JPH0575647B2 - - Google Patents

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JPH0575647B2
JPH0575647B2 JP58123282A JP12328283A JPH0575647B2 JP H0575647 B2 JPH0575647 B2 JP H0575647B2 JP 58123282 A JP58123282 A JP 58123282A JP 12328283 A JP12328283 A JP 12328283A JP H0575647 B2 JPH0575647 B2 JP H0575647B2
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JP
Japan
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wafer
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chuck
gas
transfer
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JP58123282A
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Takeshi Oyamada
Fumio Arai
Kimio Muramatsu
Takeo Yoshii
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Hitachi Ltd
Hitachi High Tech Corp
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Hitachi Ltd
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G51/00Conveying articles through pipes or tubes by fluid flow or pressure; Conveying articles over a flat surface, e.g. the base of a trough, by jets located in the surface
    • B65G51/02Directly conveying the articles, e.g. slips, sheets, stockings, containers or workpieces, by flowing gases
    • B65G51/03Directly conveying the articles, e.g. slips, sheets, stockings, containers or workpieces, by flowing gases over a flat surface or in troughs

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は被搬送物である円形(オリエンテーシ
ヨン・フラツト部分を除く)の半導体ウエハ(以
下単にウエハという)を浮上させた状態で搬送さ
せる搬送技術であつて、特に搬送開始ステーシヨ
ン部分に適用して有効な技術に関する。
〔背景技術〕
一般に被搬送物を浮上させながら搬送する装置
として、エアベアリングあるいはエアトランスフ
ア等と称される搬送装置が知られている。そし
て、このエアベアリングは非接触状態で被搬送物
の搬送ができることから、たとえば、電子材料
(1974年2月号)の81頁あるいは自動化技術第14
巻第5号の26頁にも記載されているように、半導
体装置の製造において取り扱われる半導体薄板
(ウエハ)の搬送にも使用されている。この搬送
はウエハにホトレジストを塗布する装置を始めと
して、現像、検査、露光、熱処理装置等にも適用
されている。
本出願人はウエハの搬出系に前記エアベアリン
グを用いた露光装置(アライナ)を開発した。こ
のアライナでは第1図に示すように、露光時にウ
エハ1を保持するウエハチヤツク2に複数の噴射
孔3を設け、ウエハチヤツク2からウエハ1を搬
出する際は、ウエハチヤツク2の支持面に設けた
真空吸着溝4の真空を断つた後、噴射孔3からエ
ア5を噴出させ、第2図に示すようにこれら噴出
圧でウエハ1を浮かせる。各噴射孔3は同一方向
に傾斜(45°)しているため、ウエハ1は浮上状
