そして、これらのいずれか一方が検査
の結果合格となつたウエハ37を収納するカセツ
トとされ、他方が検査の結果不合格となつたウエ
ハ37を収納するカセツトとされる。
ここで、ウエハハンドリング機構31によりロ
ーダ側のカセツト33から取出されたウエハ37
は、表面状態測定ユニツト36に挿着され、検査
済みのウエハ32が表面状態測定ユニツト36か
ら取出されて、検査結果に応じて指定されたアン
ローダカセツトであるカセツト34又は35へと
装填される。そして、これらのアンローダカセツ
ト34,35に収納されるウエハ32が一杯にな
ると、カセツト34,35は、装置のテーブルか
ら取外されて新しい空のアンローダカセツトが装
着される。同様に、ローダ側のカセツト33にお
いても、それが空になつたときには、取外され
て、新しく検査すべきウエハ37を収納したカセ
ツトと交換される。
ウエハハンドリング機構31の2本の回転アー
ム38,39は、同心円状に配置された回動軸4
0に固定されていて、回動軸40は、第2図に見
るように、ターンテーブル41に回動できるよう
に固定され、このターンテーブル41が回転する
ことにより回転するが、さらに、それ自体が回動
することで回転するとともに回動する。
回動軸40は、下部の外側に配置された外筒軸
40aとこの外筒軸40aの内側に配置されてい
て外筒軸40aを貫通し、その上部に突出した中
軸40bとからなり、外筒軸40aの上面には回
転アーム39が固定され、これが回転アーム39
の駆動軸となつている。また、外筒軸40aから
突出した中軸40bの軸部分には回転アーム38
が固定されていて、これが回転アーム33の駆動
軸となつている。したがつて、これら回転アーム
38,39は独立に回動する。
これら回転アーム38,39は、それぞれヒン
ジシヤフト32cによりリンク結合された第1ア
ーム32aと第2アーム32bとからなり、第2
アーム32bは、第1アーム32aの先端側にお
いて回動可能となつている。
第2アーム32bの先端側には、ウエハを吸着
して保持する吸着チヤツク孔32(第1図参照)
が設けられていて、第2アーム32bは、第1ア
ーム32aより短く、回転アーム39に見るよう
に畳み込まれた状態にあるときには、吸着チヤツ
ク孔31が回動軸40に隣接する状態となる。ま
た、延びた状態を示す回転アーム38に見るよう
に、最も延びたときには、カセツトの中心より少
し手前に吸着チヤツク孔31が位置付けられるよ
うになつている。
ウエハ37をカセツトから取出すときは、1つ
のアームが前記回転アーム34に示す姿勢から前
記回転アーム38に示す姿勢となり、ウエハ37
を吸着して再び回転アーム39に示す状態に戻
る。その結果、ウエハ32がカセツトから回転し
ながら取出されることになる。また、ウエハ37
がカセツトに装填されるときには、ウエハ37を
吸着した状態で1つのアームが前記回転アーム3
9に示す姿勢から前記回転アーム38に示す姿勢
となり、ここで、吸着したウエハ37の吸着が解
除されて、ターンテーブル41が少し降下し、ウ
エハ37がカセツトに残されて再び回転アーム3
9に示す状態となる。その結果、ウエハ37がカ
セツトに回転しながら収納されることになる。な
お、第2図に見るように、第2アーム32bは、
回動軸40の上部に位置しているので、ウエハ3
2が第2アーム32bに吸着保持されているとき
には、ウエハ37は回動軸40の上部より上にな
る。
このような制御を行うために、第1アーム32
aと第2アーム32bとは内部でプーリとタイミ
ングベルトにより結合されていて、第2アーム3
2bの回転角が第1アーム32aの回転角θの倍
(=2θ)になるように設定されている。なお、こ
のように第1アーム32aに対して第2アーム3
2bが倍の角度をもつて第1アーム32aの先端
で連動して回動することにより第2アーム32b
の先端側の直線上を進退することになる。
第2図は、この機構を含むウエハハンドリング
機構1の全体的な図であつて、アンローダ側のカ
セツト35が図面裏側に位置し、アンローダ側の
カセツト34が図面右側に位置して、ローダ側の
カセツト33が図面手前側にある。そして、表面
状態測定ユニツト36が図面左上部に位置してい
る。
ウエハハンドリング機構31は、ターンテーブ
ル41が上下移動機構42のブラケツト42aに
固定されていて、ブラケツト42aがボールねじ
送り機構42bのボールナツト部分に結合されて
