JPH0572126A - 所定の間隔に配置されている薄膜の屈折率の測定装置 - Google Patents

所定の間隔に配置されている薄膜の屈折率の測定装置

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JPH0572126A
JPH0572126A JP25976091A JP25976091A JPH0572126A JP H0572126 A JPH0572126 A JP H0572126A JP 25976091 A JP25976091 A JP 25976091A JP 25976091 A JP25976091 A JP 25976091A JP H0572126 A JPH0572126 A JP H0572126A
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Japan
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groove
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recording
tracking
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JP25976091A
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English (en)
Inventor
Eiji Nakagawa
栄治 中川
Toshiki Kasai
利記 河西
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Victor Company of Japan Ltd
Original Assignee
Victor Company of Japan Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 光ディスクにおける記録済み記録層の屈折率
も容易に測定できるような屈折率の測定装置を得る。 【構成】 透明基板の一方の面に所定のピッチで実質的
に矩形断面形状を有する溝中に屈折率の測定対象物が充
填されていて、前記の溝の配列パターンにより形成され
ている回折格子が、前記の透明基板に対して予め定めら
れた波長を有するレーザ光束が入射されたときに発生し
た各次数の回折光における0次回折光の光強度と、1次
回折光の光強度と、2次回折光の光強度とを個別に測定
し、前記した0次,1次,2次の各回折光の光強度を用
いて透明基板に設けられている溝の深さを算出し、次
に、前記した溝の深さに基づいて薄膜の屈折率を算出す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は所定の間隔に配置されて
いる薄膜の屈折率の測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、屈折率の測定は例えば楕円偏光計
を用いて行なわれていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記した楕円
偏光計によって屈折率の測定を行なう場合には、被測定
物としては屈折率の測定時に被測定物に投射される光束
の径よりも大きな面積にわたって測定の対象にされるべ
き屈折率を示すような状態のものでないと測定ができな
いので、例えば、有機色素を含む記録材料を用いて構成
されている記録層に情報記録用のレーザ光を照射して、
前記した記録層の構成材料の屈折率を変化させることに
より、情報信号の記録再生を行なうようにされている光
ディスクにおける記録済みの部分の記録層の屈折率を知
ることが必要とされても、光ディスクにおける記録部分
は例えば、ミクロンオーダー、またはサブミクロンオー
ダーで分断されているような状態のものになされている
ために、前記した楕円偏光計を用いても前記の記録済み
記録層の屈折率を測定することはできなかった。前記の
ような問題点は光ディスクの場合に限らず、光集積回路
の場合でも問題になることが考えられるが、以下に、光
ディスクの場合を例にとって前記した問題点をより一層
具体的に説明することにする。
【0004】各種の情報信号を高い記録密度で記録する
ことについての要望が高まるのにつれて、色々な構成原
理や動作原理に基づいて作られた情報記録媒体を用いて
情報信号の高密度記録再生が行われるようになったが、
近年、安定な動作を行なう半導体レーザが容易に得られ
るようになったのに伴い、レーザ光を用いて高密度記録
再生を行なうようにした各種の光学的記録媒体円盤(光
ディスク)が既に実用化されたり、あるいは実用化のた
めの研究開発が行われており、例えば幾何学的な凹部あ
