JPH0568005B2 - - Google Patents
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- JPH0568005B2 JPH0568005B2 JP11592684A JP11592684A JPH0568005B2 JP H0568005 B2 JPH0568005 B2 JP H0568005B2 JP 11592684 A JP11592684 A JP 11592684A JP 11592684 A JP11592684 A JP 11592684A JP H0568005 B2 JPH0568005 B2 JP H0568005B2
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録に適する磁気記録媒体
に関する。 従来例の構成とその問題点 近年、磁気記録の高密度化は狭トラツク化と同
時に記録波長の短縮化により進められているが、
周知のように、記録波長が1〓m以下になり、ス
ペーシング損失の点から、表面粗さに制約が生
じ、最大でも500Å以下にする必要が生じるとと
もに磁気記録媒体は、磁気記録層を薄膜化するこ
とと、強磁性金属で構成することが不可欠となつ
てきたためかかる媒体の開発が各方面で進められ
るようになつた。 現在最も磁気テープとして性能のまとまりが良
いものは、Co系合金の部分酸化膜を磁気記録層
とするものであるが、高密度化を進める前提とな
る合金系ヘツドとの相性が必ずしも十分ではな
い。 即ち、センダスト合金ヘツドや、アモルフアス
合金ヘツド等で記録再生すると、フエライトヘツ
ドで記録再生するように安定に再生出力が得られ
ない問題があり、改良が望まれていた。 発明の目的 本発明は上記事情に鑑みなされたものであり、
高出力を短波長域でも安定して再生できる磁気記
録体を提供することを目的とする。 発明の構成 本発明の磁気記録媒体は、微小突起を有する部
分酸化膜を磁気記録層とし、最大高さの突起が、
Crの酸化物であることを特徴とし、合金系ヘツ
ドによる記録再生に於て、安定な短波長出力を確
保できるものである。 実施例の説明 以下図面を参照しながら本発明を説明する。 第1図は、本発明の磁気記録媒体の部分拡大断
面図で、第2図は、本発明の磁気記録媒体を得る
ために用いた蒸着装置の要部構成図である。 第1図で、1は高分子基板、2は突起を形成す
るための微粒子、3は部分酸化膜からなる磁気記
録層、4は最大高さの突起部を模式的に示したも
ので、この部分は少くともCrの酸化物になつて
いるもので、5は潤滑層である。 第2図で、6は円筒状キヤン、7は基板、8は
送り出し軸、9は巻取り軸、10は蒸発源容器、
11は蒸着材料で、12はCr供給機層、13は
マスク14は模式的に示した、入射角90゜から〓
mmまでの蒸気流である。 本発明で用いられる高分子基板は、ポリエチレ
ンテレフタレート等のポリエステル類、ポリプロ
ピレン等のポリオレフイン類、セルローストリア
セテート等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポ
リエーテルスルフオン、ポリイミド等であらかじ
め、ミミズ状の塗布層を配したものも含まれる。 本発明の突起形成に用いる微粒子はポリイミ
ド、ポリエステル等の有機系、炭化カルシウム、
弗化カルシウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化
バリウム等の無機系の単独又は混合系があり、高
分子基板上に塗布、分散せしめることで得られ、
バインダはいずれであつても良い。 本発明に用いることの出来る磁気記録層は、 Co、Co−Ni、Co−Fe、Co−B、Co−Cu、Co
−Cd、Co−Cr、Co−F、Co−Ge、Co−Hf、
Co−La、Co−Mn、Co−Mo、Co−Mg、Co−
P、Co−Ru、Co−Rh、Co−Sn、Co−Si、Co−
Sm、Co−Ta、Co−Ti、Co−V、Co−W、Co
−Zn、Co−Ni−Fe、Co−Ni−p、Co−Ni−
Mg等の部分酸化膜であつて、かつ、最大高さの
部分はCrの酸化物で構成される。 尚Crの酸化物が最大突起になるのは、製法と
も関係しているものであるが、酸素中で、真空蒸
着する時、Crが酸素によりトラツプされ易いた
め、異常成長することからくると考えられるもの
である。高さの制御は、基板温度と、蒸着速度
と、酸素分圧で調節すればよいが、この高さが、
他の突起部に比して高すぎると、短波長出力の低
下をきたすので実験的に決める必要がある。 本発明の構成を得るには、第2図に示したよう
に、蒸着材料11中に、CrをPowder状で、プロ
グラムコントロールして供給し、フラシシユ蒸着
することを基本にして工夫すれば良い。 従つて、磁気テープ面に、どのようにCrの酸
化物を分布させるかは、Cr供給方法に依存する
ので、この条件の最適化も実験的に求めることが
できる。 本発明の構成によれば、安定した短波長出力が
得られるのは、恐らくCrの酸化物の良好な研摩
性にあると思われるもので、単に形状効果のみで
はないと判断できるものである。 以下、さらに具体的に一実施例を説明する。 〔実施例〕 第2図で、円筒状キヤン(直径50cm)の直下に
26cm離して電子ビーム蒸発源を配し、〓mm40゜に
なるようにマスクを設けて、酸素雰囲気で真空蒸
着した。 用いた基板は厚み11〓mのポリエチレンテレフ
タレートフイルム上に、平均粒径250Åのチタニ
ア粒子を約108個/cm2の密度で分散させたものを
