JPH0561215A - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 1.1.1−トリクロルエタンとほぼ同等の洗浄
効力を有し、ハジキ、シミ等の発生が抑制され、優れた
画像形成能を有する電子写真感光体を製造する方法を提
供する。 【構成】 感光層を形成する前に、基体表面を超音波の
作用下、純水、イオン交換水、又はノニオン界面活性剤
及び／又はアニオン系界面活性剤含有純水又はイオン交
換水中で浸漬洗浄し、且つ洗浄された基体表面に公知の
方法で感光層を形成することから成る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体の製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般的に電子写真感光体は、ドラム状導
電性基体上に感光層を形成したものである。このドラム
状導電性基体は円筒状のアルミを鏡面加工又は板状のア
ルミをインパクト成形するこことにより作成される。鏡
面加工又はインパクト成形中に基体表面には、切削油の
ミスト、空気中のダスト、切粉等が付着するため、基体
表面を洗浄処理して除去した後に、縮合多環顔料、アゾ
顔料等の電荷発生物質、樹脂の結着剤等から成る電荷発
生層及びヒドラゾン系又はアリールアミン系電荷輸送物
質、樹脂の結着剤、酸化防止剤等の添加剤などから成る
電荷輸送層を順次塗布・積層し、乾燥して感光層を形成
する。

【０００３】電荷発生層及び電荷輸送層は、上述した電
荷発生層及び電荷輸送層を構成する物質をそれぞれ含有
する塗布液にドラム状導電性基体を公知の方法で浸漬す
ることによって該基体の表面に形成される。ここでおこ
なう浸漬塗布方法としては、特に制限はなく公知の方法
が使用し得るが、例えば特開昭49-130736 、特開昭57-5
047 及び特開昭59-46171に開示される方法が挙げられ
る。

【０００４】浸漬塗布法において、導電性基体表面の洗
浄が不十分であると、その表面に油、ダスト等が残り、
塗布の際にハジキ、シミ等の塗布欠陥の原因となる。こ
のような電子写真感光体上に発生した欠陥は、コピー画
像に黒ポチ、白ポチ、ハーフトン一画像のムラ等となっ
て現われ、画像品質に悪影響を及ぼし、かような電子写
真感光体は実用に適さないものである。

【０００５】基体表面の洗浄としては、通常有機溶媒
中、必要に応じて加温された有機溶媒中に基体を浸漬処
理及び／又は超音波の作用下で浸漬処理する浸漬洗浄；
基体を溶媒に浸漬中又は基体に溶媒をシャワーリングし
ながらブラシ、スポンジ等により物理的に擦する接触洗
浄；溶媒を高圧下でスリットより基体表面に噴出するジ
ェット洗浄及び溶媒蒸気中に基体を挿入する蒸気洗浄が
挙げられ、これらの単独又は組合せて基体表面の洗浄が
おこなわれている。

【０００６】ここで使用される溶媒としては、メチレン
クロライド、エチレンクロライド、1.1.1−トリクロル
エタン、トリクロルエチレン、パークロルエチレン等の
塩素系溶剤、フロン−112 、フロン−113 等のフッ素系
溶剤、該フッ素系溶剤とメタノール、メチレンクロライ
ド等の混合溶剤、ベンゼン、トルエン、メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール、石油系炭化水素等
及びそれらの混合物が挙げられる。これらの溶剤中には
引火性、発火性を有するもの、人体に有害であるので使
用許容濃度が低いもの、洗浄能力が低いものが含まれて
おり、最も一般的に使用されている溶剤は、 1.1.1−ト
リクロルエタンである。

【０００７】電子写真感光体の導電性基体としては、ア
ルミニウム、銅、ニッケル、ステンレス、真ちゅう等の
金属の円筒状基体又は薄膜シート、又はアルミニウム、
錫合金、酸化インジウム等をポリエステルフィルムある
いは紙、金属フィルムの円筒状基体等に蒸着したものが
挙げられるが、低価格、加工し易さ、強度及び重量等の
観点から、アルミニウムが最も一般的である。しかしな
がら、アルミニウムは反応性が高く柔らかいという性質
を有しており、アルミニウムの純度が高くなるとこの傾
向が著しいが、加工し易さ及び感光層との接着性の観点
から純度の高いアルミニウムが導電性基体の材料として
用いられている。