るいは凸部として形成されているピットにより情報信号
が記録された原盤から大量に複製された記録済み光ディ
スク(再生専用の光ディスク)が、例えばビデオ・ディス
クやコンパクト・ディスク等として一般家庭にも普及し
ている他、1回だけユーザが追加して記録できる光ディ
スク(追記型光ディスク)や消去可能な光ディスクなど
が、例えばオフィス用ファイルメモリ、その他の用途に
おける実用化のために盛んな研究開発が行なわれてい
る。
【0005】前記のコンパクト・ディスクは周知のよう
に光ディスクの信号面に情報信号と対応するピットの配
列によって、情報信号が高密度記録されている形態の記
録済みの光ディスクであって、再生時に用いられる78
0nmの光の波長に対して特定な関係に設定されている
深さのピットの配列によって情報信号が信号面に記録さ
れているとともに、それの信号面の全面がアルミニウム
等の薄膜によって被覆された構成となされていて、波長
が780nmの光に対して信号面におけるランドの部分
の反射率が70%〜90%となるように規定されてお
り、光ディスクの信号面からの情報信号の読出しが78
0nmの波長の光のスポットによって行なわれるようよ
うになされていて、情報信号の読出しは信号面における
ピットの部分からの反射光の光量が、ピットの部分で生
じる光の干渉の結果としてランドの部分からの反射光の
光量よりも減少した状態になることを利用して行なわ
れ、またトラッキング誤差情報はピットの配列からなる
記録跡の部分からの反射光の光量とランドの部分からの
反射光の光量との差を用いて得るようにされている。
【0006】そして、前記のようなコンパクト・ディス
クの普及に伴って、コンパクト・ディスク用の再生機を
使用して再生を行なうことが可能な光ディスク、すなわ
ち、コンパクト・ディスクと互換性のある光ディスクが
着目されるようになり、例えば1988年10月3日
日経マグロウヒル社発行「日経エレクトロニクス」N
O.457第100頁〜第101頁に「CD規格を満足
する高反射率の追記型光ディスクを開発」という標題の
下に発表されている記事によってコンパクト・ディスク
との互換性を有する光ディスクが紹介された他、特開平
2ー188448号公報、特開平2ー244437号公
報その他の多くの刊行物によって、有機色素を含む記録
材料が用いられている記録層の構成材料の屈折率を情報
記録用のレーザ光の照射によって変化させることにより
情報信号の記録再生が行なわれるようにした光ディスク
についての多くの提案がなされており、本出願人会社に
おいても記録動作時に有機色素を含む記録材料を用いて
いる記録層の構成材料の分解による記録層の屈折率の減
少によって生じる光の位相の進みを利用してコンパクト
・ディスクに対して良好な互換性を有する光ディスクを
特開平2ー185737号公報によって開示している。
また、前記のようにコンパクト・ディスクに対して互換
性を有する光ディスクも含み例えば、再生専用の記録済
み領域と追記型光ディスクとして使用できる記録領域を
設けた構成形態の追記型光ディスク、あるいは全面が記
録領域になされている光ディスクについても多くの諸提
案が行なわれて来ている。一方、前記のように記録領域
が設けられている構成形態の光ディスクにおいては、記
録時にもトラッキング制御が行なわれうるように透明基
板にトラッキング用の案内溝を設けて、所謂プッシュプ
ル法によるトラッキング誤差検出方式によるトラッキン
グ制御方式の適用によってトラッキング制御が行なわれ
るようにされることが多い。
【0007】ところで、コンパクト・ディスクとの互換
性を備えている光ディスクとしては上記した特開平2ー
185737号公報中でも指摘しているように、当然の
ことながらコンパクト・ディスクについて定められてい
る再生に関する諸規格、特に反射率、高周波信号の変調
度、トラッキング信号出力、等の諸特性について互換性
を満足していることが必要とされるが、コンパクト・デ
ィスクと互換性を有する追記型の光ディスクを、有機色
素を含む記録材料が用いられている記録層の構成材料の
屈折率を情報記録用のレーザ光の照射によって変化させ
ることにより情報信号の記録再生が行なわれるように構
成させる場合でも、あるいは、コンパクト・ディスクと
の互換性を問題にしない光ディスクを有機色素を含む記
録材料が用いられている記録層の構成材料の屈折率を情
報記録用のレーザ光の照射によって変化させることによ
り情報信号の記録再生が行なわれるようにされている光
ディスクの場合であっても、それぞれの目標とする諸特
性を備えている光ディスクを提供することは困難であっ
た。
【0008】上記の問題点を解決するために本出願人会
社では、図3に示すように深さGのトラッキング用の案
内溝5を有する屈折率がn1の透明基板1上に、記録用