態でウエハチヤツク2上を移動し、隣接する搬出
用ベルトコンベア6上に移り、搬出用ベルトコン
ベア6の先端に配置された図示しないカートリツ
ジに順次収容される。前記ウエハチヤツク2には
第1図に示すように2列に噴射孔3が配設される
とともに、ウエハ1の進行側端中央部にも搬出用
ベルトコンベア6に円滑にウエハ1が移るように
噴射孔7が設けられている。
しかし、このようなウエハチヤツク2では、感
光処理されたウエハ1のウエハチヤツク2からの
離脱搬送時にウエハ1の進行側の先端(以下、単
に先進端と称す。)は浮上力を得るが、ウエハ1
の先進端の逆の端(以下、単に後端と称す。)は
ウエハ1が円形であることから、その突出端に直
接エアが当接しないため浮上せずウエハチヤツク
2から離脱せずウエハ1が第2図の二点鎖線で示
すように傾斜してしまう。この結果、ウエハ1が
ウエハチヤツク2との接触点を中心に回動してし
まうウエハ1の浮上送り出しができなくなつたり
する問題点が生じたり、あるいはウエハ1のウエ
ハチヤツク2からの離脱をピンセツトにて修正処
理する手作業において、ピンセツトでウエハ1を
挾んだ際、力の加わり様によつては脆性物質から
なるウエハ1に傷が付いたり欠けたりするウエハ
損傷現象が生じ易いという問題点が生じたりする
ことが本発明者によつてあきらかとされた。
〔発明の目的〕
本発明の目的は円形のウエハであつてもその搬
送後端が確実に浮上され、円形のウエハの搬送開
始が確実に行なえる気体浮上式の搬送技術を提供
することにある。
また、本発明の他の目的は脆性物質であるウエ
ハを気体浮上搬送する搬送技術における搬送開始
不良修正作業時にウエハがその搬送開始不良修正
作業によつて破損することを防止し、歩留の向上
を図ることにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な
特徴は、本明細書の記述および添付図面からあき
らかになるであろう。
〔発明の概要〕
本願において開示される発明のうち代表的なも
のの概要を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
すなわち、本発明の搬送装置は、ウエハチヤツ
クに設けた気体噴出による搬送装置によつて、ウ
エハチヤツク上に載置されていたウエハを搬出系
に送り出すに際して、移送開始シテーシヨンとな
るウエハチヤツクのウエハの移送進行方向に対し
て後端となる部分において気体噴射または機械的
手段による突上げ機構によつてウエハの後端中央
部を垂直方向上方に突き上げ、ウエハ全体をウエ
ハチヤツクから瞬時に浮き上がらせ、各噴射孔か
ら噴射される気体によつてウエハを搬出系に送り
出すことを特徴とする。この構成によりウエハの
一部は、ウエハチヤツクに接触することがなく、
回動することがなくなることにより、ウエハの搬
送が確実に達成できることになる。また、ウエハ
の搬送が確実に行なえることから、ウエハをピン
セツト等で挾んで搬送の適正化を図る修正作業が
不要となる。それゆえウエハが破損することもな
くなり、歩留の向上が図れる。
このようにしてウエハの搬送開始作業が確実に
行われた後は、ウエハは安定した水平状態となつ
ているので、ウエハチヤツクの搬送路面に、円形
のウエハの搬送方向に沿つて複数の列をなして配
設された気体噴射孔からウエハの搬送方向に向か
つて斜めに噴き出されるウエハ搬送用の気体によ
つて、ウエハは傾斜することなく円滑に搬送され
る。
実施例 1 第3図は本発明をアライナ(露光装置)に適用
した例を示す一部概略平面図、第4図は同じくウ
エハチヤツクにおけるウエハの搬出系を示す概略
断面図、第6図は第5図の−線に沿う断面
図、第7図は第5図の−線に沿う断面図であ
る。
この実施例では、第3図に示すように、ウエハ
1を収容したカートリツジ8から搬入用ベルトコ
ンベア9によつて順次1枚ずつウエハ1を取り出
してプリアライメント・ステージ10上に供給す
る。このプリアライメント・ステージ10ではウ
エハ1はその外周の一部に設けられた直線からな
るオリエンテーシヨン・フラツト11が利用され
て常用の方向決め機構(図示せず)によつてウエ
ハ1の方向決めおよび位置決めが行なわれる。プ
リアライメント・ステージ10で方向決めが成さ
れたウエハ1は支軸12を中心にして左右回動す
る転送アーム13の先端に取り付けられたベルヌ
ーイチヤツク14によつて保持され、アライメン
ト・ステージであるウエハチヤツク2上に転送さ
れる。ウエハチヤツク2は第4図のように昇降機
15の昇降アーム16に支持さるとともに、この
昇降機15は水平XY方向および回転(θ)方向
