JPH0569764B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0569764B2 JPH0569764B2 JP2029773A JP2977390A JPH0569764B2 JP H0569764 B2 JPH0569764 B2 JP H0569764B2 JP 2029773 A JP2029773 A JP 2029773A JP 2977390 A JP2977390 A JP 2977390A JP H0569764 B2 JPH0569764 B2 JP H0569764B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- product
- reaction
- aminolysis
- boron nitride
- process according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 21
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 18
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims description 15
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000007098 aminolysis reaction Methods 0.000 claims description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 claims description 10
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 8
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 4
- 125000002924 primary amino group Chemical class [H]N([H])* 0.000 abstract 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 23
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 16
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 11
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- -1 filaments Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- TZHYBRCGYCPGBQ-UHFFFAOYSA-N [B].[N] Chemical compound [B].[N] TZHYBRCGYCPGBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005915 ammonolysis reaction Methods 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHLJUSLZGFYWKW-UHFFFAOYSA-N triethanolamine hydrochloride Chemical compound Cl.OCCN(CCO)CCO HHLJUSLZGFYWKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G79/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing atoms other than silicon, sulfur, nitrogen, oxygen, and carbon with or without the latter elements in the main chain of the macromolecule
- C08G79/08—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing atoms other than silicon, sulfur, nitrogen, oxygen, and carbon with or without the latter elements in the main chain of the macromolecule a linkage containing boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/064—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/064—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with boron
- C01B21/0646—Preparation by pyrolysis of boron and nitrogen containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/583—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on boron nitride
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Inorganic Fibers (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
Description
[技術分野]
本発明は、新規な窒化硼素の製造方法に関す
る。 [従来技術] 窒化硼素は、特に高温での安定性、熱衝撃に対
する耐性、高い化学的不活性及び非常に良い熱伝
導性及び低い導電性(優れた絶縁体)の為に、ま
すます必要とされている素材であことは、公知で
ある。 現在、窒化硼素を製造するための様々な方法が
知られている。 これらのうちの一つは、三塩化硼素とアンモニ
アを気相で反応させることである。これによつ
て、窒化硼素の微細粉末が得られ、それを焼結す
ることにより固体片を得ることができる。 更に最近、前駆物質ポリマーを熱分解する事に
より、窒化硼素を製造することができる事が発見