用いた。チタニア粒子の固定はポリエステル樹脂
によつた。 この基板を22m/mmで移動させながらあらかじ
め1×10-7Torrまで排気した後、酸素を導入し
て7×10-6Torrの酸素分圧下で、Coを電子ビー
ム蒸着した。 一方、クロムの平均粒子20〓mの粒子を基板移
動方向と直交方向に、往復走査させながら、ラン
ダムにCoの溶湯中に投入した。投入量は平均70
mg/mm〜700mg/mmの間で条件を変えた。 平均厚み1000ÅのCoの部分酸化膜を蒸着後表
面に、メチルエチルケトンに溶かしたミリスチン
酸を乾燥厚み60Åとなるように溶布乾燥し潤滑層
を形成した。 それらを8mm幅の磁気テープとして、フエライ
トヘツド、センダスト合金ヘツド、アモルフアス
合金ヘツドで記録波長0.7〓mの信号をくり返し
再生し、各パス間での再生出力の一番低下した値
を夫々のヘツドテープ系の初期値の値をO〔dB〕
として相対比較した。 比較テープは、Crの供給を行わなかつたもの
である。
に関する。 従来例の構成とその問題点 近年、磁気記録の高密度化は狭トラツク化と同
時に記録波長の短縮化により進められているが、
周知のように、記録波長が1〓m以下になり、ス
ペーシング損失の点から、表面粗さに制約が生
じ、最大でも500Å以下にする必要が生じるとと
もに磁気記録媒体は、磁気記録層を薄膜化するこ
とと、強磁性金属で構成することが不可欠となつ
てきたためかかる媒体の開発が各方面で進められ
るようになつた。 現在最も磁気テープとして性能のまとまりが良
いものは、Co系合金の部分酸化膜を磁気記録層
とするものであるが、高密度化を進める前提とな
る合金系ヘツドとの相性が必ずしも十分ではな
い。 即ち、センダスト合金ヘツドや、アモルフアス
合金ヘツド等で記録再生すると、フエライトヘツ
ドで記録再生するように安定に再生出力が得られ
ない問題があり、改良が望まれていた。 発明の目的 本発明は上記事情に鑑みなされたものであり、
高出力を短波長域でも安定して再生できる磁気記
録体を提供することを目的とする。 発明の構成 本発明の磁気記録媒体は、微小突起を有する部
分酸化膜を磁気記録層とし、最大高さの突起が、
Crの酸化物であることを特徴とし、合金系ヘツ
ドによる記録再生に於て、安定な短波長出力を確
保できるものである。 実施例の説明 以下図面を参照しながら本発明を説明する。 第1図は、本発明の磁気記録媒体の部分拡大断
面図で、第2図は、本発明の磁気記録媒体を得る
ために用いた蒸着装置の要部構成図である。 第1図で、1は高分子基板、2は突起を形成す
るための微粒子、3は部分酸化膜からなる磁気記
録層、4は最大高さの突起部を模式的に示したも
ので、この部分は少くともCrの酸化物になつて
いるもので、5は潤滑層である。 第2図で、6は円筒状キヤン、7は基板、8は
送り出し軸、9は巻取り軸、10は蒸発源容器、
11は蒸着材料で、12はCr供給機層、13は
マスク14は模式的に示した、入射角90゜から〓
mmまでの蒸気流である。 本発明で用いられる高分子基板は、ポリエチレ
ンテレフタレート等のポリエステル類、ポリプロ
ピレン等のポリオレフイン類、セルローストリア
セテート等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポ
リエーテルスルフオン、ポリイミド等であらかじ
め、ミミズ状の塗布層を配したものも含まれる。 本発明の突起形成に用いる微粒子はポリイミ
ド、ポリエステル等の有機系、炭化カルシウム、
弗化カルシウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化
バリウム等の無機系の単独又は混合系があり、高
分子基板上に塗布、分散せしめることで得られ、
バインダはいずれであつても良い。 本発明に用いることの出来る磁気記録層は、 Co、Co−Ni、Co−Fe、Co−B、Co−Cu、Co
−Cd、Co−Cr、Co−F、Co−Ge、Co−Hf、
Co−La、Co−Mn、Co−Mo、Co−Mg、Co−
P、Co−Ru、Co−Rh、Co−Sn、Co−Si、Co−
Sm、Co−Ta、Co−Ti、Co−V、Co−W、Co
−Zn、Co−Ni−Fe、Co−Ni−p、Co−Ni−
Mg等の部分酸化膜であつて、かつ、最大高さの
部分はCrの酸化物で構成される。 尚Crの酸化物が最大突起になるのは、製法と
も関係しているものであるが、酸素中で、真空蒸
着する時、Crが酸素によりトラツプされ易いた
め、異常成長することからくると考えられるもの
である。高さの制御は、基板温度と、蒸着速度
と、酸素分圧で調節すればよいが、この高さが、
他の突起部に比して高すぎると、短波長出力の低
下をきたすので実験的に決める必要がある。 本発明の構成を得るには、第2図に示したよう
に、蒸着材料11中に、CrをPowder状で、プロ
グラムコントロールして供給し、フラシシユ蒸着
することを基本にして工夫すれば良い。 従つて、磁気テープ面に、どのようにCrの酸
化物を分布させるかは、Cr供給方法に依存する
ので、この条件の最適化も実験的に求めることが
できる。 本発明の構成によれば、安定した短波長出力が
得られるのは、恐らくCrの酸化物の良好な研摩
性にあると思われるもので、単に形状効果のみで
はないと判断できるものである。 以下、さらに具体的に一実施例を説明する。 〔実施例〕 第2図で、円筒状キヤン(直径50cm)の直下に
26cm離して電子ビーム蒸発源を配し、〓mm40゜に
なるようにマスクを設けて、酸素雰囲気で真空蒸