上下移動して、カセツトに収納されているウエハ
のうち下側のウエハ37から順次ウエハを取出
す。なお、カセツトにウエハ37を収納するとき
には逆になる。
図中、42cは、ボールねじ部分であつて、パ
ルスモータ43により駆動される。
ターンテーブル41は、下側に2つのパルスモ
ータ44,45を搭載していて、パルスモータ4
4が外筒軸40aを回転駆動し、パルスモータ4
5が中軸40bを回転駆動する。また、外筒軸4
0a及び中軸40bの回動を2倍にして第2アー
ム32b側に伝達するために、これら回動軸にプ
ーリ47,48が固設されていて、これらプーリ
47,48を回動させて、プーリ47,48にか
けられたタイミングベルト47a,48aにより
第2アーム回動用のプーリ(回転アーム38側の
プーリをプーリ49として示す。回転アーム39
側のプーリは図示せず)を介してヒンジシヤフト
32cを回動させ、もつて第2アーム32bを回
動させるものである。
ここで、カセツト33,34,35又は表面状
態測定ユニツト36に対する各回転アーム33及
び39の位置付けは、ターンテーブル41をパル
スモータ(図示せず)により回転させることで行
われる。
第3図は、表面状態測定ユニツト36のウエハ
載置機構1のウエハ載置テーブルを示している。
その回転テーブル2の中心と各カセツト33,3
4,35のウエハ37がセツトされたときの中心
を第1図では+符号で示しているが、これら+で
示す中心位置は、回動軸40の中心から等距離に
あつて、回転アーム38,39が走査(又は位置
決め)する同一外周に位置付けられている。
第1図に見る表面状態測定ユニツト6のウエハ
載置機構1は、第3図に見るように、直線移動機
構に載置されていて、第1図に示す位置から奥に
ある表面走査位置まで移動する。
このウエハ載置機構1は、X方向移動機構20
の上に支持台21を介して固定されていて、支持
台21は、Xテーブル22の部内部に配置されボ
ールスクリユー機構のボールナツト部23に結合
されている。スクリユー24は、ステツピングモ
ータ25により駆動されて、支持台21をX方向
に直線往復移動させて、ウエハ載置機構1をロー
ダ/アンローダ側(図面左端)から検査位置(第
3図に示する位置)まで移動させる。そして検査
位置では、その上部に配置された光学観測系(図
示せず)により、ウエハ載置機構1の回転テーブ
ル2上に吸着されたウエハ37を回転させた状態
で螺旋スキヤンして表面検査が行われる。
第4図は、ウエハ載置機構1の中心位置決め機
構を説明するものであつて、2は、その回転テー
ブルであつて、回転テーブル2の外側周囲にはリ
ング状のプレート3(以下リングプレート3)が
設けられていて、このリングプレート3には、円
形に配置された7個の回動アーム4,4,……が
均等な角度(約51.4度)で配置され、中央部に配
置された円筒支持体3aに嵌合して固定されてい
る。前記回転テーブル2は、この円筒支持体3a
の内部に空間を貫通して回転できるように配置さ
れている。
各回動アーム4は、回転テーブル2の中心に向
かつて連動して回動し、各回動アーム4の回動中
心となる軸4bとローラ4aの接触面までの距離
が等しくなつている。その結果、各回動アーム4
のローラ4aは、相互に虹彩絞りと同様な動作を
する。なお、円形に配置された各回動アーム4の
円の中心と回転テーブル2の中心とは一致してい
る。
リングプレート3は、第5図に示されるよう
に、回転テーブル2の外側でかつ下側に位置して
いて、回動アーム4の先端側に起立して設けられ
るローラ4aの側面が回転テーブル2に載置され
るウエハ37に対してその周囲に当接される位置
まで回転テーブル2に対して後退した位置にあ
る。
なお、回転テーブル1の表面には、多数の孔が
設けられていて、この孔を介してウエハ37が吸
着され、保持される。
第5図では、これら7つの回動アームのうちの
1つのみを示している(他の回動アーム同様であ
るので省略)。同図に見えるように、各回動アー
ム4は、クランク状をしていて、その回転中心と
なるローラ4aと反対側の端部は、軸4bに固着
され、軸4bがリングプレート3を貫通して、こ
れらに枢着されている。
リングプレート3の下側には、リング状の回転
板6が設けられていて、この回転板6に植設され
たピン6aがリンク7aの一方の端部に結合され
ている。リンク7aは、他端が軸7cで結合され
たリンク7bとの単リンクである。そして、回転
板6の回転に従つてリンク7bの他単に結合され