された。 ポリマーを経由する利点は、何よりも、この種
の製品の賦形可能性にあり、特に熱分解後に、窒
化硼素のフアイバー或はフイルムを得る事が可能
になる事にある。 このように、米国特許第4581468号には、トリ
クロルトリアルキルシリルボラゾール(環式化合
物)にアンモニアを作用させる(アンモノリシ
ス)ことにより得られ、かつそこに示されている
ように紡糸の後に970℃で熱分解することにより
窒化硼素フアイバーを生成することができる有機
硼素ポリマーが記載されている。 しかしながら、この特許に記載されている環状
出発化合物は製造が困難であり、従つて高価であ
り、このために工業的製造の規模での応用が殆ど
期待できない。 一方、この種の化合物を用いて得られ得る窒化
硼素の、最大収率は22重量%を超えず、これは実
収率が、上記の値よりかなり下回るであろう事を
意味する。 最終的に、熱分解の後に得られたセラミツク
は、使用される前駆物質の特性の為にシリコーン
をかなりの量含む。 [発明の目的] 本発明の目的は、上記の問題を解決する事、及
び高純度で特にシリコーンが存在せずかつさらに
非常に少量の炭素(特に、0.4重量%より少ない
含有量)しか含まない窒化硼素を基材としたセラ
ミツク化合物をきわめて様々な形状(粉末、フイ
ラメント、フアイバー、成形された製品、塗料、
被膜、フイルム、など)及び高収率(重量で)で
得る事を可能とする簡単で効率が良く経済的で容
易に実施される手段を提案する事である。 [発明の概要] この目的及び他のものは、本発明の手段、もつ
とはつきり言えば、次式():
る。 [従来技術] 窒化硼素は、特に高温での安定性、熱衝撃に対
する耐性、高い化学的不活性及び非常に良い熱伝
導性及び低い導電性(優れた絶縁体)の為に、ま
すます必要とされている素材であことは、公知で
ある。 現在、窒化硼素を製造するための様々な方法が
知られている。 これらのうちの一つは、三塩化硼素とアンモニ
アを気相で反応させることである。これによつ
て、窒化硼素の微細粉末が得られ、それを焼結す
ることにより固体片を得ることができる。 更に最近、前駆物質ポリマーを熱分解する事に
より、窒化硼素を製造することができる事が発見
された。 ポリマーを経由する利点は、何よりも、この種
の製品の賦形可能性にあり、特に熱分解後に、窒
化硼素のフアイバー或はフイルムを得る事が可能
になる事にある。 このように、米国特許第4581468号には、トリ
クロルトリアルキルシリルボラゾール(環式化合
物)にアンモニアを作用させる(アンモノリシ
ス)ことにより得られ、かつそこに示されている
ように紡糸の後に970℃で熱分解することにより
窒化硼素フアイバーを生成することができる有機
硼素ポリマーが記載されている。 しかしながら、この特許に記載されている環状
出発化合物は製造が困難であり、従つて高価であ
り、このために工業的製造の規模での応用が殆ど
期待できない。 一方、この種の化合物を用いて得られ得る窒化
硼素の、最大収率は22重量%を超えず、これは実
収率が、上記の値よりかなり下回るであろう事を
意味する。 最終的に、熱分解の後に得られたセラミツク
は、使用される前駆物質の特性の為にシリコーン
をかなりの量含む。 [発明の目的] 本発明の目的は、上記の問題を解決する事、及
び高純度で特にシリコーンが存在せずかつさらに
非常に少量の炭素(特に、0.4重量%より少ない
含有量)しか含まない窒化硼素を基材としたセラ
ミツク化合物をきわめて様々な形状(粉末、フイ
ラメント、フアイバー、成形された製品、塗料、
被膜、フイルム、など)及び高収率(重量で)で
得る事を可能とする簡単で効率が良く経済的で容
易に実施される手段を提案する事である。 [発明の概要] この目的及び他のものは、本発明の手段、もつ
とはつきり言えば、次式():
【化】
の少なくとも1個のB−トリハロゲノボラゾール
と次式(): H2N−R の少なくとも1個の第一アミン(式中、化学式X
はハロゲンを表わし、Rは炭素原子を1〜6個含
む任意の置換された炭化水素基を表わす)とを反
応させた生成物をアンモニア雰囲気中で熱分解す
ることから成る事により特徴づけられる窒化硼素
の製造方法に関連する、本発明の手段により達成
できることが発見された。 従つて得られた窒化硼素を基材とするセラミツ
クスにシリコーンが存在しない事実は別として、
本発明に従う工程は、全く予期されないそして驚
くべき方法でセラミツクスの収率(重量で)が明
らかに向上した、また残留炭素含有量が特に少な
い(この炭素不純物は一般に窒化硼素で作られた
最終製品の品質に関して不利になると考えられ
る)生成物を得ることをも可能にする事を示すこ
とができた。 更に、ここには、市場で入手でき及び/又は工
業的に簡単に製造でき、したがつて安価である出
発化合物を用いて作用させる事が、本発明に従う
工程をとりわけ経済的にする補足の利点がある。 しかしながら、本発明の特徴及び利点は、以下
の記述及び本発明を限定するものではない具体的
な発明の実施に関連する実施例を読む事により更
に完全に明らかになるであろう。 B−トリクロルボラゾール以外のB−トリハロ
ゲノボラゾール、例えばB−トリフルオル−、B
−トリブロム−、或はB−トリヨードボラゾール
などが適するが、優先的に使用される出発B−ト
リハロゲノボラゾール(環状化合物)はB−トリ
クロルボラゾールである。 出発第一アミンに関しては、上記で定義され最
も使用される炭化水素基は、アルキル、シクロア
ルキル、アリル、アルケニル及びアルキニル基で
ある。 本発明に適するアルキル基としては、メチル、
エチル、プロピル、ブチル、n−ブチル、ペンチ
ル及びヘキシル基を挙げることができる。シクロ
アルキルとしては、シクロペンチル及びシクロヘ
キシル基を挙げることができる。 適当なものとして挙げることができるアルケニ
ル基は、ビニル、アリル、ブテニル及びペンテニ
ル基である。 適当なものとして挙げることができるアルキニ
ル基は、エチニル、プロピニル及びブチニル基で
ある。 本発明の好ましい具体例に従うと、炭化水素基
Rが飽和基及び特にアルキルタイプの基である第
一アミンを用いて工程が実施される。 本発明の他の好ましい具体例に従うと、炭化水
素基RはC1〜C4の基である。反応混合物中のア
ミノリシス反応の全般の構成は次式: N−H+Cl−B→N−B+HCl である。 アミノリシス反応は、無水条件下で、塊状或
は、より好ましくは有機溶媒(ヘキサン、ペンタ
ン、トルエン……)中で実施できる。 もちろん、大気圧より高い圧力又は低い圧力を
除くことはないが、反応は一般に大気圧下で実施