着した。 用いた基板は厚み11〓mのポリエチレンテレフ
タレートフイルム上に、平均粒径250Åのチタニ
ア粒子を約108個/cm2の密度で分散させたものを
用いた。チタニア粒子の固定はポリエステル樹脂
によつた。 この基板を22m/mmで移動させながらあらかじ
め1×10-7Torrまで排気した後、酸素を導入し
て7×10-6Torrの酸素分圧下で、Coを電子ビー
ム蒸着した。 一方、クロムの平均粒子20〓mの粒子を基板移
動方向と直交方向に、往復走査させながら、ラン
ダムにCoの溶湯中に投入した。投入量は平均70
mg/mm〜700mg/mmの間で条件を変えた。 平均厚み1000ÅのCoの部分酸化膜を蒸着後表
面に、メチルエチルケトンに溶かしたミリスチン
酸を乾燥厚み60Åとなるように溶布乾燥し潤滑層
を形成した。 それらを8mm幅の磁気テープとして、フエライ
トヘツド、センダスト合金ヘツド、アモルフアス
合金ヘツドで記録波長0.7〓mの信号をくり返し
再生し、各パス間での再生出力の一番低下した値
を夫々のヘツドテープ系の初期値の値をO〔dB〕
として相対比較した。 比較テープは、Crの供給を行わなかつたもの
である。
【表】
突起高さは、触針式の粗さ計の最大と最小値の幅で決
めた。
表より明らかなように、本発明品は磁気ヘツド
によらず、短波長再生出力が極めて安定している
ことがわかる。 本発明では、容易軸の方向にもよらないので、
テープ形態として用いる磁気記録媒体としては、
他の材料の組み合わせでも同様の効果を確認し
た。 発明の効果 本発明の磁気記録媒体は、最大高さの突起が
Crの酸化物から成る、微小突起を有する部品酸
化強磁性金属薄膜から成る磁気記録層を特徴と
し、磁気ヘツドによらず、短波長出力を安定に再
生せしめることができるものであつて、その実用
的効果は大きい。
めた。
表より明らかなように、本発明品は磁気ヘツド
によらず、短波長再生出力が極めて安定している
ことがわかる。 本発明では、容易軸の方向にもよらないので、
テープ形態として用いる磁気記録媒体としては、
他の材料の組み合わせでも同様の効果を確認し
た。 発明の効果 本発明の磁気記録媒体は、最大高さの突起が
Crの酸化物から成る、微小突起を有する部品酸
化強磁性金属薄膜から成る磁気記録層を特徴と
し、磁気ヘツドによらず、短波長出力を安定に再
生せしめることができるものであつて、その実用
的効果は大きい。
第1図は本発明の磁気記録媒体の部品拡大断面
図、第2図は本発明の磁気記録媒体を得るのに用
いた蒸着装置の要部構成図である。 1……高分子基板、2……微粒子、3……部分
酸化された強磁性金属薄膜、4……最大突起部
(Crの酸化物)。
図、第2図は本発明の磁気記録媒体を得るのに用
いた蒸着装置の要部構成図である。 1……高分子基板、2……微粒子、3……部分
酸化された強磁性金属薄膜、4……最大突起部
(Crの酸化物)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 微小 突起を有する部分酸化膜を磁気記録層とし最大高
さの突起がCrの酸化物であることを特徴とする
磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11592684A JPS60261017A (ja) | 1984-06-06 | 1984-06-06 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11592684A JPS60261017A (ja) | 1984-06-06 | 1984-06-06 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60261017A JPS60261017A (ja) | 1985-12-24 |
JPH0568005B2 true JPH0568005B2 (ja) | 1993-09-28 |
Family
ID=14674610
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11592684A Granted JPS60261017A (ja) | 1984-06-06 | 1984-06-06 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60261017A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19601730A1 (de) * | 1995-01-23 | 1996-07-25 | Fujitsu Ltd | Nichtmagnetisches Substrat, magnetisches Aufzeichnungsmedium, magnetisches Aufzeichnungslaufwerk, Verfahren zum Herstellen derselben und Verfahren zum Umwandeln einer Oberfläche einer Schicht in eine rauhe Oberfläche |
-
1984
- 1984-06-06 JP JP11592684A patent/JPS60261017A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60261017A (ja) | 1985-12-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |