JPH0564636B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

技術分野 本発明は新規なる５−フルオロウリジン誘導体
の製造法に関する。 発明の構成 本発明で得られる５−フルオロウリジン誘導体
は一般式 〔式中Ｒはフエニル環上に低級アルキル基、低
級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置
換基を有することのあるフエニル低級アルキル基
又は置換基として低級アルキレンジオシ基又はフ
エニル基を有するフエニル低級アルキル基を示
す。〕 で表わされる。上記の化合物(1)は優れた制癌作用
等を有し、抗腫瘍剤等の医薬として極めて有用で
ある。 本発明者等は2′−デオキシ−５−フルオロウリ
ジンの抗腫瘍強化向上及び低毒性化を企てるべく
鋭意検討を重ねた結果、該2′−デオキシ−５−フ
ルオロウリジンの3′位を特定の、置換基を有しも
しくは有さないフエニル低級アルキル基で置換し
た新規な化合物を簡単な操作で、より収率よく製
造する方法を開発するのに成功し、本発明を完成
するに至つた。 即ち、本発明の特徴とする所は、一般式 〔式中Ｒは上記と同様の意味を表わす。〕 で表わされる化合物を加水分解反応させて上記一
般式(1)で表わされる目的の５−フルオロウリジン
誘導体を得る点にある。 本発明方法により得られる上記一般式(1)で表わ
される５−フルオロウリジン誘導体において、Ｒ
で定義される置換フエニル低級アルキル基の置換
基としての低級アルキル基としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を、低級アル
コキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、
プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブ
トキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基
を、またハロゲン原子としては、フツ素、塩素、
臭素、沃素原子を夫々例示できる。フエニル環上
に上記置換基を有することのあるフエニル低級ア
ルキル基としては、上記置換基の１〜３個を有す
ることのあるフエニル基と炭素数１〜６のアルキ
レン基例えばメチレン、エチレン、トリメチレ
ン、１−メチルエチレン、テトラメチレン、２−
メチルトリメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメ
チレン基等とが結合したフエニルアルキル基を例
示できる。その具体例は次に示す通りである。 ベンジル、２−メチルベンジル、３−メチルベ
ンジル、４−メチルベンジル、２−エチルベンジ
ル、３−エチルベンジル、４−エチルベンジル、
２−プロピルベンジル、３−プロピルベンジル、
４−プロピルベンジル、２−ブチルベンジル、３
−ブチルベンジル、４−ブチルベンジル、２−ｔ
−ブチルベンジル、３−ｔ−ブチルベンジル、４
−ｔ−ブチルベンジル、２−ペンチルベンジル、
３−ペンチルベンジル、４−ペンチルベンジル、
２−ヘキシルベンジル、３−ヘキシルベンジル、
４−ヘキシルベンジル、２，３−ジメチルベンジ
ル、２，４−ジメチルベンジル、２，５−ジメチ
ルベンジル、２，６−ジメチルベンジル、３，４
−ジメチルベンジル、３，５−ジメチルベンジ
ル、２，３，４−トリメチルベンジル、２，４，
５−トリメチルベンジル、２，３，５−トリメチ
ルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、
３，４，５−トリメチルベンジル、２，３−ジエ
チルベンジル、２，４−ジエチルベンジル、２，
５−ジエチルベンジル、２，６−ジエチルベンジ
ル、２，４，６−トリエチルベンジル、２，４−
ジプロピルベンジル、３，４，５−トリエチルベ
ンジル、３−メチル−４−エチルベンジル、１−
フエニルエチル、２−フエニルエチル、２−フエ
ニル−１−メチルエチル、１−（２−メチルフエ
ニル）エチル、２−（２−メチルフエニル）エチ
ル、２−（３−メチルフエニル）エチル、２−（４
−メチルフエニル）エチル、１−（２，４−ジメ
チルフエニル）エチル、２−（２，４−ジメチル
フエニル）エチル、１−（２，４，６−トリメチ
ルフエニル）エチル、２−（２，４，６−トリメ
チルフエニル）エチル、３−フエニルプロピル、
３−（４−メチルフエニル）プロピル、４−フエ