される。 反応が実施される温度は重要ではなく、その温
度は、特に−80℃〜使用される溶媒の還流温度の
間である。 しかしながら、アミノリシス反応は一般にかな
りの発熱量なので、低い温度、すなわち50℃より
低い温度で行なう事が望ましい。 後者の場合には、反応を完結させるため及び/
又は形成されたポリマーでよりよい構造を得る為
に、ある時間反応混合物を放置する事によりその
熟成を可能にする事(例えば、次第に室温に戻す
事、その際に好ましくは機械的攪拌を行なう事)
又は反応混合物を(例えば、溶媒の還流温度まで
引き上げる事により)数分から数時間の間加熱す
る事のいずれかが有利になり得る。 使用される反応体の総量に依存して反応時間が
数分から数時間に変化し得る。 反応収率は重量比で80%のオーダーである。 本発明において使用される反応体の総量は、最
小量でも上に与えた全般的構成のアミノリシス反
応の化学量論に一致しなければならない。すなわ
ちB−トリハロゲノボラゾール2モルにつき第一
アミンが少なくとも3モル使用されなければなら
ない。 しかしながら、アミノリシス反応が反応混合物
中で水素ハライド(例えば塩化水素など)を発生
させる事及び反応混合物中の該ハライドを中和す
る事が望ましい事を考慮に入れ、本発明に従つ
て、化学量論量の過剰の第一アミンの使用(これ
に対応する有利な過剰はB−トリハロゲノボラゾ
ール2モルにつき第一アミンを少なくとも6モ
ル)が望ましい。 もちろん、化学量論量で過剰量を使用する代わ
りに、十分な量の中和剤、特に第三アミン及び/
又はピリジンタイプを反応混合物中に加える事に
より当量法で該水素ハライドの中和を行なう事も
可能である。 この反応段階の最後に、ポリマーは、反応混合
物から及び特に生成されたアミンヒドロクロリド
から分離される。この分離は様々な手段、例えば
過又は抽出及び特にアンモニア使いデカントす
る事などの公知の手段で行なわれる。 本発明の他の具体例に従うと、溶液中の前駆物
質で異なる出発第一アミンを用いる個々のアミノ
リシス反応の生成物は、これらの前駆物質の中間
原料の特性を得るような割合で混合される。次に
この混合物は与えられた前駆物質と同様の段階工
程に従う。溶液中の前駆物質の割合は混合物中の
熱分解収率で最も高い収率及び混合物中のすべて
の前駆物質で最も大きい溶解度及び可融性の間で
妥協するように選択される。優先的に使用される
出発第一アミンはプロピルアミン及びメチルアミ
ンで、特にメチルアミンのアミノリシス反応での
生成物に対して、プロピルアミンのアミノリシス
反応生成物の重量比は0.6〜1.5の間である。 溶媒の除去、もし所望されれば次に乾燥した後
に、回収したポリマーが生成物である。 もし必要ならば、後続段階工程において、熱分
解下で得られたポリマーの挙動及びその重量での
窒化硼素の収率を更に改良する目的で、得られた
ポリマーを熱処理(熱分解)する事ができる。好
ましくは、アンモニア雰囲気中において100℃〜
200℃の間の温度で通常塊状で実施される。この
熱分解の効果はポリマーの内部構造を改質する事
であり、おそらくポリマーの架橋特性を改質する
事がその改良された温度特性を説明し得る。 本発明に従う硼素及び窒素を基材としたポリマ
ーは、100〜5000、特に300〜2000の範囲の数平均
分子量(Mn)を有する。 他方、それらは、100〜5000、特に、400〜2000
の範囲の重量平均分子量(Mw)を有する。 前記([第一アミン]/[B−トリハロゲノボ
ラゾール]の比率、反応温度……)の工程を実施
する為の条件に依存して、ポリマーは高粘度オイ
ルから固体の範囲に形状になり得る。 一方、続く熱分解段階に従うポリマーを除い
て、ポリマーは賦形可能性に関して大きな利点を
持ち、通例の有機溶媒(ヘキサン、トルエン…
…)の大多数に可融性及び可溶性である。 硼素及び窒素を基材とするこれらのポリマーに
は、窒化硼素を含有するセラミツク化合物及び少
なくとも製品の生産で非常に特別な用途が発見さ
れた。 本発明に従う、最も一般的場合(粉末の生産)
には、ポリマーは100℃から2000℃に漸進的に上
がる温度において、アンモニア雰囲気中で熱分解
され、この処理はポリマーが完全に窒化硼素に転
換されるまで続けられる。 一般に窒化硼素への完全な転換は、800℃から
1100℃の間の温度で得られるが、しかしながら、
セラミツクの結晶化を更に改良する為には、より
高い温度、特に、1500℃から2000℃の温度になる
まで加熱を続ける事が必要である。 ポリマーは、熱分解の前にも賦形(例えば、フ
イルム形成、成形又は紡糸により)できる。もし
フアイバーを得る事を所望するならば、ポリマー
は従来のダイを使用して紡糸され(もし、融解し
た後に紡糸に適するならば)及び、次にアンモニ
ア雰囲気中で100℃から2000℃の範囲の温度で窒
化硼素フアイバーを与えるために加熱処理がされ
る。 もし必要ならば、該加熱処理の前に、温度及
び/又は機械的特性を改質する事を意図する処
理、特に、塩化水素雰囲気中での処理をフアイバ
ーにする事が可能である。 得られたフアイバーは次にセラミツク/セラミ
ツクー、セラミツク/金属−又はセラミツク/プ
ラスチツク−タイプの複合材料のための強化構造
部材として使用できる。 [実施例の説明] 例 1 トリエチルアミン(TEA)13.7g(0.43モル)、
モノ−n−ブチルアミン15g(0.205モル)及びト
ルエン(溶媒)300mlを窒素雰囲気下で乾燥した
1の丸底フラスコに投入する。 第二の丸底フラスコで、
と次式(): H2N−R の少なくとも1個の第一アミン(式中、化学式X
はハロゲンを表わし、Rは炭素原子を1〜6個含
む任意の置換された炭化水素基を表わす)とを反
応させた生成物をアンモニア雰囲気中で熱分解す
ることから成る事により特徴づけられる窒化硼素
の製造方法に関連する、本発明の手段により達成
できることが発見された。 従つて得られた窒化硼素を基材とするセラミツ
クスにシリコーンが存在しない事実は別として、
本発明に従う工程は、全く予期されないそして驚
くべき方法でセラミツクスの収率(重量で)が明
らかに向上した、また残留炭素含有量が特に少な
い(この炭素不純物は一般に窒化硼素で作られた
最終製品の品質に関して不利になると考えられ
る)生成物を得ることをも可能にする事を示すこ
とができた。 更に、ここには、市場で入手でき及び/又は工
業的に簡単に製造でき、したがつて安価である出
発化合物を用いて作用させる事が、本発明に従う
工程をとりわけ経済的にする補足の利点がある。 しかしながら、本発明の特徴及び利点は、以下
