JPH0573969A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 光吸収層内周端の位置制御の精度を向上させ
ることによって記録容量の低下を少なくし、安定した情
報の読み出しができる光記録媒体を製造すること。 【構成】 ＲＯＭ部を形成すべき円形基板の中心部を残
して外周部のみにスピンコーティングにより光吸収層を
形成し、次に基板全面に反射層を形成する光記録媒体の
製造方法において、スピンコーティングする前に、中心
部にマスクをし、外周部のみに紫外線を照射することに
よって、スピンコートする塗布液に対する親和性を変化
させることによって、コーティング領域の境界を鮮鋭に
形成する方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体、特に基板
中心部にＲＯＭ部を有し、かつ、ＣＤ規格に準じた信号
の記録再生が可能な追記型ＣＤに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、基板上に光吸収層をスピンコート
形成した光記録媒体がコンピューター用外部メモリとし
て開発され、実用化に至っている。

【０００３】また、近年基板上に光吸収層をスピンコー
ト形成し、さらにこの上に金属反射層を積層した構成の
高反射率光記録媒体が、市販のコンパクトディスク
（Ｃ．Ｄ．）プレーヤーで再生可能な追記型Ｃ．Ｄ．媒
体として研究、開発されている。この種の媒体は光吸収
層をスピンコートにより形成しているので、従来の真空
製膜方法で光吸収層を形成した場合に比べ、低いコスト
で媒体を製造できるという利点がある。

【０００４】しかし、その反面スピンコート方法は、真
空製膜方法に比べ、光吸収層を形成する領域を自由に制
御できないという欠点も有している。

【０００５】すなわち、スピンコート方法では、光吸収
層の形成位置は、光吸収層の内周端位置でしか制御でき
ず、真空製膜方法におけるマスク製膜のように、任意の
光吸収層端位置を制御することができない。

【０００６】また、内周端位置の制御についても、スピ
ンコート時に塗布液が基板上で内周側に流れたり、はね
たりすることにより、制御性能が悪く、通常は設定内周
端近傍の２〜３mmの領域で所望の特性が得られないとい
う問題があった。

【０００７】さらには、近年内周部にＲＯＭ部を有する
光記録媒体において、ＲＯＭ部と記録可能領域を光吸収
層の塗りわけにより形成する方法が提案されているが
（特開平２−４２６５２）、このような媒体の光吸収層
を従来のスピンコート方法により形成した場合、上述の
ように光吸収層の内周端位置制御が困難であるため、Ｒ
ＯＭ部と記録可能領域の間に２〜３mm程度の使用不可能
な領域が形成されてしまい、記録容量が低下すること
や、使用不可能な領域を情報読み出し装置で走査した場
合にこの領域は、ＲＯＭ部や記録可能領域と特性（反射
率など）が異なるため、フォーカスやトラッキングの制
御ができず、エラーを発生してしまうという問題があっ
た。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点に
鑑み、スピンコート方法により光吸収層を形成する光記
録媒体の製造方法において、光吸収層内周端の位置制御
精度のよいスピンコート方法を用いることにより、記録
容量の低下が少なく、安定した情報の読み出しを行うこ
とができ、外観にも優れた、内周部にＲＯＭ部を有する
光記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明においてはディス
ク基板上の光吸収層を設ける領域とそれ以外の領域とで
あらかじめ塗布液の濡れ性を異ならせておくことによ
り、光吸収層内周端の位置精度を確保する。

【００１０】濡れ性を異ならせるには ｉ）光吸収層を設ける領域の濡れ性を何らかの処理によ
り向上させる。

【００１１】ii）光吸収層を設けない領域の濡れ性を何
らかの処理により低下させる。

【００１２】の２つの方法がある。

【００１３】ｉ）の具体例としては ・塗布液の溶媒あるいは他の溶媒により所定の領域を塗
布直前に洗う。

【００１４】・所定の領域に紫外線等の活性エネルギー
線を照射する。

【００１５】等が挙げられる。

【００１６】ii）の具体例としては ・所定の領域に活性分子（例えばヨウ素ガス）を作用さ
せ表面の官能基の活性をなくす。

【００１７】・所定の領域にテフロン被覆等濡れ性の悪
い被覆を薄く設ける。

【００１８】等が挙げられる。

【００１９】

【実施例】以下実施例によって、本発明を具体的に説明
する。

【００２０】実施例１ 基板表面の半径２３〜４０mmの範囲に幅約０．６μｍ、
深さ約８００Åピッチ約１．６μｍのプレピット領域を
有し、半径４０〜５８mmの範囲には溝幅約０．８μｍ、
深さ約７００Åトラックピッチ約１．６μｍプリグルー
ブ領域を有するポリカーボネート射出成形基板を用意し
た。一方、次式で表わされる色素を２，２，２−トリフ
ルオロエタノールに溶解して塗布液を用意した。

【００２１】

【化１】

【００２２】先ず上記基板の半径４０mmより内側の部分
をマスクして基板にｄｅｅｐ ＵＶ光を照射した。つい
で、基板をスピナにセットし上記塗布液をノズルより滴
下してスピンコートにより上記色素の薄膜層を設けた。
スピンコートの際ノズルは塗布液を滴下しながらディス
ク外周よりゆっくり内周側に移動し半径４０mmの近傍で
２〜３秒停止したまま塗布液滴下を続けその後滴下を停
止した。塗布液はｄｅｅｐ ＵＶ処理による濡れ性の異
なる境界線できれいに塗り分けられた。スピンコート後
ディスクの全面にＡｕを約８００Å蒸着し、更にその上
に紫外線硬化樹脂による保護層を設け光記録媒体とし
た。

【００２３】この媒体を線速１．３ｍ／ｓｅｃ、再生レ
ーザパワー０．５ｍＷ（λ＝７８０ｕｍ）Ｎ．Ａ．＝
０．５の条件で読み出し、半径４０mm付近の再生波形を
観察して、反射レベルの変化から使用不可能な領域の幅
ｘを測定したところ１mm以内であった。一方、ｄｅｅｐ
ＵＶ処理を施さなかった場合ｘは２〜５mmであった。

【００２４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光吸収層内周端の位置を高精度に作製することができる
ので、ＣＤ媒体の記録容量を充分大きくすることができ
る。更に、安定した情報の読み出しができる光記録媒体
を作製できる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ＲＯＭ部を形成すべき円形基板の中心部
   を残して外周部のみに、直接又は他の層を介して、スピ
   ンコーティングにより光吸収層を形成し、次に、この円
   形基板全面に、直接又は他の層を介して反射層を形成す
   ることによって、中心部にＲＯＭ部を有する光記録媒体
   を製造する方法において、スピンコーティングをする前
   に、基板上の光吸収層を設ける領域とそれ以外の領域の
   塗布液に対する濡れ性が異なるような処理を施すことを
   特徴とする光記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】 基板上の光吸収層を設ける領域とそれ以
   外の領域の塗布液に対する濡れ性が異なるような処理方
   法が何れかの領域に紫外線等の活性エネルギーを照射す
   る方法であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒
   体の製造方法。