た軸8が回転し、この軸8が前記回動アーム4の
回転中心である軸4bに結合されているので、軸
8の回転が軸4bに伝達されて回動アーム4が第
4図の実線で示す位置から一点鎖線で示す位置ま
で回転させられることになる。
なお、以上は、1つの回動アーム4についての
説明であるが、第6図に示されるように、回転板
6には、7個の回動アーム4に対応して7個のリ
ンク7a,7bが設けられている。したがつて、
回転板6の回転により同時に7個の回動アーム4
が連動して回動することになる。
回転板6は、円筒支持体3aに回転できるよう
に嵌合して支持されていた、その回転は、ウエハ
載置機構1のローダ位置から検査位置へ移動する
ときに、移動開始のタインミグに合わせて発生す
る制御装置(図示せず)からの位置決め開始制御
信号を、第4図に示されるソレノイド、シリンダ
等のリニアなアクチユエータ5が受けて、溝付き
板カム9を前進移動又は後退移動させることでな
される。
ここで、溝付きカム9のカム溝9aには、レバ
ー10の端部に固定されたこのカムの従節となる
ころ10a(第5図参照、なお、説明の都合によ
り第5図ではレバー10側を省略している)が固
定されていて、レバー10は、第5図に見えるよ
うに、軸10bに枢着され、回転可能に支持され
ている。
軸10bは、リンクプレート3に固定されてい
て、第4図において、溝付き板カム9が図面左側
から右側へと前進することにより、レバー10の
端部に固定されたところ10aがカム溝9aと山
9bを登る。このとき、レバー10が反時計方向
に回転させられ、その軸10bを挟んで反対側も
反時計方向に回転する。そこで、この反対側にリ
ン結合されているレバー11が時計方向へと回転
して、その他端に結合部材12を介して枢着され
た回転板6を時計方向に回転させる。その結果、
各回動アーム4の軸4aが時計方向に回転して各
回動アーム4が回転テーブル2の中心に向かつて
回動する。なお、結合部材12と回転板6と結合
部材12に植設されているピン12a(第4図、
第6図参照)により回転できるように結合されて
いる。
ここで、溝付き板カム9は、この表面検査装置
のシヤーシ15に固定されたガイドレール13に
より案内され、戻りばね14を介してシヤーシ1
5側に引きつけられる方向に付勢されて復帰す
る。また、溝付き板カム9は、圧縮ばね16aを
有する押付けばね機構16によりガイドレール1
3側に常時押し付けられて進退する。したがつ
て、回動アーム4のローラ4aがウエハ37の外
周に接触したときには、回動アーム4の回転が阻
止されるので、このときには、レバー10の反時
計方向の回転も阻止され、その反作用で逆に、こ
ろ10aが押付けばね機構16の力に抗して溝付
き板カム9を外側(時計方向)へと回動させて、
山9bの斜面に位置付けられ、それ以上の回転力
を回動アーム4に加えないようにする。そして、
さらに溝付き板カム9が前進することにより、こ
ろ10aが山9bを越える。ころ10aが山9b
と越えると、反対側の溝側面(谷側)から力を受
けて、今度は、レバー10が時計方向に回転させ
られ、各回動アーム4は、元の初期状態に戻る。
ここで、円形に配置された各回動アーム4の円
の中心と回転テーブル2の中心とが一致している
ことから、上記の回動アーム4の回動動作によつ
て、ウエハ37は、回転テーブル2の中央に位置
付けられる。このとき、ウエハ32の外径が大き
ければ、この外径の大きさに応じて、ウエハ37
の周囲に接するところまで、回動アーム4が回動
し、その後は、前記ころ10aが溝付き板カム9
を外側へと回動させて、それ以上の回転力を回動
アーム4に加えない。
したがつて、ウエハ37を傷つけることはな
い。このようにして、ウエハ載置機構1の移動過
程でアクチユエータ5が作動して、ウエハ37が
回転テーブル2の中心に一致するように位置決め
された後、回動アーム4は、連動して逆方向に回
動して戻り、元の初期位置へと戻る。また、外径
が小さければ、それだけ山9bの頂上に近いとこ
ろでころ10aが溝付き板カムを外側へと回動さ
せることになり、中心への位置決めは小さい外径
のウエハにおいても同様にして行われる。なお、
第4図に示す一点鎖線の円37aは、8インチの
ウエハに対応した外径であり、円37bは、3イ
ンチのウエハに対応した外径を示している。
ここで、次に位置決めするときには、溝付き板
カム9がころ10aと溝の両側で係合しているの