の記述及び本発明を限定するものではない具体的
な発明の実施に関連する実施例を読む事により更
に完全に明らかになるであろう。 B−トリクロルボラゾール以外のB−トリハロ
ゲノボラゾール、例えばB−トリフルオル−、B
−トリブロム−、或はB−トリヨードボラゾール
などが適するが、優先的に使用される出発B−ト
リハロゲノボラゾール(環状化合物)はB−トリ
クロルボラゾールである。 出発第一アミンに関しては、上記で定義され最
も使用される炭化水素基は、アルキル、シクロア
ルキル、アリル、アルケニル及びアルキニル基で
ある。 本発明に適するアルキル基としては、メチル、
エチル、プロピル、ブチル、n−ブチル、ペンチ
ル及びヘキシル基を挙げることができる。シクロ
アルキルとしては、シクロペンチル及びシクロヘ
キシル基を挙げることができる。 適当なものとして挙げることができるアルケニ
ル基は、ビニル、アリル、ブテニル及びペンテニ
ル基である。 適当なものとして挙げることができるアルキニ
ル基は、エチニル、プロピニル及びブチニル基で
ある。 本発明の好ましい具体例に従うと、炭化水素基
Rが飽和基及び特にアルキルタイプの基である第
一アミンを用いて工程が実施される。 本発明の他の好ましい具体例に従うと、炭化水
素基RはC1〜C4の基である。反応混合物中のア
ミノリシス反応の全般の構成は次式: N−H+Cl−B→N−B+HCl である。 アミノリシス反応は、無水条件下で、塊状或
は、より好ましくは有機溶媒(ヘキサン、ペンタ
ン、トルエン……)中で実施できる。 もちろん、大気圧より高い圧力又は低い圧力を
除くことはないが、反応は一般に大気圧下で実施
される。 反応が実施される温度は重要ではなく、その温
度は、特に−80℃〜使用される溶媒の還流温度の
間である。 しかしながら、アミノリシス反応は一般にかな
りの発熱量なので、低い温度、すなわち50℃より
低い温度で行なう事が望ましい。 後者の場合には、反応を完結させるため及び/
又は形成されたポリマーでよりよい構造を得る為
に、ある時間反応混合物を放置する事によりその
熟成を可能にする事(例えば、次第に室温に戻す
事、その際に好ましくは機械的攪拌を行なう事)
又は反応混合物を(例えば、溶媒の還流温度まで
引き上げる事により)数分から数時間の間加熱す
る事のいずれかが有利になり得る。 使用される反応体の総量に依存して反応時間が
数分から数時間に変化し得る。 反応収率は重量比で80%のオーダーである。 本発明において使用される反応体の総量は、最
小量でも上に与えた全般的構成のアミノリシス反
応の化学量論に一致しなければならない。すなわ
ちB−トリハロゲノボラゾール2モルにつき第一
アミンが少なくとも3モル使用されなければなら
ない。 しかしながら、アミノリシス反応が反応混合物
中で水素ハライド(例えば塩化水素など)を発生
させる事及び反応混合物中の該ハライドを中和す
る事が望ましい事を考慮に入れ、本発明に従つ
て、化学量論量の過剰の第一アミンの使用(これ
に対応する有利な過剰はB−トリハロゲノボラゾ
ール2モルにつき第一アミンを少なくとも6モ
ル)が望ましい。 もちろん、化学量論量で過剰量を使用する代わ
りに、十分な量の中和剤、特に第三アミン及び/
又はピリジンタイプを反応混合物中に加える事に
より当量法で該水素ハライドの中和を行なう事も
可能である。 この反応段階の最後に、ポリマーは、反応混合
物から及び特に生成されたアミンヒドロクロリド
から分離される。この分離は様々な手段、例えば
過又は抽出及び特にアンモニア使いデカントす
る事などの公知の手段で行なわれる。 本発明の他の具体例に従うと、溶液中の前駆物
質で異なる出発第一アミンを用いる個々のアミノ
リシス反応の生成物は、これらの前駆物質の中間
原料の特性を得るような割合で混合される。次に
この混合物は与えられた前駆物質と同様の段階工
程に従う。溶液中の前駆物質の割合は混合物中の
熱分解収率で最も高い収率及び混合物中のすべて
の前駆物質で最も大きい溶解度及び可融性の間で
妥協するように選択される。優先的に使用される
出発第一アミンはプロピルアミン及びメチルアミ
ンで、特にメチルアミンのアミノリシス反応での
生成物に対して、プロピルアミンのアミノリシス
反応生成物の重量比は0.6〜1.5の間である。 溶媒の除去、もし所望されれば次に乾燥した後
に、回収したポリマーが生成物である。 もし必要ならば、後続段階工程において、熱分
解下で得られたポリマーの挙動及びその重量での
窒化硼素の収率を更に改良する目的で、得られた
ポリマーを熱処理(熱分解)する事ができる。好
ましくは、アンモニア雰囲気中において100℃〜
200℃の間の温度で通常塊状で実施される。この
熱分解の効果はポリマーの内部構造を改質する事
であり、おそらくポリマーの架橋特性を改質する
事がその改良された温度特性を説明し得る。 本発明に従う硼素及び窒素を基材としたポリマ
ーは、100〜5000、特に300〜2000の範囲の数平均
分子量(Mn)を有する。 他方、それらは、100〜5000、特に、400〜2000
の範囲の重量平均分子量(Mw)を有する。 前記([第一アミン]/[B−トリハロゲノボ
ラゾール]の比率、反応温度……)の工程を実施
する為の条件に依存して、ポリマーは高粘度オイ
ルから固体の範囲に形状になり得る。 一方、続く熱分解段階に従うポリマーを除い
て、ポリマーは賦形可能性に関して大きな利点を
持ち、通例の有機溶媒(ヘキサン、トルエン…
…)の大多数に可融性及び可溶性である。 硼素及び窒素を基材とするこれらのポリマーに
は、窒化硼素を含有するセラミツク化合物及び少
なくとも製品の生産で非常に特別な用途が発見さ
れた。 本発明に従う、最も一般的場合(粉末の生産)
には、ポリマーは100℃から2000℃に漸進的に上
がる温度において、アンモニア雰囲気中で熱分解
され、この処理はポリマーが完全に窒化硼素に転
換されるまで続けられる。 一般に窒化硼素への完全な転換は、800℃から
1100℃の間の温度で得られるが、しかしながら、
セラミツクの結晶化を更に改良する為には、より
高い温度、特に、1500℃から2000℃の温度になる
まで加熱を続ける事が必要である。 ポリマーは、熱分解の前にも賦形(例えば、フ
イルム形成、成形又は紡糸により)できる。もし
フアイバーを得る事を所望するならば、ポリマー
は従来のダイを使用して紡糸され(もし、融解し
た後に紡糸に適するならば)及び、次にアンモニ
ア雰囲気中で100℃から2000℃の範囲の温度で窒
化硼素フアイバーを与えるために加熱処理がされ
る。 もし必要ならば、該加熱処理の前に、温度及