ニルブチル、４−（２−メチルフエニル）ブチル、
５−フエニルペンチル、５−（３−メチルフエニ
ル）ペンチル、６−フエニルヘキシル、６−（４
−メチルフエニル）ヘキシル、２−メトキシベン
ジル、３−メトキシベンジル、４−メトキシベン
ジル、２，３−ジメトキシベンジル、２，４−ジ
メトキシベンジル、２，５−ジメトキシベンジ
ル、３−メトキシ−４−エトキシベンジル、２，
６−ジメトキシベンジル、３，４−ジメトキシベ
ンジル、３，５−ジメトキシベンジル、２，３，
４−トリメトキシベンジル、２，４，５−トリメ
トキシベンジル、２，３，５−トリメトキシベン
ジル、２，４，６−トリメトキシベンジル、３，
４，５−トリメトキシベンジル、２−エトキシベ
ンジル、４−プロポキシベンジル、３−ブトキシ
ベンジル、２−ｔ−ブトキシベンジル、３−ペン
チルオキシベンジル、４−ヘキシルオキシベンジ
ル、２，３−ジエトキシベンジル、１−（４−メ
トキシフエニル）エチル、２−（３，４−ジメト
キシフエニル）エチル、３−（４−メトキシフエ
ニル）プロピル、４−（２−メトキシフエニル）
ブチル、５−（４−メトキシフエニル）ペンチル、
６−（４−メトキシフエニル）ヘキシル、６−
（３，４，５−トリペンチルオキシフエニル）ヘ
キシル、２−フルオロベンジル、３−フルオロベ
ンジル、４−フルオロベンジル、２，３，ジフル
オロベンジル、２，４−ジフルオロベンジル、
２，５−ジフルオロベンジル、２−フルオロ−３
−クロロベンジル、２−フルオロ−３−ブロモベ
ンジル、２，６−ジフルオロベンジル、２，３，
４−トリフルオロベンジル、２，４，５−トリフ
ルオロベンジル、２，３，５−トリフルオロベン
ジル、２，４，６−トリフルオロベンジル、３，
４，５−トリフルオロベンジル、１−（２−フル
オロフエニル）エチル、２−（２−フルオロフエ
ニル）エチル、３−（３−フルオロフエニル）プ
ロピル、４−（２−フルオロフエニル）ブチル、
５−（２−フルオロフエニル）ペンチル、６−（３
−フルオロフエニル）ヘキシル、２−ブロモベン
ジル、３−ブロモベンジル、４−ブロモベンジ
ル、２，３−ジブロモベンジル、２−ブロモ−３
−フルオロベンジル、２−フルオロ−４−ブロモ
ベンジル、２，４−ジブロモベンジル、２，５−
ジブロモベンジル、２，６−ジブロモベンジル、
２，３，４−トリブロモベンジル、２，４，５−
トリブロモベンジル、２，３，５−トリブロモベ
ンジル、２，４，６−トリブロモベンジル、３，
４，５−トリブロモベンジル、１−（２−ブロモ
フエニル）エチル、２−（２−ブロモフエニル）
エチル、３−（２−ブロモフエニル）プロピル、
４−（３−ブロモフエニル）ブチル、５−（２−ブ
ロモフエニル）ペンチル、６−（４−ブロモフエ
ニル）ヘキシル、２−クロロベンジル、３−クロ
ロベンジル、４−クロロベンジル、２，３−ジク
ロロベンジル、２，４−ジクロロベンジル、２，
５−ジクロロベンジル、２，６，−ジクロロベン
ジル、２−ブロモ−４−クロロベンジル、２−フ
ルオロ−４−クロロベンジル、２，３，４−トリ
クロロベンジル、２，４，５−トリクロロベンジ
ル、２，３，５−トリクロロベンジル、２，４，
６−トリクロロベンジル、３，４，５−トリクロ
ロベンジル、１−（４−クロロフエニル）エチル、
２−（４−クロロフエニル）エチル、３−（２−ク
ロロフエニル）プロピル、４−（４−クロロフエ
ニル）ブチル、５−（３−クロロフエニル）ペン
チル、６−（４−クロロフエニル）ヘキシル、２
−（３，４−ジクロロフエニル）エチル、２−ヨ
ードベンジル、３−ヨードベンジル、４−ヨード
ベンジル、３，４−ジヨードベンジル、３，４，
５−トリヨードベンジル、２−（３−ヨードフエ
ニル）エチル、６−（２−ヨードフエニル）ヘキ
シル基等。 また上記一般式(1)中、Ｒで定義される置換基と
して低級アルキレンジオキシ基又はフエニル基を
有するフエニル低級アルキル基としては、例えば
２，３−メチレンジオキシベンジル、３，４−メ
チレンジオキシベンジル、２，３−エチレンジオ
キシベンジル、３，４−エチレンジオキシベンジ
ル、３，４−トリメチレンジオキシベンジル、
３，４−テトラメチレンジオキシベンジル、１−
（３，４−メチレンジオキシフエニル）エチル、
２−（３，４−メチレンジオキシフエニル）エチ
ル、３−（３，４−メチレンジオキシフエニル）
プロピル、４−（３，４−メチレンジオキシフエ
ニル）ブチル、５−（３，４−メチレンジオキシ
フエニル）ペンチル、６−（３，４−メチレンジ
オキシフエニル）ヘキシル、３−（３，４−トリ