に調整可能な制御テーブル17上に固定されてい
る。そして、ウエハチヤツク2はウエハ1が供給
される際は第4図の実線で示すように降下した位
置にあり、ウエハ1が供給されるとマスクとのア
ライメントのために二点鎖線に示すようにわずか
に上昇する。また、アライメント終了後にウエハ
1は光学系18によつて上面に塗布した図示しな
いホトレジスト膜を感光される。その後、ウエハ
1は昇降機15の降下動作によつてウエハチヤツ
ク2に支持された状態で降下し、後述するウエハ
チヤツク2の搬送動作によつて搬出用ベルトコン
ベア19上に送り出される。搬出用ベルトコンベ
ア19上のウエハ1は搬出用ベルトコンベア19
によつて順次カートリツジ8に収容される。
ここで、ウエハ1のカートリツジ8への搬出入
機構について説明する。搬出入機構は構成部材は
同一であるが、搬入、搬出動作は相互に逆となる
だけである。第4図は搬出機構について示したも
のである。すなわち、ウエハ1を多段に収容する
カートリツジ8は上下部分がH断面となる中空の
箱型となり、1対の側壁面に設けた図示しない収
容溝にウエハ1の周縁部分を挿入する構造となつ
ている。このカートリツジ8はモータの正逆回動
によつて昇降する昇降アーム20に支持されてい
る。また、ウエハ1をカートリツジ8に移送する
搬出用ベルトコンベア19の先端はカートリツジ
8の側方から内部に突入するようになつている。
また、この搬出用ベルトコンベア19の先端延長
線上には自由に転動するガイドコンベア21が配
設されている。このガイドコンベア21は同様に
カートリツジ8内に位置するようになつている。
したがつて、カートリツジ8を昇降させると、カ
ートリツジ8の上・下部のH字構造断面の中央の
連結棒22は搬出用ベルトコンベア19とガイド
コンベア21との間を移動するようになつてい
る。ウエハチヤツク2上のウエハ1を搬出用ベル
トコンベア19によつてカートリツジ8に搬送す
る場合、空のカートリツジ8を昇降アーム20に
取り付けた後、昇降アーム20を降下させて空の
カートリツジ8を最も低い位置にセツトする。そ
して、搬出用ベルトコンベア19によつてウエハ
1をカートリツジ8内に送り込む。ウエハ1はカ
ートリツジ8の最上段の1対の収容溝内に送り込
まれる。この際、搬出用ベルトコンベア19から
外れたウエハ1の先進端部分はガイドコンベア2
1上に載り、搬出用ベルトコンベア19の送りに
よつて移動するため、ウエハ1はカートリツジ8
の中央に進む。1枚のウエハ1の収容が終了する
と、カートリツジ8は一段上昇し、次のウエハ1
は上から二段目の収容溝に収容される。このよう
にして、搬出にあつては、ウエハ1はカートリツ
ジ8内に順次上方から下方に向かつて収容され
る。同様にウエハ1の搬入を行なう場合には搬入
用ベルトコンベア9はカートリツジ8内からウエ
ハ1を引き出すような方向に動き、下から順次ウ
エハ1を引き出す。
つぎに、第5図〜第7図を参照しながらウエハ
チヤツク2について説明する。ウエハチヤツク2
はウエハ1を載置する支持面は平坦な面となり、
中央に真空系に連結される真空孔23が設けられ
ている。また、ウエハチヤツク2の支持面には前
記真空孔23を中心として6方向に延在する真空
吸着溝4が設けられていて、ウエハチヤツク2上
に載置されたウエハ1は真空系の作動によつてウ
エハ1を真空吸着保持するようになつている。
また、ウエハチヤツク2の支持面には搬送方向
に沿つて2列に亘つて噴射孔3が穿設されてい
る。また、第1図と同様にウエハ1の進行端部に
対面して噴射孔7が設けられている。これら噴射
孔3,7は、第6図および第7図に示されている
ように45°に傾斜し、ウエハチヤツク2上のウエ
ハ1を搬出用ベルトコンベア9上に送り出すよう
に気体(たとえば空気;エア5)を噴出するよう
になつている。また、このウエハチヤツク2はウ
エハチヤツク2上に静止するウエハ1の後端部を
上方に突き上げるように気体を噴出する(支持面
に対して90°)上昇用噴射孔24を有している。
また、前記各噴射孔3,7,24は導孔25を介
して相互に連通するとともに、供給口26から圧
縮した空気5を供給されるようになつている。こ
の圧縮空気の供給はウエハ1をウエハチヤツク2
から送り出す際に行なわれ、ウエハ1の真空吸着
が解放された後に行なわれる。そして、ウエハ1
の送り出し時には上昇用噴射孔24からのエア5
の噴射は他の各噴射孔3,7の噴射と同期して行
なわれる。この結果、ウエハ1は搬送系の噴射孔
3,7によるエア流によつてウエハチヤツク2の
支持面から浮上して移動を開始するが、これと同