び/又は機械的特性を改質する事を意図する処
理、特に、塩化水素雰囲気中での処理をフアイバ
ーにする事が可能である。 得られたフアイバーは次にセラミツク/セラミ
ツクー、セラミツク/金属−又はセラミツク/プ
ラスチツク−タイプの複合材料のための強化構造
部材として使用できる。 [実施例の説明] 例 1 トリエチルアミン(TEA)13.7g(0.43モル)、
モノ−n−ブチルアミン15g(0.205モル)及びト
ルエン(溶媒)300mlを窒素雰囲気下で乾燥した
1の丸底フラスコに投入する。 第二の丸底フラスコで、
【式】17.1g(0.093モル)
をトルエン400mlに溶解する。この溶液を1時間
30分かけて室温で最初のフラスコに流し込む;反
応混合物の温度は25℃から35℃に上がる。 20℃で4時間攪拌しながら放置して、次に
TEAヒドロクロリドの沈殿を窒素雰囲気中で
過する。 溶媒を蒸発させた後に、粘性の黄色いオイル
14gが単離される。 得られたポリマーの特性は、 −残留塩素分:0.98重量% −熱重量分析(TGA)(850℃においてヘリウム
雰囲気中で):38.9%である。 このポリマーをアンモニア雰囲気中、1000℃で
熱分解してセラミツクを得た。この物は赤外線分
析とラマン分析で窒化硼素である事が確認され
た。収率は36.3重量%であつた。 元素分析で該セラミツクの組成(%は重量で与
えられる)は以下: B=40.8% N=57.8% C< 0.1% H= 0.5% O= 1.1% で与えられる。 例 2 (B(Cl)−N(H))310.7g(0.058モル)のトル
エ
ン200ml溶液を窒素雰囲気中で乾燥した250mlの丸
底フラスコに用意する。 −10℃でモノメチルアミン18g(0.58モル)及び
トルエン250mlを窒素雰囲気中で乾燥した500mlの
反応器に投入する。 45分間かけて、−10℃と30℃の間で変化する温
度で第一の溶液を第二の溶液に流し込み、次に混
合物を16時間攪拌しながら放置する。 過及び蒸発の後に、白いわずかに粘着性の固
体ポリマー5gを回収する。 得られたポリマーの特性は以下: 軟化温度:50℃ Mn(数平均分子量)=310 Mw(重量平均分子量)=450 Ip=1.44 TGA(熱重量分析;850℃でヘリウム雰囲気中)
=53.0% 残留塩素の比率=0.2重量% である。 このポリマーは次にアンモニア雰囲気中でセラ
ミツクを得る為に1000℃で熱分解され、セラミツ
クは赤外及びラマン分析により窒化硼素である事
が確認できる。 1000℃での熱分解収率:46.7重量% セラミツク中の炭素の割合:0.18重量% 例 3 B−トリクロルボラゾール55g(0.3モル)及び
トルエン1900mlを、窒素雰囲気中で乾燥した3
の3首反応器に投入する。 次に、プロピルアミン141g(2.3モル)を1時間
かけて中に流し込むが、その間に温度は23℃から
45℃に上がる。 反応混合物を3時間還流下で加熱して、次に窒
素雰囲気中で過する。 溶液のサンプルを、溶液の力価及び前駆物質の
特性を確かめる為に蒸発させる。 溶液の残りを溶液Aと呼ぶ。 反応収率は75.6重量%である。この生成物はト
ルエンに可溶性である;生成物は、室温で粘着性
並びに安定である。 45℃の融点を有する。 1000℃におけるアンモニア雰囲気中での熱分解
収率は33.6%である。 例 4 B−トリクロルボラゾール57.2g(0.31モル)及
びトルエン2100mlを窒素雰囲気中で乾燥した3
の反応器に投入する。 メチルアミン77g(2.48モル)を1時間30分かけ
て添加するが、その間に反応混合物の温度が25℃
から50℃まで上がる。 続いて反応混合物を還流下で3時間加熱して、
次に、窒素雰囲気中で過する。 溶液のサンプルを、溶液の力価及び前駆物質の
特性を確かめる為に蒸発させる。 溶液の残りを、溶液Bと呼ぶ。 反応収率は64.3重量%である。 この生成物は、トルエンにわずかに可溶性で並
びに加熱に対して弱い安定性(加熱に基づく架橋
結合)を有する。 室温で、この生成物は固体である。 1000℃においてアンモニア雰囲気中での熱分解
収率は、48.1重量%である。 例 5 前に得られた2種類の溶液A及びBは、与えら
れた割合(乾燥した抽出物で計算される)で混合
されそして次に混合物は混合物の特性に基づいて
2種の前駆物質の相互的な影響を確認する為に蒸
発させる。 a A/Bの重量比=51.3/48.7 したがつて得られた前駆物質は室温で透明な
固体で並びに100℃で液体である;融点は70℃
である。トルエンは部分的に可溶性である。
1000℃を超える温度におけるこの前駆物質混合
物のアンモニア雰囲気中での熱分解収率は
39.67重量%である。 b A/Bの重量比=74.4/24.6 したがつて得られた前駆物質は、室温で透明
な固体で並びに100℃で液体である;融点は50
℃である。トルエンに可溶性である。 1000℃を超える温度におけるこの前駆物質混
合物のアンモニア雰囲気中での熱分解収率は、
35.2%である。 例 6 例2において、出発反応体がメチルアミン及び
(B(Cl)−N(H))3である合成が記載されている
。
得られた前駆物質は2種類の異なつた処理に従
う。 −アンモニア雰囲気中での熱分解: 前駆物質は架橋された特性を改良する為に、ア
ンモニア雰囲気中で30℃から200℃まで加熱され
次に4時間後にアンモニア雰囲気中で200℃から
1000°まで加熱される。 熱分解における収率は、48.9重量%である。赤
外及びラマン分析でセラミツクが窒化硼素である
と確認できる。 元素分析で該セラミツクの組成(%は重量で与
えられる)は以下: B=40.9% N=55.5% C= 0.3% H= 0.5% O= 1.2% で与えられる。 − 窒素雰囲気中での熱分解: 熱分解の手順は、アンモニア雰囲気中での熱分
解において、アンモニアを窒素と置換する場合と
同様である。 熱分解による収率は46.1重量%である。元素分
析で該セラミツクの組成(%は重量で与えられ
る)は以下: B=40.1% N=55.1% C= 2.1% H= 0.2% O= 1.6% で与えられる。
30分かけて室温で最初のフラスコに流し込む;反
応混合物の温度は25℃から35℃に上がる。 20℃で4時間攪拌しながら放置して、次に
TEAヒドロクロリドの沈殿を窒素雰囲気中で
過する。 溶媒を蒸発させた後に、粘性の黄色いオイル
14gが単離される。 得られたポリマーの特性は、 −残留塩素分:0.98重量% −熱重量分析(TGA)(850℃においてヘリウム