メチレンジオキシフエニル）プロピル、２−フエ
ニルベンジル、３−フエニルベンジル、４−フエ
ニルベンジル、２（３−フエニルフエニル）エチ
ル、１−（４−フエニルフエニル）エチル、２−
（４−フエニルフエニル）エチル、３−（４−フエ
ニルフエニル）プロピル、４−（４−フエニルフ
エニル）ブチル、５−（４−フエニルフエニル）
ペンチル６−（４−フエニルフエニル）ヘキシル
基等の炭素数１〜４個のアルキレンジオキシ基又
はフエニル基が結合したフエニル基と炭素数１〜
６のアルキレン基とが結合したフエニルアルキル
基を例示できる。 本発明の一般式(2)で表わされる化合物の加水分
解反応は、通常の加水分解触媒、例えば、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属
水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
水素ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩などの
塩基性化合物、塩酸などの酸の加水分解触媒の存
在下、適当な溶媒中または無溶媒にて行なわれ
る。 使用される溶媒としては、例えば、水、メタノ
ール、エタノールなどのアルコール類、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、または
これらの混合溶媒が挙げられる。該反応は、通常
０〜120℃、好ましくは室温〜100℃にて、１〜24
時間程度で優利に実施できる。 上記本発明方法において原料として利用する一
般式(2)で表わされる化合物は、文献未載の新規化
合物である。該化合物(2)は、式 で表わされる公知の２，5′−アンヒドロ−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジンと一般式 Ｒ−Ｘ (4) 〔式中Ｒは、前記と同様の意味を表わし、Ｘは
ハロゲン原子を表わす。〕 で表わされるハライドとを反応させることにより
収得される。ここでＸで表わされるハロゲン原子
としては、フツ素、塩素、臭素、沃素原子を夫々
例示できる。本発明はかかる脱ハロゲン化水素反
応工程を含む前記一般式(1)で表わされる目的化合
物の製法をも提供するものである。 上記式(3)で表わされる化合物と一般式(4)で表わ
される化合物との脱ハロゲン化水素反応は、通常
不活性溶媒中、脱酸剤の存在下に実施される。不
活性溶媒としては、例えば水、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、ブタノール、アミル
アルコール、イソアミルアルコール等のアルコー
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジグライム等のエーテル類、ジメチルホルムアミ
ド（DMF）、ジメチルスルホキシド（DMSO）、
ヘキサメチルホスホリツクトリアミド
（HMPA）、Ｎ−メチルピロリドン等を例示でき
る。また脱酸剤としては、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等の水酸化金属化合物、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム等の無機炭酸塩類、ナトリ
ウム、カリウム等のアルカリ金属、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム等の水素化アルカリ金属な
どの無機塩基、ピリジン、キノリン、トリエチル
アミン等の第３級アミン類等の有機塩基性化合物
を例示できる。 式(3)で表わされる化合物と一般式(4)で表わされ
るハライドとの使用割合は、特に限定はなく、広
範囲から任意に選択することができるが、通常前
者に対して後者を少なくとも等モル量程度、好ま
しくは約等モル〜３倍モル量程度とするのが適当
である。反応は冷却及び加熱条件下のいずれでも
進行するが、通常−30〜100℃程度、好ましくは
０〜50℃の温度にて行なわれるのがよく、一般に
５分〜30時間程度で完結する。かくして一般式(2)
で表わされる原料化合物を収得できる。 上記脱ハロゲン化水素反応に引き続く一般式(2)
の化合物の前記加水分解反応は、該一般式(2)の化
合物を単離するか又は単離せずに行なうことがで
きる。 また、前記原料化合物(2)の製造において用いら
れる式(3)で表わされる２，5′−アンヒドロ−2′−