で、単に溝付き板カム9を後退動作させれば、各
回動アーム4は、先と同様に動作して同様な中心
位置決めが可能である。また、一旦後退させてか
ら、前進動作により同様な位置決めをしてもよ
い。
なお、溝付き板カム9の山9bの高さは、ウエ
ハ37が回転テーブル2に載置されない状態でウ
エハ37の最小径より、少し中心方向に向かつて
内側へ各回動アーム4が3インチの外径37bよ
り内側の円37c(第4図の一点鎖線の円参照)
に位置決めされるように設定されている。
ところで、ウエハ37には、通常、位置決めの
ためのオリエンテーシヨンフラツト(以下、オリ
フラ)が設けられているが、前記のような外周に
円形状にローラを当てて位置決めする方式では、
ローラ4aがオリフラに当接される場合がある。
このようなときには、中心ずれが発生する。
通常、このオリフラは、2つ設けられていて、
第7図に示されるように、3インチ〜8インチま
での2つのオリフラの間隔を調べてみると、現在
までの各種の外径のウエハは、58度から61度の範
囲に入るように設計されている。そこで、この間
隔より小さい間隔に回動アーム4を配置すれば、
2つのオリフラに同時にローラ4aが接触するこ
とはないので、ウエハ37のオリフラがどの位置
へこようとも、中心への位置決めは可能である。
したがつて、実施例のように7個の回動アーム4
を均等配置すれば、その角度が前記の58度以下
(約51.4度)となり、ウエハ37がどのような角
度で回転テーブル2に載置されたとしても、回転
テーブル2の中心位置に位置決め可能である。
以上説明してきたが、実施例では、ウエハ装置
機構に回転テーブルが設けられているが、例え
ば、検査側の光学系の光ビームをスキヤンさせれ
ば、この載置テーブルは、回転テーブルである必
要がなく、光学系を固定としても、XYテーブル
用いてスキヤンしてもよい。したがつて、円形に
配置された複数の回動アームの中央部には、ウエ
ハを載置する台があればよく、しかも、それは円
形である必要はない。
実施例では、回動アームの先端にローラを起立
させて設けた例を挙げているが、これは、ピンで
もよく、また、回動アームから起立してウエハの
周面と接触する部材ならどのようなものであつて
もよい。
また、ローダ又はアンローダからウエハ載置テ
ーブルに置かれるウエハは、そのオリフラの位置
が全く方向性を持つていないわけではなく、方向
付けができるので、回動アームによる場合には、
3以上の回動アームによれば中心位置決めするこ
とができる。なお、中心位置決め機構はこのよう
な回動アームによる位置決め機構に限定されるも
のではない。また、回動アームを7以上を均等配
置すれば、58度以下となるので、ウエハの載置す
る方向を無視して、外径の相違するウエハの中心
位置決めができる利点がある。
実施例では、カセツトを前と左右に3つ設けて
いるが、これは左右2つだけであつてもよく、さ
らにローダ側のカセツトだけであつてもよい。
また、実施例のウエハハンドリング機構の回動
アームは、一例であつて、必ずしもこのような構
成に限定されるものではなく、さらに回動アーム
による必要もない。
[発明の効果] 以上の説明から理解できるように、この発明に
あつては、ウエハの中心位置決め機構をウエハ載
置テーブルと一体的に表面状態測定部に設けて、
表面状態測定部のウエハロード位置から検査位置
まで移動中に中心位置決めしているので、特別に
位置決めステージを独立して設ける必要がなく、
かつ移動中に位置決めが完了するので、位置決め
処理に要する時間分を短縮できる。その結果、ウ
エハ表面検査処理のスループツトが向上する。
しかも、中心位置決め機構をローダ側のカセツ
トと表面状態測定部との間に設ける必要がないの
で、ローダ側のカセツトと表面状態測定部とをウ
エハハンドリング機構に隣接して設けることが可
能であり、ウエハ表面検査装置全体を小型化でき
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明を適用したウエハ表面検査
装置の一実施例の平面概要図であり、第2図は、
ハンドリング装置を中心とする縦断面概要図、第
3図は、表面状態測定ユニツトのウエハ載置機構
を中心とする側面図、第4図は、その中心位置決
め機構を説明するためのウエハ載置機構の平面
図、第5図は、その一部省略正面図、第6図は、
回動アーム連動回動機構の説明図、第7図は、外
径の相違する各ウエハのオリフラの関係を示す説