雰囲気中で):38.9%である。 このポリマーをアンモニア雰囲気中、1000℃で
熱分解してセラミツクを得た。この物は赤外線分
析とラマン分析で窒化硼素である事が確認され
た。収率は36.3重量%であつた。 元素分析で該セラミツクの組成(%は重量で与
えられる)は以下: B=40.8% N=57.8% C< 0.1% H= 0.5% O= 1.1% で与えられる。 例 2 (B(Cl)−N(H))310.7g(0.058モル)のトル
エ
ン200ml溶液を窒素雰囲気中で乾燥した250mlの丸
底フラスコに用意する。 −10℃でモノメチルアミン18g(0.58モル)及び
トルエン250mlを窒素雰囲気中で乾燥した500mlの
反応器に投入する。 45分間かけて、−10℃と30℃の間で変化する温
度で第一の溶液を第二の溶液に流し込み、次に混
合物を16時間攪拌しながら放置する。 過及び蒸発の後に、白いわずかに粘着性の固
体ポリマー5gを回収する。 得られたポリマーの特性は以下: 軟化温度:50℃ Mn(数平均分子量)=310 Mw(重量平均分子量)=450 Ip=1.44 TGA(熱重量分析;850℃でヘリウム雰囲気中)
=53.0% 残留塩素の比率=0.2重量% である。 このポリマーは次にアンモニア雰囲気中でセラ
ミツクを得る為に1000℃で熱分解され、セラミツ
クは赤外及びラマン分析により窒化硼素である事
が確認できる。 1000℃での熱分解収率:46.7重量% セラミツク中の炭素の割合:0.18重量% 例 3 B−トリクロルボラゾール55g(0.3モル)及び
トルエン1900mlを、窒素雰囲気中で乾燥した3
の3首反応器に投入する。 次に、プロピルアミン141g(2.3モル)を1時間
かけて中に流し込むが、その間に温度は23℃から
45℃に上がる。 反応混合物を3時間還流下で加熱して、次に窒
素雰囲気中で過する。 溶液のサンプルを、溶液の力価及び前駆物質の
特性を確かめる為に蒸発させる。 溶液の残りを溶液Aと呼ぶ。 反応収率は75.6重量%である。この生成物はト
ルエンに可溶性である;生成物は、室温で粘着性
並びに安定である。 45℃の融点を有する。 1000℃におけるアンモニア雰囲気中での熱分解
収率は33.6%である。 例 4 B−トリクロルボラゾール57.2g(0.31モル)及
びトルエン2100mlを窒素雰囲気中で乾燥した3
の反応器に投入する。 メチルアミン77g(2.48モル)を1時間30分かけ
て添加するが、その間に反応混合物の温度が25℃
から50℃まで上がる。 続いて反応混合物を還流下で3時間加熱して、
次に、窒素雰囲気中で過する。 溶液のサンプルを、溶液の力価及び前駆物質の
特性を確かめる為に蒸発させる。 溶液の残りを、溶液Bと呼ぶ。 反応収率は64.3重量%である。 この生成物は、トルエンにわずかに可溶性で並
びに加熱に対して弱い安定性(加熱に基づく架橋
結合)を有する。 室温で、この生成物は固体である。 1000℃においてアンモニア雰囲気中での熱分解
収率は、48.1重量%である。 例 5 前に得られた2種類の溶液A及びBは、与えら
れた割合(乾燥した抽出物で計算される)で混合
されそして次に混合物は混合物の特性に基づいて
2種の前駆物質の相互的な影響を確認する為に蒸
発させる。 a A/Bの重量比=51.3/48.7 したがつて得られた前駆物質は室温で透明な
固体で並びに100℃で液体である;融点は70℃
である。トルエンは部分的に可溶性である。
1000℃を超える温度におけるこの前駆物質混合
物のアンモニア雰囲気中での熱分解収率は
39.67重量%である。 b A/Bの重量比=74.4/24.6 したがつて得られた前駆物質は、室温で透明
な固体で並びに100℃で液体である;融点は50
℃である。トルエンに可溶性である。 1000℃を超える温度におけるこの前駆物質混
合物のアンモニア雰囲気中での熱分解収率は、
35.2%である。 例 6 例2において、出発反応体がメチルアミン及び
(B(Cl)−N(H))3である合成が記載されている
。
得られた前駆物質は2種類の異なつた処理に従
う。 −アンモニア雰囲気中での熱分解: 前駆物質は架橋された特性を改良する為に、ア
ンモニア雰囲気中で30℃から200℃まで加熱され
次に4時間後にアンモニア雰囲気中で200℃から
1000°まで加熱される。 熱分解における収率は、48.9重量%である。赤
外及びラマン分析でセラミツクが窒化硼素である
と確認できる。 元素分析で該セラミツクの組成(%は重量で与
えられる)は以下: B=40.9% N=55.5% C= 0.3% H= 0.5% O= 1.2% で与えられる。 − 窒素雰囲気中での熱分解: 熱分解の手順は、アンモニア雰囲気中での熱分
解において、アンモニアを窒素と置換する場合と
同様である。 熱分解による収率は46.1重量%である。元素分
析で該セラミツクの組成(%は重量で与えられ
る)は以下: B=40.1% N=55.1% C= 2.1% H= 0.2% O= 1.6% で与えられる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次式(): 【化】 の少なくとも1個のB−トリハロゲノボラゾール
と次式(): H2N−R の少なくとも1個の第一アミン(式中、化学式X
はハロゲンを表わし、Rは炭素原子を1〜6個含
む任意の置換された炭化水素基を表わす)とを反
応させた生成物をアンモニア雰囲気中で熱分解す
る事を特徴とする窒化硼素の製造方法。 2 該基Rは、飽和炭化水素基から成る事を特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 該基Rは、C1〜C4の炭化水素基から成る事
を特徴とする特許請求の範囲第1〜2項のいずれ
かに記載の方法。 4 該基Rは、アルキル基から成る事を特徴とす
る特許請求の範囲第1〜3項のいずれかに記載の
方法。 5 該Xは、塩素から成る事を特徴とする特許請
求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の方法。 6 該反応は、有機溶媒中で実施する事を特徴と
する特許請求の範囲第1〜5項のいずれかに記載
の方法。 7 該反応は、化学量論量で過剰量の第一アミン
の存在下で実施する事を特徴とする特許請求の範
囲第1〜6項のいずれかに記載の方法。 8 生成物は溶液形であり、別個のアミノリシス
反応の生成物を混合したものである事を特徴とす
る特許請求の範囲第1〜7項のいずれかに記載の
方法。 9 生成物は、プロピルアミンのアミノリシス生
成物及びメチルアミンのアミノリシス生成物の混