デオキシ−５−フルオロウリジンは、2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジンから得られることが知
られている〔J.Med.Chem.，Vol.21，106（1978）
及びNucleic Acid Chem.，Part1，273（1978）
参照〕。 本発明者らの研究によれば、上記化合物(3)を得
るために利用される2′−デオキシ−５−フルオロ
ウリジンは下記反応工程式−１に示す方法によつ
て非常に有利に製造できることが見い出された。 〔反応工程式−１〕 〔式中Ａはフエニル環上にハロゲン原子、ニト
ロ基、低級アルキル基及びアルコキシ基を置換基
として有することのあるベンゾイル基を、R¹及
びR²はトリ低級アルキルシリル基を、R³、R⁴及
びR⁵は同一又は異なつて低級アルキル基を、ま
たＸはハロゲン原子を示す。〕 上記反応は、一般式(5)で表わされる３，５−ジ
−置換−２−デオキシリボフラノシルハライドと
一般式(6)で表わされるピリミジン誘導体とを、一
般式(7)で表わされる化合物の存在下に縮合させ、
次に得られる一般式(8)で表われる化合物を加水分
解して、基Ａを脱離させる反応である。 上記において縮合反応は、反応に関与しない通
常の溶媒、例えばベンゼン、トルエン等の芳香族
炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリ
クロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロ
ロエタン、テトラクロロエチレン等のハロゲン化
炭化水素類、ジオキサン、THF等のエーテル類、
DMF、DMSO、HMPA等、好ましくは塩化メチ
レン、クロロホルム、テトラクロロエタン等のハ
ロゲン化炭化水素類を溶媒として利用して行なわ
れる。この縮合反応において一般式(5)の化合物１
モルに対して、一般式(7)の化合物は0.01〜10倍モ
ル、好ましくは0.1〜1.0倍モル量程度用いられ、
一般式(6)の化合物は、少なくとも等モル量程度、
好ましくは１〜２倍モル量程度用いられる。 また上記縮合反応は、通常０〜100℃、好まし
くは室温〜50℃程度にて、通常20時間以内で終了
する。かくして一般式(8)の化合物が得られる。尚
本縮合反応においては、α体及びβ体の異性体の
生成が考えられるが、一般式(7)の化合物の存在下
では、β体が高収率で収得できる。 上記縮合反応に引き続く一般式(8)の化合物の前
記ベンゾイル基の脱離反応は、該一般式(8)の化合
物を単離するか、又は単離せずに行なうことがで
きる。この脱離反応は通常当該分野において行な
われている還元、加水分解又はアルコリシス等に
従つて実施することができ、特に加水分解又はア
ルコリシスが好ましい。この脱離反応によつて目
的とする化合物(9)、即ち2′−デオキシ−５−フル
オロウリジンを得る。 上記脱離反応としての加水分解反応は、より詳
しくは通常の酸又はアルカリ加水分解の条件下に
行なわれる。この際使用される触媒としては、通
常の酸又はアルカリ加水分解反応に用いられるも
のをいずれも使用できる。代表的なものとして
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
バリウム等の塩基性化合物及び塩酸、硫酸、硝酸
等の無機酸を例示できる。之等触媒の使用量は特
に限定がなく広い範囲から適宜選択すればよい。
本反応は、一般に溶媒中で有利に進行し、この際
使用される溶媒としては通常の不活性溶媒、例え
ば水、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル等の低級アルコール類、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン類やこれらの混合溶媒等を有
利に用いることができる。反応温度も特に限定さ
れず、広い範囲から適宜選択すればよいが、通常
０〜100℃、好ましくは室温〜80℃程度で反応を
行なうのがよい。本反応は30分〜10時間程度で終
了する。 また脱離反応としてのアルコリシスは、特にア
ルカリ金属のアルコキサイド、アルカリ土類金属
のアルコキサイド、アンモニア、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン等のアルコール溶液を用い
ることにより好ましく実施される。 上記の各方法で製造される本発明の化合物及び
その出発原料化合物等は、通常の分離手段、例え
ば蒸留法、再結晶法、カラムクロマトフラフイ