の光の波長λに感受性を有し、かつ、前記の光の照射に
よって屈折率がn2からn2rに変化する記録材料で構成
されている記録層2の記録前の記録層の状態が、n1×
G+n2(d1-d2)=(N×λ/4)+(λ/16)±(λ/40)…
(a) (ただし、Nは零及び正の整数)で示されるととも
に、記録用の光の照射の前後における記録層における屈
折率の実数部の差をΔnとして表わしたときに、前記し
た情報記録用の光によって照射された記録層における屈
折率の変化が、Δn×d2=(λ/4)-2{(λ/16)±(λ/4
0)}…(b)によって示されるように構成することにより、
目標とする諸特性を備えている光ディスクが容易に提供
できるようにした。なお、図3において3は金属反射
層、4は保護層である。
【0009】ところで、前記した(a),(b)式を同時
に満足させうるような光ディスクの構成に当っては、前
記した(a),(b)式中に使用されている透明基板1の
屈折率n1、記録層2の屈折率n2、トラッキング用の案
内溝5の深さG、情報記録用の光の波長λ、透明基板1
におけるトラッキング用の案内溝以外の部分(ランドの
部分)における記録層2の厚さd1、透明基板1におけ
るトラッキング用の案内溝5の部分における記録層2の
厚さd2、零及び正の整数N、情報記録用の光の照射の
前後における記録層2における屈折率の実数部の差を示
すΔn等のそれぞれの値が既知であることが必要とされ
る。
【0010】ところで前記した透明基板1の屈折率n
1、記録層2の屈折率n2、トラッキング用の案内溝5の
深さG、情報記録用の光の波長λ、零及び正の整数N等
の値などについては、それらの内のあるものは例えば使
用する材料に応じて自動的に決定され、またあるもので
は必要条件に応じて自動的に決定され、さらに別のある
ものについては必要に応じて任意に設定されるなどし
て、前以って確実に数値を知ることができるが、基板1
におけるトラッキング用の案内溝5以外の部分(ランド
の部分)における記録層2の厚さd1や、基板1におけ
るトラッキング用の案内溝5の部分における記録層2の
厚さd2、及び情報記録用の光の照射の前後における記
録層における屈折率の実数部の差を示すΔn等のそれぞ
れの値は、相互に関連して値が変化するものであるか
ら、それぞれの数値を単独に設定することができない。
しかし、前記した(a),(b)式に示されている関
係、特に、(b)式 Δn×d2=(λ/4)−2{(λ/16)±(λ/40)} …(b) に示されている関係に着目すると、情報記録用の光の照
射の前後における記録層における屈折率の実数部の差を
示すΔnを知ることができれば、基板1におけるトラッ
キング用の案内溝5の部分における記録層2の厚さd2
は、前記した(b)式によって簡単に算出することができ
ることが判かる。そして、基板1におけるトラッキング
用の案内溝5の部分における記録層2の厚さd2が、前
記のようにして特定できれば、前記した(a)式 n1×G+n2(d1−d2)=(N×λ/4)+(λ/16)±(λ/40) …(a) を用いることにより、基板1におけるトラッキング用の
案内溝5以外の部分(ランドの部分)における記録層2の
厚さd1を容易に算出することができることが明らかで
ある。
【0011】それで光ディスクの構成に当っては、例え
ば、まず記録層2における記録前後の記録層2の屈折率
の差Δnを記録層2の屈折率の測定結果から求め、それ
から前記した(b)式の関係を用いて基板1のトラッキ
ング用の案内溝5の部分における記録層2の厚さd2を
決定し、次いで前記した(a)式を用いて基板1のトラ
ッキング用の案内溝5以外の部分(ランドの部分)におけ
る記録層2の厚さd1を決定する。前記のようにして基
板1におけるランドの部分における記録層2の厚さd1
と、トラッキング用の案内溝5の部分における記録層2
の厚さd2とが、それぞれ決定された場合には、基板1
におけるトラッキング用の案内溝5,5…が構成されて
いる方の面上に、ランドの部分とトラッキング用の案内
溝5の部分とに、それぞれ異なる所定の膜厚の記録層2
を容易に構成させることができる。すなわち、前記の記
録層2を例えばスピンコート法の適用により基板1上に
塗布させようとする場合には、記録層2の材料の粘度や
回転数等を所要のように定めれば、基板1上に付着され
る記録層2を所定の厚み、例えば基板1におけるトラッ
キング用の案内溝5の部分の記録層2の厚さを所定の厚
さd2とし、また、基板1におけるトラッキング用の案
内溝5以外の部分(ランドの部分)の記録層2の厚さを所
定の厚さd1とするように、基板1上に塗布付着される
記録層2の膜厚の制御を良好に行なわせることは容易だ
からである。
【0012】ところで、前記した記録層2における記録
前後の記録層2の屈折率の差Δnを知るためには、記録