合物である事を特徴とする特許請求の範囲第8項
記載の方法。 10 メチルアミンのアミノリシス反応の生成物
に対するプロピルアミンのアミノリシス反応の生
成物の重量比が0.6〜1.5の間である事を特徴とす
る特許請求の範囲第9項記載の方法。 11 該熱分解の前に該反応生成物を、所望され
る製品、特にフアイバー又は被膜フイルムに賦形
する事を特徴とする特許請求の範囲第1〜10項
記載の方法。 12 特許請求の範囲第11項記載の方法で実施
して得られる窒化硼素のセラミツク製品。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR89/02169 | 1989-02-20 | ||
FR8902169A FR2643358B1 (fr) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | Procede de preparation de nitrure de bore |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02263714A JPH02263714A (ja) | 1990-10-26 |
JPH0569764B2 true JPH0569764B2 (ja) | 1993-10-01 |
Family
ID=9378935
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2029773A Granted JPH02263714A (ja) | 1989-02-20 | 1990-02-13 | 窒化硼素の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5021371A (ja) |
EP (1) | EP0384857B1 (ja) |
JP (1) | JPH02263714A (ja) |
AT (1) | ATE106362T1 (ja) |
DE (1) | DE69009225T2 (ja) |
FR (1) | FR2643358B1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2679228A1 (fr) * | 1991-07-17 | 1993-01-22 | Atochem | Procede de preparation de ceramiques en nitrure de bore a partir de precurseurs derives de l'hydrazine. |
US5250484A (en) * | 1991-11-26 | 1993-10-05 | Mobil Oil Corporation | Surface modified porous acidic crystalline catalyst |
JP2720381B2 (ja) * | 1995-10-03 | 1998-03-04 | アドバンス・セラミックス・インターナショナル コーポレーション | 任意の電気抵抗率を有する熱分解窒化ホウ素成形体の製造方法 |
JP2002220213A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-08-09 | Sony Corp | Iiib族窒素化合物の合成方法 |
JP4596985B2 (ja) * | 2005-06-06 | 2010-12-15 | Jx日鉱日石エネルギー株式会社 | 多孔性物質およびその製造方法 |
FR2933690B1 (fr) * | 2008-07-11 | 2010-09-10 | Centre Nat Rech Scient | Nanonitrure de bore cubique |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4054708A (en) * | 1970-06-04 | 1977-10-18 | Pfizer Inc. | Film of pyrolytic graphite having bi-directional reinforcing properties |
US4578283A (en) * | 1982-09-23 | 1986-03-25 | Allied Corporation | Polymeric boron nitrogen dopant |
JPS6147735A (ja) * | 1984-08-11 | 1986-03-08 | Isoji Taniguchi | 有機窒化ホウ素重合体の製造法 |
US4581468A (en) * | 1985-05-13 | 1986-04-08 | Ultrasystems, Inc. | Boron nitride preceramic polymers |
US4801439A (en) * | 1986-09-15 | 1989-01-31 | Sri International | Catalytic process for making compounds having a non-Lewis acid/base bond between a group IIIA metal and group VA nonmetal |
US4810436A (en) * | 1986-11-21 | 1989-03-07 | Hoechst Celanese Corp. | Process for the formation of boron-containing ceramics from organoboron preceramic polymers |
US4707556A (en) * | 1987-02-13 | 1987-11-17 | Ultrasystems Defense And Space, Inc. | Boron nitride polymeric precursors |
-
1989
- 1989-02-20 FR FR8902169A patent/FR2643358B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-02-13 JP JP2029773A patent/JPH02263714A/ja active Granted