ー、プレパラテイブ薄層クロマトグラフイー、溶
媒抽出法などにより容易に反応系より単離精製す
ることができる。 実施例 以下、本発明方法を実施例として挙げ、また本
発明方法に利用される原料化合物の製法を参考例
として挙げる。 参考例 １ 2′−デオキシ−β−５−フルオロウリジンの製
造 (1) ３，５−ジ−Ｏ−ｐ−トルオイル−２−デオ
キシリボフラノシルクロライド３ｇを塩化メチ
レン10.5mlに懸濁させこれにＮ，Ｎ−ジメチル
−ｐ−トルエンスルホンアミド1.09ｇを加え、
さらに塩化メチレン10.5mlを加え、２，４−ビ
ス−（トリメチルシリルオキシ）−５−フルオロ
ピリミジン2.34ｇを加え（しばらくすると溶液
は透明になる）２時間後酢酸0.3mlを加えると
白濁する。２時間放置し、結晶を別し、塩化
メチレンで洗浄する。母液を濃縮し、エタノー
ルから結晶させた。 かくして3′，5′−ジ−Ｏ−ｐ−トルオイル−
2′−デオキシ−β−５−フルオロウリジン
2.494ｇ（収率67％）を得た。融点＝229℃ 母液より3′，5′−ジ−Ｏ−ｐ−トルオイル−
2′−デオキシ−α−５−フルオロウリジン
0.827ｇ（収率22％）を得た。融点＝214℃ (2) 3′，5′−ジ−Ｏ−ｐ−トルオイル−2′−デオ
キシ−β−５−フルオロウリジン4.8ｇを飽和
アンモニア−メタノール溶液100mlに室温にて
添加し、同温度で約12時間反応させた後溶媒を
減圧下に留去する。残留物をクロロホルム50
ml、水50mlに溶解させ水層のみを分取し、クロ
ロホルムで洗浄した後、溶媒を減圧下に留去す
る。残留物をｎ−プロパノールで再結晶し、
2′−デオキシ−β−５−フルオロウリジン2.2
ｇを得た。融点150〜151℃ 参考例 ２ ２，5′−アンヒドロ−3′−Ｏ−ベンジル−2′−
デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 ２，5′−アンヒドロ−2′−デオキシ−５−フル
オロウリジン570mg（2.5m mol）と臭化ベンジル
0.59ml（5m mol）とをDMSO10ml中に溶解し、
氷冷下攪拌する。この溶液に水素化ナトリウムの
DMSO溶液（1.5m mol／ml）の2.7mlを２〜３分
間を要して加え、そのまま10分間攪拌する。反応
液を希塩酸中に注ぎ、析出する無色結晶を取
し、ヘキサン−水−メタノールで洗浄し乾燥して
目的化合物506mg（収率63.6％）を得る。 融点＝205〜208℃ 実施例 １ 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジンの製造 参考例２で得た２，5′−アンヒドロ−3′−ベン
ジル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン318
mg（1.0m mol）と50％エタノール40ml及び2N水
酸化ナトリウム1.4mlとの混合物を、室温で３時
間攪拌する。2N酢酸で中和後、減圧下に約80％
の溶媒を留去し、生成した結晶を取し、水洗
後、乾燥して目的化合物219mg（収率65％）を得
る。これはエタノールにより再結晶される。融点
＝138〜139℃ 実施例 ２ 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジンの製造 ２，5′−アンヒドロ−2′−デオキシ−５−フル
オロウリジン570mg（2.5m mol）と臭化ベンジル
0.59ml（5.0m mol）をDMSO10ml中で室温にお
いて攪拌した。冷水で冷却し、水素化ナトリウム
をDMSOに溶かした溶液（1.5m mol／ml）の2.7
ml（4.0m mol）を２〜３分の間に加えた。冷水
で冷却しながら約10分攪拌した。溶液を氷約20ml
と1N塩酸1.5mlの混合物中へ加え攪拌した後、生
成した白色沈澱を過した。この沈澱をヘキサン
と水で洗浄した後、50％エタノール64mlと2N水
酸化ナトリウム2.2mlを加え、室温で約３時間攪
拌した。2N酢酸で中和し、大部分の溶媒を留去
し、冷却放置した。生成した結晶を過し、冷水
で洗浄後乾燥して3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン348mg（収率43.8％）
を得た。その構造はIR及びNMRにより確認され
た。 融点＝138〜139℃ 実施例 ３〜19 実施例１又は２と同様の方法により下記各化合
物を得る。 実施例 ３ 2′−デオキシ−５−フルオロ−3′−Ｏ−（３，