【０００８】このような高純度のアルミニウムから成る
導電性基体の表面を洗浄する場合は、基体材料であるア
ルミニウムの反応性と柔らかさを考慮して、有機溶媒に
よる洗浄がおこなわれるのが通常である。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、 1.1.1
−トリクロルエタンは、洗浄能力が高い、取扱いが容易
等長所があるものの、地球温暖化、オゾン層の破壊等を
引起す物質の一つであると推考され、フロンとともに全
世界でその削減が決定されており、 1.1.1−トリクロル
エタンの代替洗浄液の提供又は代替洗浄法の開発が切望
されている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者等の鋭意研究の
結果、感光層を形成する前に、基体表面を超音波の作用
下、純水、イオン交換水、又はノニオン系界面活性剤及
び／又はアニオン系界面活性剤含有純水又はイオン交換
水中で浸漬洗浄することによって、洗浄不良によるハジ
キ、シミ等の発生の防止及びそれに伴う良品率の低下の
防止をすることが出来るとともに、有機溶剤の使用によ
る大気汚染、人体の影響、高引火性及び高発火性による
爆発の危険、特に 1.1.1−トリクロルエタン、フロンの
使用による地球温暖化及びオゾン層の破壊等の問題を解
消し得ることを見出し、この知見に基づいて、本発明を
成すに至った。

【００１１】

【作用】本発明の方法は、基体表面を超音波の作用下、
純水、イオン交換水、又はノニオン系界面活性剤及び／
又はアニオン系界面活性剤含有純水又はイオン交換水中
で浸漬洗浄し、乾燥後、洗浄処理された基体表面に感光
層を形成することから成る電子写真感光体の製造方法で
ある。

【００１２】図１は本発明の洗浄方法の概略を示す図で
ある。切削加工又はインパクト成形された基体１はレー
ル３に配置されたロボットハンド２に支持されている。
第１の洗浄槽11は純水、イオン交換水、又は界面活性剤
が溶解した純水又はイオン交換水の洗浄液18で満たされ
ており、該洗浄液はヒーター16により40〜60℃に加熱さ
れており、且つ洗浄槽11底部には超音波発振器17が備付
けられ、基体浸漬時に超音波が発振するようになってい
る。洗浄槽11にはパイプ12から洗浄液がタンク（図示せ
ず）より定常的に送り込まれている。洗浄によって基体
表面から除去された油、ダスト、切粉が分散している洗
浄液は配管１９からポンプ14によりフィルター15を経て
循環し、ダスト、切粉等はフィルター15に補足される。
基体の浸漬によりオーバーフローする液は配管13から排
出される。排出された洗浄液は排液処理装置（図示せ
ず）により処理される。

【００１３】第２の洗浄槽21、第３の洗浄槽31及び第４
の洗浄槽41にはそれぞれ洗浄液25、35、45として純水又
はイオン交換水が満されている。それぞれの洗浄槽底部
には超音波発振器24、34、44が配備され、各洗浄槽の洗
浄液は、それぞれ配管26、36、46からポンプ22、32、42
によりフィルター23、33、43を経て循環し、該フィルタ
ーによって、ダスト、切粉等が補足される。洗浄液はタ
ンク60より洗浄槽41に供給され、第４の洗浄槽41からの
オーバーフローにより第３の洗浄槽31に洗浄液が供給さ
れ、第３の洗浄槽31からのオーバーフローにより、第２
の洗浄槽21に洗浄液が供給され、且つ第２の洗浄槽21か
らオーバーフローする液は配管27から排出され、排液処
理装置で処理される。

【００１４】図１の方法において界面活性剤含有純水の
洗浄液で満された洗浄槽は少なくとも１槽あれば良い。

【００１５】第１の洗浄槽の洗浄液のpHは 6.0〜9.0 、
好ましくは 6.5〜8.0 が好ましい。該洗浄液のpHを 6.0
〜9.0 に制御すると、アルミニウム基体表面の水酸化
物、酸化物、水和物の生成が抑制され、該反応生成物に
よるぬれ性等の物理的特性の変化が生ずることがないの
で、塗布の際のハジキ、シミ、塗布ヌケ等の塗布欠陥の
発生を防止し得る。また、洗浄液の排水処理設備等の負
担も小さくなり、設備コスト、排水処理コストを低下さ
せることが出来るので、製造コスト・ダウンにつなが
る。

【００１６】本発明で使用する界面活性剤としては、基
体を腐蝕することのないノニオン系界面活性剤及び／又
はアニオン系界面活性剤が使用し得、その具体例として
は、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエ−テル、ポ
リオキシエチレン・ポリオキシプロピレン・ブロックコ
ポリマ−型及びノニルフェノ−ルポリオキシエチンエ−
テルのノニオン系界面活性剤及びアルキルベンゼン、高
級アルコ−ル、α−オレフィンなどの硫酸塩、ケイ酸
塩、炭酸塩又はリン酸塩のアニオン系界面活性剤が挙げ
られ、特にpH 6.0〜9.0 の洗浄液を形成するものが好ま
しい。

【００１７】pHが 6.0〜9.0 の洗浄液を形成する界面活
性剤としては、ヘンケル白水（株）製のＴ−１８０、ラ
イオン（株）製のＦＭ−１０及びライオミックスＬ、ケ
ミック（株）製のＣＡ０１及び花王（株）製のクリンヌ
ル−７５０Ｌが挙げらる。