層2における記録前後の記録層2の屈折率をそれぞれ測
定して、記録前における記録層2の屈折率n2と記録後
の記録層2の屈折率の測定値n2rとの差n2−n2r=Δ
nを算出して求めるようにすればよい。そして、前記し
た記録前における記録層2の屈折率n2の測定は、例え
ば楕円偏光計を用いることによって容易に行なうことが
できる。しかし、基板1におけるトラッキング用の案内
溝5の部分の記録層2に対して断続的に微小な部分だけ
に記録されている部分の屈折率n2rは前記した楕円偏光
計を用いても行なうことができない。それで、基板1に
おけるトラッキング用の案内溝5の部分の記録層2の記
録済みの状態の部分の屈折率n2rの測定を行なうのに、
例えば光学研磨された面上に所定の厚さの記録層、すな
わち、光ディスクにおける記録が行なわれるべき記録層
の部分の膜厚と同じ膜厚に構成させた記録層について、
楕円偏光計による屈折率の測定に必要とされる面積以上
の面積の部分を情報記録用のレーザ光束によって走査し
て一様な記録状態とした被測定物を用意し、前記の被測
定物における一様な記状態になされた部分の屈折率を楕
円偏光計を用いて測定し、その測定値を記録後の記録層
2の屈折率の測定値n2rとすることが考えられ、楕円偏
光計を用いて行なわれる前記のような測定方法によって
測定した記録前における記録層2の屈折率n2と記録後
の記録層2の屈折率の測定値n2rとの差n2−n2r=Δ
nを演算することにより、必要となされている記録層2
における記録前後の記録層2の屈折率の差Δnを求める
ことができる。
【0013】しかし、記録後における記録層2の屈折率
n2rの測定を楕円偏光計を用いて行なう場合の例とし
て挙げた前記の方法では、記録済みの記録層2と等価な
状態のものとして使用されるダミーの記録層が、実際の
光ディスクの基板1におけるトラッキング用の案内溝5
の部分の記録層2とは異なるために、屈折率の測定値が
実際の光ディスクの基板1におけるトラッキング用の案
内溝5の部分の記録層2の記録部分の屈折率に対して誤
差が生じていることも考えられる。それで、記録後にお
ける記録層2の屈折率n2rの測定に際して、前記のよ
うな問題点を生じさせないで屈折率の測定を行なうこと
ができる測定装置が求められた。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は透明基板の一方
の面に所定のピッチで刻設した実質的に矩形断面形状を
有する溝中に、前記した透明基板の構成物質とは異なる
物質を充填して構成させた薄膜の屈折率を測定する装置
であって、前記した透明基板に対して予め定められた波
長を有するレーザ光束を入射させる手段と、前記した溝
の配列パターンにより形成されている回折格子が前記し
たレーザ光束の入射によって発生した回折光における所
定の次数の回折光の強度を個別に測定する手段と、前記
した個別の所定の次数の回折光の強度を用いて溝の深さ
を算出する手段と、前記した溝の深さに基づいて薄膜の
屈折率を算出する手段とからなる所定の間隔に配置され
ている薄膜の屈折率の測定装置、及び実質的に矩形断面
形状と所定のピッチとを有するトラッキング用の案内溝
が設けてある透明基板におけるトラッキング用の案内溝
が設けてある方の板面上に、情報記録用の光の波長に感
受性を有していて前記した情報記録用の光の照射によっ
て屈折率が変化する記録材料によって構成されている記
録層を少なくとも備えている光学的記録媒体円盤を駆動
回転させた状態にして、トラッキング用の案内溝中の記
録層の部分に一定の光強度で時間軸上で連続している状
態の情報記録用の光を照射し、その部分の記録層を記録
済みの状態にさせる手段と、光学的記録媒体円盤の透明
基板に付着されている記録層に積層されている構成部分
を剥離した後に、溶剤を用いて前記したトラッキング用
の案内溝中の記録済みの状態の記録層の部分以外の記録
層を除去して得た透明基板を被測定物に用い、前記した
透明基板に対して予め定められた波長を有するレーザ光
束を入射させる手段と、前記したトラッキング用の案内
溝の配列パターンにより形成されている回折格子が前記
したレーザ光束の入射によって発生した回折光における
所定の次数の回折光の強度を個別に測定する手段と、前
記した個別の所定の次数の回折光の強度を用いてトラッ
キング用の案内溝の深さを算出する手段と、前記したト
ラッキング用の溝の深さに基づいてトラッキング用の溝
中の薄膜の屈折率を算出する手段とからなる所定の間隔
に配置されている薄膜の屈折率の測定装置を提供する。
【0015】
【作用】透明基板の一方の面に所定のピッチで実質的に
矩形断面形状を有する溝中に屈折率の測定対象物が充填
されていて、前記の溝の配列パターンにより形成されて
いる回折格子が、前記の透明基板に対して予め定められ
た波長を有するレーザ光束が入射されることにより各次