４−メチレンジオキシベンジルウリジン 融点＝186〜188℃ 実施例 ４ 3′−Ｏ−（２−フルオロベンジル）−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン 融点＝121〜123℃ 実施例 ５ 3′−Ｏ−（３−フルオロベンジル）−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン 融点＝113〜115℃ 実施例 ６ 3′−Ｏ−（２−ブロモベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン 融点＝122〜124℃ 実施例 ７ 3′−Ｏ−（３−ブロモベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン 融点＝166〜168℃ 実施例 ８ 3′−Ｏ−（４−ブロモベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン 融点＝214〜217℃ 実施例 ９ 3′−Ｏ−（４−ｔ−ブチルベンジル）−2′−デオ
キシ−５−フルオロウリジン¹ H−NMR（DMSO−d₆）δ： 11.80（1H、bs、−NH−、D₂Ｏ添加により
消失） 8.18（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C₆−Ｈ） 7.48と7.30（各々2H、ｄ、Ｊ＝８Hz、フエニ
ルＨ） 6.12（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 5.18（1H、ｔ、Ｊ＝５Hz、5′−OH、D₂Ｏ添
加により消失） 4.48（2H、ｓ、

【式】） 4.30−4.04（2H、ｍ、C₃′_,4′−Ｈ） 3.76−3.60（2H、ｍ、C₅′−Ｈ） 2.24−2.08（2H、ｍ、C₂′−Ｈ） 1.27（9H、ｓ、CH₃×３） 実施例 10 3′−Ｏ−（４−フエニルベンジル）−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン 融点＝207〜209℃ 実施例 11 3′−Ｏ−（４−クロロベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン 融点＝196〜198℃ 実施例 12 3′−Ｏ−（２，４−ジクロロベンジル）−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン 融点＝88〜90℃ 実施例 13 3′−Ｏ−（４−メトキシベンジル）−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン 融点＝164〜166℃ 実施例 14 2′−デオキシ−５−フルオロ−3′−（２−メチ
ルベンジル）ウリジン 融点＝114〜116℃ 実施例 15 3′−Ｏ−（３−メチルベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン 融点＝129〜131℃ 実施例 16 3′−Ｏ−（４−メチルベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン 融点＝178〜180℃ 実施例 17 3′−Ｏ−（３−クロロベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン 融点＝153〜155℃ 実施例 18 3′−Ｏ−（２−クロロベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン 融点＝78〜80℃ 実施例 19 3′−Ｏ−（４−フルオロベンジル）−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン 融点＝130〜131℃

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中Ｒはフエニル環上に低級アルキル基、低
   級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置
   換基を有することのあるフエニル低級アルキル基
   又は置換基として低級アルキレンジオキシ基又は
   フエニル基を有するフエニル低級アルキル基を示
   す。〕 で表わされる化合物を加水分解反応させて一般式 〔式中Ｒは上記と同様の意味を表わす。〕 で表わされる化合物を得ることを特徴とする、５
   −フルオロウリジン誘導体の製造法。