- 1990-02-14 EP EP90420080A patent/EP0384857B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-14 AT AT90420080T patent/ATE106362T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-02-14 DE DE69009225T patent/DE69009225T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-02-20 US US07/482,073 patent/US5021371A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2643358A1 (fr) | 1990-08-24 |
JPH02263714A (ja) | 1990-10-26 |
FR2643358B1 (fr) | 1991-11-22 |
DE69009225D1 (de) | 1994-07-07 |
US5021371A (en) | 1991-06-04 |
ATE106362T1 (de) | 1994-06-15 |
EP0384857B1 (fr) | 1994-06-01 |
DE69009225T2 (de) | 1994-09-15 |
EP0384857A1 (fr) | 1990-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4675424A (en) | Method for making polysilazanes | |
JPH0725893B2 (ja) | 窒化ほう素の先駆物質であるほう素と窒素を基にした重合体の合成法及びそれより得られる新規な物質 | |
JPH01129033A (ja) | 窒化ほう素を基にしたセラミック製品及び物品の製造に特に使用できるほう素と窒素を基にした重合体並びにその製造方法 | |
JP2511074B2 (ja) | プリセラミツク重合体、セラミック材料及びそれらの製造方法 | |
JP2011516676A (ja) | ケイ素−ホウ素−炭素−窒素セラミック及び前駆物質化合物、RnHal3−nSi−X−BRmHal2−mの塩フリー重合方法 | |
JPH0569764B2 (ja) | ||
JPH01160871A (ja) | ポリシラザン、その製造方法、これから製造可能な窒化ケイ素を含有するセラミック材料並びにその製造方法 | |
JPH01129034A (ja) | ほう素と窒素を基にした重合体、その製造方法並びに窒化ほう素を基にしたセラミック製品及び製造への使用 | |
US5086126A (en) | Method for producing functional silazane polymers | |
US5008423A (en) | Polymeric hydridochlorosilazanes and processes for their preparation | |
JPH0725892B2 (ja) | メチルポリジシリラザン重合体の調製方法及び用途 | |
EP0511568B1 (de) | Organische Silazanpolymere, Verfahren zu ihrer Herstellung, sowie ein Verfahren zur Herstellung von Keramikmaterialien | |
JPH01292037A (ja) | 窒化ほう素の先駆体であるほう素と窒素を基にした重合体の製造法 | |
US5071935A (en) | Boron/nitrogen preceramic polymers and boron nitride ceramic materials produced therefrom | |
US5196556A (en) | Polysubstituted chlorine-containing silazane polymers, process for their preparation, ceramic materials containing silicon nitride which can be manufactured therefrom, and their manufacture | |
US5182411A (en) | Polymeric chlorosilazanes, process for their preparation, ceramic materials containing silicon nitride which can be manufactured therefrom, and their manufacture | |
EP0375972B1 (de) | Polymere Hydridochlorsilazane, Verfahren zu ihrer Herstellung, sowie deren Verwendung zur Herstellung Siliziumnitrid enthaltender keramischer Materialien | |
US5187252A (en) | Silazane polymers containing sicl groups, process for their preparation, silicon nitride-containing ceramic materials which can be prepared from them, and their preparation | |
JPH02293306A (ja) | ホウ素及び窒素を基にした重合体を窒化ホウ素を主体とするセラミック用の前駆物質として使用する方法並びにかくして得たセラミック製品 | |
JPH04227637A (ja) | 特にセラミック繊維の製造のための硼素及び窒素を主体としたポリマーの架橋方法 | |
JPH0384035A (ja) | ほう素、窒素およびけい素を基剤とする有機金属セラミック先駆物質 | |
US5272242A (en) | Hydrazino/polyhydrosilazanes | |
JPH0559186A (ja) | 重合体シラザン、その製造方法およびその使用 | |
CA2004395A1 (en) | Oligomeric silazanes and process for their preparation | |
CA2034953A1 (en) | .alpha.,w-chlorosilazanes, and a process for their preparation |