数の回折光を発生する。発生した回折光の内で0次回折
光の光強度と、1次回折光の光強度と、と2次回折光の
光強度とを個別に測定する。前記した0次,1次,2次
の各回折光の光強度を用いて透明基板に設けられている
溝の深さを算出する。次に、前記した溝の深さに基づい
て薄膜の屈折率を算出する。
【0016】
【実施例】以下、添付図面を参照して本発明の所定の間
隔に配置されている薄膜の屈折率の測定装置の具体的な
内容を詳細に説明する。図1は本発明の所定の間隔に配
置されている薄膜の屈折率の測定装置の一例構成を示す
ブロック図であり、また、図2は本発明の所定の間隔に
配置されている薄膜の屈折率の測定装置によって、情報
記録用のレーザ光の照射により記録層の構成材料の屈折
率を変化させることにより情報信号の記録再生が行なわ
れるような構成態様の光ディスクの記録層における記録
済み状態の記録層の屈折率を測定する場合の説明図、図
3は光ディスクの一部の斜視断面図である。図1におい
て11はレーザ光源であり、このレーザ光源11から放
射した予め定められた波長λのレーザ光は被測定物12
を照射する。前記した被測定物12は透明基板1の一方
の面に所定のピッチPで刻設した実質的に矩形断面形状
(溝幅がWで深さがG)を有する溝5中に、前記した透
明基板1の構成物質とは異なる物質2rが充填されてい
るような構成のものであって、前記のようにレーザ光源
11から放射された波長がλのレーザ光束が被測定物1
2に入射すると、被測定物12では前記の溝5の配列パ
ターンで形成されている回折格子によって各次数の回折
光を発生する。
【0017】図2は、透明基板1の一方の面に所定のピ
ッチPで刻設させた実質的に矩形断面形状を有する溝5
中に、透明基板1の構成物質とは異なる物質2rを充顛
させてあって回折格子の機能を行なう図1中の被測定物
12として、情報記録用のレーザ光の照射によって屈折
率が変化するような構成材料の記録層2(図3参照)にお
ける記録済みの記録層2rが溝5中に連続して形成させ
た状態の光ディスクから作ったものを用いて、記録済み
の記録層2rの屈折率の測定を行なうようにした場合に
ついての被測定物12の製作工程と、被測定物12にレ
ーザ光7を照射して各次数の回折光が発生している状態
を図示説明している図であり、まず、図2の(a)は図
3について既述したような構成の光ディスクの一部の縦
断面図であって、1は一方の面にトラッキング用の案内
溝5,5…が設けられている厚さが1.2mmで直径が
120mmのポリカーボネート樹脂製の基板であり、ま
た2は例えば、1,1'−ジブチル−3,3,3',3’
−テトラメチル−4,5,4’,5’−ジベンゾインド
レニンジカルボシアニンパークロレートを含む色素材料
によって構成された記録層であって、この記録層2は前
記した色素材料を用いてスピンコート法によって構成さ
れる。3は金属反射層として600nmの厚さに金の薄
膜をスパッタリング法によって形成させたものであり、
また、4は紫外線硬化樹脂をスピンコート法によって塗
布した後に紫外線を照射して硬化させて構成した厚さ5
ミクロンの保護層である。
【0018】次に、図2の(a)を参照して説明したよ
うな構成を有する光ディスクを光ディスクの記録装置に
おけるターンテーブルに装着した後に、前記のターンテ
ーブルを所定の回転数で回転させた状態にして、情報記
録用の光を一定強度で連続的に放射させ続けて光ディス
クにおけるトラッキング用の案内溝5の部分の記録層2
を連続的に記録済みの記録層2rにすると図2の(b)に
例示されているような記録済み光ディスクが得られる。
前記ようにトラッキング用の案内溝5の部分の記録層2
が記録済みの状態になされた図2の(b)に示されてい
る状態の記録済み光ディスクは、次に保護層4と金属反
射層3とを剥離した後に、光ディスクにおけるトラッキ
ング用の案内溝5の部分の記録層2以外の部分の記録層
をエタノールによって洗浄して除去されることにより、
図2の(c)に示されるような状態のもの、すなわち、
基板1の一方の面上にランドの部分とトラッキング用の
案内溝5(溝幅がWで溝の深さがG)の部分に記録済み
の記録層2rが存在している状態の部分とが所定のピッ
チPで配列している構成態様の被測定物12となされ
る。
【0019】図2の(c)に示されているように、基板
1の一方の面上にランドの部分とトラッキング用の案内
溝5(溝幅がWで溝の深さがG)の部分に記録済みの記
録層2rが存在している状態の部分とが所定のピッチP
で配列している構成態様のものにおける基板1に対し
て、図2の(d)に示すようにレーザ光7を入射させる
と、前記のようにランドの部分とトラッキング用の案内
溝5の部分に記録済みの記録層2rが存在している状態
の部分とが所定のピッチで配列している構成態様の部分
は、前記したレーザ光7に対して回折格子として作用す
るために、基板1からは0次回折光、1次回折光と2次
回折光等が出射されるが、この状態は図1中においてレ
ーザ光源11から放射された予め定められた波長λのレ
ーザ光7を被測定物12に照射した場合と同様である。
【0020】前記のようにして被測定物12で生じた光
強度がIoの0次回折光は光電変換器13によって受光
されて、光電変換器13では0次回折光の光強度Ioと
対応する0次回折光信号Ioを発生し、また、被測定物
12で生じた光強度がI1の1次回折光は光電変換器1
4によって受光されて、光電変換器14では1次回折光
の光強度I1と対応する1次回折光信号I1を発生し、さ
らに被測定物12で生じた光強度がI2の2次回折光は
光電変換器15によって受光されて、光電変換器15で
は2次回折光の光強度I2と対応する2次回折光信号I2
を発生する。前記した各光電変換器13〜15によって
それぞれ個別に発生された0次回折光信号Io,1次回
折光信号I1,2次回折光信号I2の内の1次回折光信号
I1と2次回折光信号I2とは溝幅Wの算出部16に供給
され、また、0次回折光信号Ioと1次回折光信号I1
とは係数kの算出部18に供給される。
【0021】なお、図1に示す実施例においては被測定
物12における溝5(溝幅がWで溝の深さがG)の所定
のピッチPでの配列パターンで形成されている回折格子
によって発生された0次回折光と、1次回折光と、2次
回折光とを、それぞれ別個の光電変換器13〜15(P
Do,PD1,PD2)によって光電変換して、0次回折光信
号I2oと1次回折光信号I1と2次回折光信号I2とを
同時信号として発生させ、それらの各回折光信号の内の
それぞれ所要な回折光信号を溝幅Wの算出部16と係数
kの算出部18とに供給するようにしているが、前記し
た被測定物12における溝5の配列パターンで形成され
ている回折格子によって発生された0次回折光と、1次
回折光と、2次回折光との各次数の回折光を個別に受光
できる位置に1個の光電変換器を順次に移動させて、前
記した0次回折光信号I2oと1次回折光信号I1と2次
回折光信号I2とを時分割信号として発生させ、それら
の各回折光信号の内のそれぞれ所要な回折光信号を溝幅
Wの算出部16と係数kの算出部18とに供給するよう
にしてもよい。前記した時分割信号形態の0次回折光信
号I2o,1次回折光信号I1,2次回折光信号I2等
は、必要に応じて例えば記憶装置を使用するなどの手段
により容易に同時信号に変換できる。
【0022】前記のように透明基板1の一方の面に、所
定のピッチPで刻設した実質的に矩形断面形状を有する
溝5(溝幅がW,溝の深さがG)中に、前記の透明基板
1の構成物質とは異なる物質2rが充顛されている構成
態様となされていて、回折格子として機能する被測定物
12において、前記した透明基板1は屈折率がn1の構
成物質で構成されており、前記した透明基板1の一方の
面に所定のピッチPで刻設されている実質的に矩形断面
形状を有する溝5の溝幅がW,溝の深さがGであり、ま
た、前記した透明基板1に設けられている溝5中に充顛
されている物質2rの屈折率がn2rであったとし、さら
に前記した被測定物12に入射されるレーザ光の波長を
λとし、さらにまた前記の波長がλのレーザ光が被測定
物12に入射することによって被測定物12に発生した
0次回折光の方向と1次回折光の方向とのなす角をθと
すると、前記した溝5のピッチPと溝の幅Wと溝の深さ
Gとは、それぞれ次の数1中に示されている式(1)〜
(3)によって表わされるものとなる。
【0023】
【数1】
【0024】図1において22は操作部であり、この操
作部22にはテンキーのような入力部を備えており、被
測定物12における測定対象部分の屈折率n2rの測定に
際して、入力することが必要とされている溝のピッチ
P、光の波長λ、透明基板1の屈折率n1等の数値を入
力する。操作部22から入力された被測定物12におけ
る溝5のピッチPの数値は置数器8に設定され、前記の
置数器8に設定された被測定物12における溝5のピッ
チPの数値は、溝幅Wの算出部16とε=W/Pの算出
部17とに与えられ、また、操作部22から入力された
被測定物12における透明基板1の屈折率n1の数値は
置数器9に設定され、前記の置数器9に設定された被測
定物12における透明基板1の屈折率n1の数値は、溝
5の深さGの算出部19と屈折率n2rの算出部20とに
与えられ、さらに、操作部22から入力されたレーザ光
源11から放射されたレーザ光7の波長λの屈折率n1
の数値は置数器10に設定され、前記の置数器10に設
定されたレーザ光7の波長λの数値は、屈折率n2rの算
出部20に与えられる。
【0025】前記した溝幅Wの算出部16では、それに
対して光電変換器14から与えられた被測定物12で生
じた光強度がI1の1次回折光と対応する1次回折光信
号I1と、光電変換器15から与えられた被測定物12
で生じた光強度がI2の2次回折光と対応する2次回折
光信号I2と、置数器8から与えられた被測定物12に
おける溝5のピッチPの数値とを用いて、前記した数1
における(2)式によって溝幅Wの値Wを算出し、前記
した溝幅Wのデータをε=W/Pの算出部17に供給す
る。ε=W/Pの算出部17では、前記した溝幅Wの算
出部16から供給された溝幅Wのデータと、置数器8か
ら供給されている被測定物12における溝5のピッチP
の数値とを用いて、前記した数1における(5)式によ
ってε=W/Pの演算を行なって溝5の溝幅Wと溝5の
ピッチPとの比の値εの数値を得て、それを係数kの算
出部18に与える。
【0026】係数kの算出部18では、前記したε=W
/Pの算出部17から供給されているε=W/Pの数値
と、光電変換器13から供給された被測定物12で生じ
た光強度がIoの0次回折光と対応する0次回折光信号
Ioと、光電変換器14から供給された被測定物12で
生じた光強度がI1の1次回折光と対応する1次回折光
信号I1とを用いて、前記した数1における(4)式に
よって係数kを算出して、算出した係数kの値を溝の深
さGの算出部19に供給する。溝の深さGの算出部19
では、前記した係数kの算出部18から供給された係数
値kと、置数器9に設定された被測定物12における透
明基板1の屈折率n1の数値によって、前記した数1に
おける(3)式の演算を行なって溝5の深さGを算出し
て、溝の深さのデータを屈折率n2rの算出部20に与え
る。
【0027】前記した屈折率n2rの算出部20では、前
記した溝の深さGの算出部19から供給された溝の深さ
Gのデータと、置数器9に設定された測定物12におけ
る透明基板1の屈折率n1の数値と、置数器10に設定
されたレーザ光7の波長λの数値とによって、前記した
数1における(6)式の演算を行なって溝5に充顛され
ている物質の屈折率n2rの算出を行ない、算出された屈
折率n2rのデータを表示器21に供給して表示させる。
なお、前記した前記した屈折率n2rの算出部20から出
力された屈折率n2rのデータをプリンタに供給して、プ
リンタによって屈折率のデータをプリントしたハードコ
ピーを出力させるようにしてもよいことは勿論である。
【0028】
【表1】
【0029】表1は、一方の面にトラッキング用の案内
溝5,5…が設けられている厚さが1.2mmで直径が
120mmのポリカーボネート樹脂製の基板1上に、
1,1'−ジブチル−3,3,3',3’−テトラメチル
−4,5,4’,5’−ジベンゾインドレニンジカルボ
シアニンパークロレートを含む色素材料によって構成さ
せた記録層2と、600nmの厚さに金の薄膜をスパッ
タリング法によって形成させた金属反射層3と、紫外線
硬化樹脂をスピンコート法によって塗布した後に紫外線
を照射して硬化させて構成した厚さ5ミクロンの保護層
4とを順次に積層して構成させる光ディスクにおいて、
基板1に構成させるトラッキング用の案内溝5の深さを
種々に設定したり、または、記録層2の厚さを種々に設
定したりして作った4種類の光ディスクのサンプルにつ
いて、図2について説明したようにして被測定物12を
作成し、その4種類の被測定物におけるトラッキング用
の案内溝5内の記録済みの状態の記録層2の屈折率を、
本発明の所定の間隔に配置されている薄膜の屈折率の測
定装置を用いて測定して得たた記録済み記録層の屈折率
の測定値を例示した表である。
【0030】
【発明の効果】以上、詳細に説明したところから明らか
なように本発明の所定の間隔に配置されている薄膜の屈
折率の測定装置は、透明基板の一方の面に所定のピッチ
で実質的に矩形断面形状を有する溝中に屈折率の測定対
象物が充填されていて、前記の溝の配列パターンにより
形成されている回折格子が、前記の透明基板に対して予
め定められた波長を有するレーザ光束が入射されたとき
に発生した各次数の回折光における0次回折光の光強度
と、1次回折光の光強度と、2次回折光の光強度とを個
別に測定して、前記した0次,1次,2次の各回折光の
光強度を用いて透明基板に設けられている溝の深さを算
出し、次に、前記した溝の深さに基づいて薄膜の屈折率
を算出するようにしたものであるから、この本発明の所
定の間隔に配置されている薄膜の屈折率の測定装置で
は、例えば有機色素を含む記録材料を用いて構成されて
いる記録層に情報記録用のレーザ光を照射して、前記し
た記録層の構成材料の屈折率を変化させることにより、
情報信号の記録再生を行なうようにされている光ディス
クにおける記録済みの部分の記録層の屈折率も容易に測
定することができるので、コンパクト・ディスクと互換
性を有する追記型の光ディスクを、有機色素を含む記録
材料が用いられている記録層の構成材料の屈折率を情報
記録用のレーザ光の照射によって変化させることにより
情報信号の記録再生が行なわれるように構成させる場合
でも、あるいは、コンパクト・ディスクとの互換性を問
題にしない光ディスクを有機色素を含む記録材料が用い
られている記録層の構成材料の屈折率を情報記録用のレ
ーザ光の照射によって変化させることにより情報信号の
記録再生が行なわれるようにされている光ディスクの場
合であっても、それぞれの目標とする諸特性を備えてい
る光ディスクの製作に当って必要とされる基礎データを
容易に得ることができるので、本発明によれば既述した
従来の問題点を良好に解決できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の所定の間隔に配置されている薄膜の屈
折率の測定装置の一例構成を示すブロック図である。
【図2】本発明の屈折率の測定装置によって、情報記録
用のレーザ光の照射により記録層の構成材料の屈折率を
変化させることにより情報信号の記録再生が行なわれる
ような構成態様の光ディスクの記録層における記録済み
状態の記録層の屈折率を測定する場合の説明図である。
【図3】光ディスクの一部の斜視断面図である。
【符号の説明】
1…情報記録用の光及び再生用の光に対して実質的に透
明な材料を用いて構成されているとともに、一方の面に
トラッキング用の案内溝が設けられている基板、2…記
録層、3…金属反射層、4…保護層、5…溝、7…レー
ザ光束、8〜10…置数器、11…レーザ光源、12…
被測定物、13〜15…光電変換器、16…溝幅Wの算
出部、17…ε=W/Pの算出部、18…係数kの算出
部、19…溝5の深さGの算出部、20…屈折率n2rの
算出部、21…樋示器、22…操作部、

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明基板の一方の面に所定のピッチで刻
    設した実質的に矩形断面形状を有する溝中に、前記した
    透明基板の構成物質とは異なる物質を充填して構成させ
    た薄膜の屈折率を測定する装置であって、前記した透明
    基板に対して予め定められた波長を有するレーザ光束を
    入射させる手段と、前記した溝の配列パターンにより形
    成されている回折格子が前記したレーザ光束の入射によ
    って発生した回折光における所定の次数の回折光の強度
    を個別に測定する手段と、前記した個別の所定の次数の
    回折光の強度を用いて溝の深さを算出する手段と、前記
    した溝の深さに基づいて薄膜の屈折率を算出する手段と
    からなる所定の間隔に配置されている薄膜の屈折率の測
    定装置。
  2. 【請求項2】 実質的に矩形断面形状と所定のピッチと
    を有するトラッキング用の案内溝が設けてある透明基板
    におけるトラッキング用の案内溝が設けてある方の板面
    上に情報記録用の光の波長に感受性を有していて前記し
    た情報記録用の光の照射によって屈折率が変化する記録
    材料によって構成されている記録層を少なくとも備えて
    いる光学的記録媒体円盤を駆動回転させた状態にして、
    トラッキング用の案内溝中の記録層の部分に一定の光強
    度で時間軸上で連続している状態の情報記録用の光を照
    射し、その部分の記録層を記録済みの状態にさせる手段
    と、光学的記録媒体円盤の透明基板に付着されている記
    録層に積層されている構成部分を剥離した後に、溶剤を
    用いて前記したトラッキング用の案内溝中の記録済みの
    状態の記録層の部分以外の記録層を除去して得た透明基
    板を被測定物に用い、前記した透明基板に対して予め定
    められた波長を有するレーザ光束を入射させる手段と、
    前記したトラッキング用の案内溝の配列パターンにより
    形成されている回折格子が前記したレーザ光束の入射に
    よって発生した回折光における所定の次数の回折光の強
    度を個別に測定する手段と、前記した個別の所定の次数
    の回折光の強度を用いてトラッキング用の案内溝の深さ
    を算出する手段と、前記したトラッキング用の溝の深さ
    に基づいてトラッキング用の溝中の薄膜の屈折率を算出
    する手段とからなる所定の間隔に配置されている薄膜の
    屈折率の測定装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012023481A1 (ja) * 2010-08-19 2012-02-23 シチズンホールディングス株式会社 屈折率測定装置及び屈折率測定方法

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