明図である。 1……ウエハ載置機構、2……回転テーブル、
3……リング状のプレート、4……回動アーム、
4a……ローラ、4b,7c,8……軸、6……
回転板、7a,7b……リンク、9……溝付き板
カム、9a……カム溝9a、10,11……レバ
ー、10a……ころ、30……ウエハ表面検査装
置、31……ウエハハンドリング機構、32……
吸着チヤツク孔、32a……第1アーム、32b
……第2アーム、32c……ヒンジシヤフト、3
3,34,35……カセツト、36……表面状態
測定ユニツト、37……ウエハ、38,39……
回動アーム。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 カセツトからウエハを取出すウエハ取出アー
    ムを有するウエハハンドリング機構と、このウエ
    ハハンドリング機構に隣接して設けられ、前記ウ
    エハ取出アームによつて収納されているウエハが
    取出されるカセツトと、前記ウエハハンドリング
    機構に隣接して設けられ、前記ウエハ取出しアー
    ムから検査すべきウエハを受ける表面状態測定部
    とを備え、前記表面状態測定部は、ウエハロード
    位置において前記ウエハ取出しアームから検査す
    べきウエハを受けるウエハ載置テーブルと、この
    ウエハ載置テーブルに載置されたウエハに対して
    それより外側周囲に配置され前記ウエハ載置テー
    ブルの内側に向かつて移動し前記載置されたウエ
    ハの外周に当接してこのウエハの中心を前記ウエ
    ハ載置テーブルの位置決め中心に位置付ける当接
    部材を有する中心位置決め機構と、前記ウエハ載
    置テーブル及び前記中心位置決め機構を一体的に
    前記ウエハロード位置からウエハの表面検査位置
    まで移動させる移動機構とを有していて、前記表
    面検査位置において前記ウエハ載置テーブルに載
    置されたウエハの検査が行われ、前記中心位置決
    め機構が前記ウエハロード位置から前記表面検査
    位置に移動する過程で前記当接部材を前記ウエハ
    の周囲に当接させて前記ウエハの中心位置決めを
    行うことを特徴とするウエハ表面検査装置。 2 中心位置決め機構は前記当接部材としてウエ
    ハ載置テーブルの外側周囲に配置され、このウエ
    ハ載置テーブルの中心方向へ連動して回動する複
    数の回動アームを有していて、ウエハ取出しアー
    ムはカセツトと表面状態測定部との間で回動し、
    前記カセツトから取出したウエハを前記表面状態
    測定部に装填するものであり、ウエハ載置テーブ
    ルが受けて前記ウエハロード位置から前記表面検
    査位置に移動する過程で前記中心位置決め機構の
    複数の回動アームにより前記ウエハが前記ウエハ
    載置テーブルの中心に位置決されることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載のウエハ表面検査
    装置。 3 中心位置決め機構は4以上の回動アームがウ
    エハ載置テーブルの外側周囲に円形にかつその円
    の中心が前記ウエハ載置テーブルの位置決め中心
    に一致するように配置され、これら4以上の回動
    アームのうちの少なくとも2つは、ウエハのオリ
    フラの間隔を弦とする中心角より小さな中心角で
    隔てられ、各前記回動アームの先端側には、ロー
    ラ又はピン等の接触部材が起立して設けられてい
    て、前記4以上の回動アームの前記接触部材はそ
    れぞれ前記ウエハの外周に当接されるものであつ
    て、前記4以上の回動アームは、回動中心から前
    記接触部材のウエハ接触点又はウエハ接触面まで
    の距離が等しく、かつ連動して同じ方向に同じ量
    だけ回動することを特徴とする特許請求の範囲第
    2項記載のウエハ表面検査装置。 4 ウエハ載置テーブルは回動テーブルであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のウエ
    ハ表面検査装置。 5 回動アームは7個がほぼ均等な角度で配置さ
    れていることを特徴とする特許請求の範囲第4項
    記載のウエハ表面検査装置。
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