JPH0576544B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、ガラス板、金属板、シリコンウエハ
ー等のような平板状処理物の表面に、薄膜堆積、
エツチング等の処理を行なう場合に効果の著しい
真空処理装置に関する。

［従来の技術］ 第２図は従来の真空処理装置の概略の平面図を
示し、入口側ロードロツク室８、真空処理室１、
出口側ロードロツク室９、専ら被処理治具１４を
搬送するための、出口側ターンテーブル室１２、
返送搬送部２、入口側ターンテーブル室１１、真
空処理室１と両ロードロツク室間を開閉する内部
仕切弁３、両ロードロツク室と両ターンテーブル
室間を開閉する外部仕切弁１０、で構成されてい
る。

被処理物（図示せず）は出入扉１１０（この扉
は場所を選んで両ターンテーブル室の適宜場所に
設けることができる）を開いてＡ位置の被処理治
具１４上に載置され、被処理治具１４とともに図
のＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉ，Ａの各
位置を移動し、真空処理室１即ちＤ位置でその表
面が処理される。巡回が複数回行われ、処理が繰
り返され、または異なる処理が重畳されることが
多い。

１４０は、被処理治具１４を一時的に預かつ
て、それを回転させるために設けられたターンテ
ーブルである。

［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら上記のように、従来の装置では、
入口側ロードロツク室８、真空処理室１、出口側
ロードロツク室９以外に、被処理治具１４を戻す
ための出口側ターンテーブル室１２、入口側ター
ンテーブル室１１が必要であり、被処理物の被処
理面が大きくなるにつれて装置全体の設置面積が
大きくなる欠点があつた。

［発明の目的］ 本発明はこの問題を解決し、設置面積の小さい
真空処理装置の提供を目的する。

［問題点を解決する為の手段］ 上記目的を達成するために本発明では、ロード
ロツク室をそれに隣接する仕切弁から、シール材
を介して切り離し可能に構成するとともに、これ
を切り離してターンテーブル室に向けて接続し前
記被処理物を搬送可能とするようにしたロードロ
ツク室を設ける構成を採用している。

［作用］ ロードロツク室は前記従来装置と同様に、真空
処理室１の両側に配置されてロードロツク室の役
目を果たすが、そのロードロツク室は水平回転も
しくは水平移動またはその両方の動きをして、従
来のターンテーブル室を兼用する機能を持つてい
る。従つて、ターンテーブル室の占有していた面
積の一部（約半分）などが省略されることにな
る。

［実施例］ 第１図は本発明の実施例の真空処理装置の概略
の平面図である。

真空処理室１の両側に仕切弁２３，２５を接続
し、更にその両側に、Ｏリング１３によつて密閉
接続できる切り離し可能の入口側ロードロツク室
４と、同様の出口側ロードロツク室５を配置して
いる。

真空処理室１に平行して従来同様に返送搬送部
２が設けられており、その両側には面積の縮小さ
れたターンテーブル室６，７を接続している。そ
れらターンテーブル室には従来同様に出入扉１１
０、ターンテーブル１４０（個数は従来の半分）
が設けられている。

図示しない被処理物を載置した被処理治具１４
は、上記構成の各部を従来同様に処理されながら
移動、巡回して行く。

この実施例の装置の動作を説明すると、先ず出
入扉１１０が開かれて、大気圧状態のターンテー
ブル室６内でガラス基板、ウエハーなどの被処理
物が、ターンテーブル１４０上の被処理治具１４
に取り付けられる。次いで、ターンテーブル１４
０がターンテーブル室６の中で90°回転し、この
被処理治具１４を、図の下方、入口側ロードロツ
ク室４の方向に向ける。

この時、入口側ロードロツク室４（実線）は図
の４′（一点鎖線）の位置にある。即ち、入口側
仕切弁３から離れる方向に（図の左右に）水平移
動した後、上記90°回転して、その開口部４ａを
４a′の位置に移し、ターンテーブル室６の方向に
向けている。

さて、このロードロツク室４′の開口部４a′か
ら、ターンテーブル室６内の被処理治具１４をロ
ードロツク室４′内に移動させる。そして、被処
理治具１４を迎え入れたロードロツク室４′は、
室自身が90°水平回転して、その開口部４a′を入
口側仕切弁３の方向に向け、更に水平移動して、
もとの４の位置に戻り、ロードロツク室開口部４
ａをＯリング１３を介して入口側仕切弁２３に押
し付け、ロードロツク室４内を気密状態にする。

次いで図示しない真空ポンプで、この状態のロ
ードロツク室４内の空気を排気して真空にし、そ
の後、入口側仕切弁３を開けて、常時真空状態に
保たれている真空処理室１に被処理治具１４を移
動させる。

この真空処理室内１で例えば、被処理物の表面
に化学的気相成長法による膜付けを行なつた後
は、出口側仕切弁２５を通して、処理の終つた被
処理治具１４を、真空状態にして待機の姿勢にあ
る出口側ロードロツク室５に移動させる。

この後のロードロツク室５の動きは、先のロー
ドロツク室４の動きの逆である。

出口側仕切弁２５を閉じて出口側ロードロツク
室５内を大気圧に戻し、次いでロードロツク室を
水平移動させて仕切弁１５から離す。

内部に被処理治具１４を入れたままロードロツ
ク室５は水平に90°回転して、その開口部５ａを
ターンテーブル室７の方向に向け、被処理治具１
４をターンテーブル室７内に移動し、ターンテー
ブル室７内では、被処理治具１４を回転させて水
平位置に保持し、そして返送搬送部２を通つて入
口側ターンテーブル室６に戻すのである。

この移動と処理の繰り返しの後、被処理治具１
４上の被処理物は出入扉１１０を開いて装置外に
取り出される。

このようにロードロツク室４，５に、移動およ
び方向変換の機能を持たせることにより、従来の
ロードロツク室の外側に設置されていたターンテ
ーブル室の設置面積を削滅でき、更に、ロードロ
ツク室とターンテーブル室間の外部仕切弁も不要
になる。

［発明の効果］ 本発明によれば、装置の設置面積の小さい真空
処理装置が提供される。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の実施例の真空処理装置の概
略の平面図。第２図は、従来の真空処理装置の概
略の平面図である。 １……真空処理室、２……返送搬送部、３……
内部仕切弁、４……入口側ロードロツク室、５…
…出口側ロードロツク室、６……入口側ターンテ
ーブル質、７……出口側ターンテーブル室、８…
…入口側ロードロツク室、９……出口側ロードロ
ツク室、１０……外部仕切弁、１１……入口側タ
ーンテーブル室、１２……出口側ターンテーブル
室、１３……Ｏリング、１４……被処理治具、１
４０……ターンテーブル、２３……入口側仕切
弁、２５……出口側仕切弁、１１０……出入扉。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 真空処理室の入口側と出口側にそれぞれ仕切
   弁を介して排気系を設備したロードロツク室を備
   え、更にそれらロードロツク室の外側に、それぞ
   れターンテーブルを内蔵しターンテーブル室と、
   それらターンテーブル室を連絡する搬送室を備
   え、これら各室間を、被処理物を移動乃至巡回さ
   せるようにした真空処理装置において、前記ロー
   ドロツク室をそれに隣接する前記仕切弁から、シ
   ール材を介して切り離し可能に構成するととも
   に、これを切り離してターンテーブル室に向けて
   接続し、前記被処理物を搬送可能とする如く構成
   したことを特徴とする真空処理装置。