期してウエハ1の後端も上昇用噴射孔24から噴
射されるエアによつてウエハチヤツク2の支持面
から同時に浮上し、円滑な発進が行なわれること
になる。したがつて、第1図に示すウエハチヤツ
クの場合必要とした搬送開始(発進)不良修正作
業も不要となり、作業性が向上するとともに、修
正作業に伴なうウエハ1の損傷も防止できるよう
になる。
以上のようにしてウエハ1の搬送開始(発進)
作業が確実に行われた後は、ウエハ1は既に安定
した水平状態になつているので、ウエハ1が突上
げ機構である上昇用噴射孔24からの影響を受け
なくなつても、2列の噴射孔3からウエハ1の搬
送方向に向かつて斜めにウエハ搬送用の気体が噴
出されていることにより、ウエハ1は傾斜するこ
となく水平姿勢のままで搬出用ベルトコンベア1
9の方向に円滑に搬送される。また、噴射孔7か
らウエハ1の搬送方向に向かつて斜めに気体が噴
出されているので、ウエハ1はウエハチヤツク2
の上から搬出用ベルトコンベア19の上に円滑に
移載されることができる。
実施例 2 第8図は本発明の他の実施例によるウエハチヤ
ツクの断面図である。この実施例ではウエハ1の
後端を押し上げる突上げ機構としては、前記実施
例の気体噴射に替えて機械的な構造とした。すな
わち、ウエハチヤツク2にマイクロシリンダ27
を組み込み、ウエハ1のエアー搬送と同期させて
作動させ、突出したロツド28でウエハ1の後端
を突き上げ、ウエハ1の発進時にウエハ全体がウ
エハチヤツク2の支持面から離反して同時に浮上
するようにし、ウエハ1の発進が円滑となるよう
にした。
したがつて、本実施例2においても、前記実施
例1と同様に、ウエハ1の搬送開始(発進)作業
は確実かつ円滑に行われ、また、その後のウエハ
1の搬送も2列の噴射孔3からの気体の噴出によ
つてウエハ1が傾斜することなく円滑に行われ、
しかも噴射孔7からの気体の噴射によつてウエハ
チヤツク2の上から搬出用ベルトコンベア19の
上へのウエハ1の移載も円滑に行われる。
〔効果〕
(1) 本発明によれば、略中央に真空系に連通され
る真空孔が設けられかつ該真空孔を中心として
搬送路面上に外側方向に延在する真空吸着溝を
有するウエハチヤツクを備え、かつその搬送路
面に複数の気体噴射孔が円形のウエハの搬送方
向に沿つて複数の列をなして配設され、それら
気体噴射孔からウエハの搬送方向に向かつて斜
めに噴き出されたウエハ搬送用の気体によつて
ウエハを浮かせた状態で搬送路の所定方向に沿
つて搬送するように構成された半導体ウエハの
搬送装置であつて、前記ウエハチヤツクには、
前記ウエハ搬送用の気体の噴出と同期して前記
搬送路面上のウエハの搬送方向に対して反対側
のウエハ後端中央部を垂直方向に突き上げる突
上げ機構が設けられていることにより、被搬送
物である円形のウエハは、ウエハ搬送用の気体
の噴出と同期して突上げ機構によつてその後端
中央部を垂直方向に突き上げられるので、ウエ
ハはオリエンテーシヨン・フラツト部分を除い
てその円状が円形であるにもかかわらず、全体
がバランス良く搬送路面から浮上され、従来の
ようにウエハの後端が搬送路面に接触してウエ
ハが回動されることによりウエハの浮上送り出
しができなくなることを阻止でき、ウエハの搬
送開始を円滑かつ確実に行うことができる。
(2) 上記(1)のように、円形のウエハの搬送開始が
確実に行なえることから、搬送開始不良が発生
せず、装置の稼働率向上が図れる。たとえば、
第1図のウエハチヤツクの場合では搬送開始不
良発生率は14%にも達したが、本発明によれば
略0%にすることができた。
(3) 上記(2)のように、ウエハの搬送開始不良発生
率を略0%とすることができるため、搬送開始
不良発生に伴なう修正作業での被搬送物の取り
扱い中での破損も起きなくなり、歩留が向上す
る。
(4) 上記(1)〜(3)により、稼動率向上、歩留向上が
図れるため、処理コストの低減が図れ、安価な
製品の供給が可能となる。
(5) 本発明においては、ウエハの搬送開始作業が
上記の如く確実かつ円滑に行われた後にはウエ
ハは既に安定した水平状態になつているので、
その後も、ウエハチヤツクの搬送路面に、円形
のウエハの搬送方向に沿つて複数の列をなして
配設された複数の気体噴出孔からウエハの搬送
方向に向かつて斜めに噴き出されるウエハ搬送
用の気体によつて、ウエハは傾斜することなく
水平姿勢のままで円滑に搬送される。
以上本発明者によつてなされた発明を実施例に
もとづき具体的に説明したが、本発明は上記実施
例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。
たとえば、ウエハの搬送路は細長板状のもので
あつてもよい。そして、この場合にはその一部が
搬送開始ステーシヨンとなるであろうことから、
その搬送開始ステーシヨンに前記実施例のような
突上げ機構を設け、円滑確実な搬送開始を行なう
ようにする。
また本実施例では、各噴射孔3,7,24は導
孔25と連通しているが、噴射層3,7と上昇用
噴射孔24の導孔は別々であつてもよい。この場
合、上昇用噴射孔24から噴射されるエア流の圧
力は、噴射孔3,7から噴射されるエア流の圧力
より少々高くしてもよい。
〔利用分野〕
以上の説明では主として本発明者によつてなさ
れた発明をその背景となつた利用分野であるアラ
イナにおける搬送技術に適用した場合について説
明したが、それに限定されるものではなく、たと
えば、ウエハに各処理を施こす技術におけるウエ
ハの搬送に適用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本出願人の開発によるアライナのウエ
ハチヤツク部分を示す平面図、第2図は同じくウ
エハ搬送装置を示す一部断面図、第3図は本発明
をアライナに適用した例を示す一部概略平面図、
第4図は同じくウエハチヤツクにおけるウエハの
搬出系を示す概略断面図、第5図は同じくウエハ
チヤツク部を示す拡大平面図、第6図は第5図の
−線に沿う断面図、第7図は第5図の−
線に沿う断面図、第8図は他の実施例によるウエ
ハチヤツクの断面図である。 1……ウエハ、2……ウエハチヤツク、3……
噴射孔、4……真空吸着溝、5……エア、6……
搬出用ベルトコンベア、7……噴射孔、8……カ
ートリツジ、9……搬入用ベルトコンベア、10
……プリアライメント・ステージ、11……オリ
エンテーシヨン・フラツト、12……支軸、13
……転送アーム、14……ベルヌーイチヤツク、
15……昇降機、16……昇降アーム、17……
制御テーブル、18……光学系、19……搬出用
ベルトコンベア、20……昇降アーム、21……
ガイドコンベア、22……連結棒、23……真空
孔、24……上昇用噴射孔、25……導孔、26
……供給口、27……マイクロシリンダ、28…
…ロツド。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 略中央に真空系に連通される真空孔が設けら
    れかつ該真空孔を中心として搬送路面上に外側方
    向に延在する真空吸着溝を有するウエハチヤツク
    を備え、かつその搬送路面に複数の気体噴射孔が
    円形の半導体ウエハの搬送方向に沿つて複数の列
    をなして配設され、それら気体噴射孔から半導体
    ウエハの搬送方向に向かつて斜めに噴き出された
    ウエハ搬送用の気体によつて半導体ウエハを浮か
    せた状態で搬送路の所定方向に沿つて搬送するよ
    うに構成された半導体ウエハの搬送装置であつ
    て、前記ウエハチヤツクには、前記ウエハ搬送用
    の気体の噴出と同期して前記搬送路面上に半導体
    ウエハの搬送方向に対して反対側のウエハ後端中
    央部を垂直に突き上げる突上げ機構が設けられて
    いることを特徴とする半導体ウエハの搬送装置。
JP12328283A 1983-07-08 1983-07-08 半導体ウェハの搬送装置 Granted JPS6015318A (ja)

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JPS6015318A JPS6015318A (ja) 1985-01-26
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63201808A (ja) * 1987-02-18 1988-08-19 Nikon Corp アライメント装置
DE69132324T2 (de) * 1990-11-16 2001-01-04 Watanabe Shoko Tokio Tokyo Kk Methode zum Transportieren von Substraten mit plattenförmiger Grundlage

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51106985A (ja) * 1971-01-13 1976-09-22 Motsuchi Ando Meriiuezaa Mashi Eakonbea

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