【００１８】本発明の洗浄液の界面活性剤の濃度は0.5
〜30％、好ましくは４〜15％である。

【００１９】また、洗浄助剤（ビルダー）として、炭酸
ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カ
リウム、ケイ酸ナトリウム、硫酸ナトリウム等の無機ビ
ルダー、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロー
ス、有機アミン等の有機ビルダーを洗浄液に添加しても
良い。

【００２０】本発明の第１の洗浄槽の洗浄液による洗浄
時間（浸漬時間）は、0.5 〜10分間、好ましくは 1.5〜
５分間で、第２〜第４の洗浄槽における浸漬時間もそれ
ぞれ0.5 〜10分間、好ましくは1.5〜５分間である。
尚、浸漬中、必要に応じて、基体を揺動させても良い。

【００２１】本発明の第１の洗浄槽で照射される超音波
は28〜900KHzで第２〜第４の洗浄槽で照射される超音波
も28〜900KHzである。

【００２２】洗浄処理された基体は、公知の方法、例え
ばクリーン度100 に保たれたクリーンブース50内で80℃
のクリーンエアを吹きつけて乾燥する。

【００２３】洗浄処理された導電性基体表面に公知の方
法で感光層を形成する。例えば、浸漬塗布法、リング方
式塗布法又はスプレー塗布法によって、洗浄処理された
導電性基体表面に電荷発生層を形成し、次いで、電荷発
生層の上に浸漬塗布法又はスプレー塗布法によって電荷
輸送層を形成する。

【００２４】本発明で用いる電子写真感光体の導電性基
体としては、アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレ
ス、真ちゅう等の金属の円筒状基体又は薄膜シート、又
はアルミニウム、錫合金、酸化インジウム等をポリエス
テルフィルムあるいは紙、金属フィルムの円筒状基体等
に蒸着したものが挙げられる。

【００２５】感光体層の接着性改良、塗布性改良、基体
上の欠陥の被覆及び基体から電荷発生層への電荷注入性
改良等のために下引き層が設けられることが有る。下引
き層の材料としては、ポリアミド、共重合ナイロン、カ
ゼイン、ポリビニルアルコール、セルロース、ゼラチン
等の樹脂が知られている。これらを各種有機溶媒に溶解
し、膜厚が 0.1〜５μｍ程度になるように導電性円筒状
基体上に塗布される。

【００２６】電荷発生層は、光照射により電荷を発生す
る電荷発生材料を主成分とし、必要に応じて公知の結合
剤、可塑剤、増感剤を含有し、膜厚が 1.0μｍ以下（乾
燥膜厚）となるように導電性円筒状基体又は下引き層の
上に塗布される。

【００２７】電荷発生材料としては、ペリレン系顔料、
多環キノン系顔料、フタロシアニン顔料、金属フタロシ
アニン系顔料、スクエアリウム色素、アズレニウム色
素、チアピリリウム色素、及びカルバゾール骨格、スチ
リルスチルベン骨格、トリフェニルアミン骨格、ジベン
ゾチオフェン骨格、オキサジアゾール骨格、フルオレノ
ン骨格、ビススチルベン骨格、ジスチリルオキサジアゾ
ール骨格又はジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ
顔料等が挙げられる。

【００２８】電荷輸送層は、電荷発生材料が発生した電
荷を受け入れこれを輸送する能力を有する電荷輸送材料
及び結着剤を必須成分とし、必要に応じて公知のレベリ
ング剤、可塑剤、増感剤等を含有し、乾燥膜厚５〜70μ
ｍとなるように電荷発生層の上に塗布される。

【００２９】電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール及びその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリル
エチルグルタメート及びその誘導体、ピレン−ホルムア
ルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポ
リビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキソ
ジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、９−（ｐ−ジ
エチルアミノスチリル）アントラセン、１，１−ビス
（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリル
アントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾ
ン類、ヒドラゾン誘導体等の電子供与性物質、或いはフ
ルオレノン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、インデ
ノチオフェン誘導体、フェナンスレンキノン誘導体、イ
ンデノピリジン誘導体、チオキサントン誘導体、ベンゾ
［ｃ］シンノリン誘導体、フェナジンオキサイド誘導
体、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタ
ン、プロマニル、クロラニル、ベンゾキノン等の電子受
容性物質等が挙げられる。

【００３０】電荷輸送層を構成する結着剤としては、電
荷輸送材料と相溶性を有するものであれば良く、例えば
ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアミ
ド、ポリエステル、ポリケトン、エポキシ樹脂、ポリウ
レタン、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリアクリ
ルアミド、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げら
れる。

【００３１】本発明の方法で製造された電子写真感光体
はハジキ、シミ等による画像への黒ポチ、白ポチの発生
がほとんどなく、良品率が高い。更に、洗浄工程におい
て、有機溶媒を使用しないので、有機溶媒の使用による
大気汚染、人体への影響、高い引火性及び発火性による
爆発の危険等がない。

【００３２】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。

【００３３】実施例１ 図１で示した方法により、切削加工した円筒状基体を洗
浄処理した。図１の方法において、第１の洗浄槽の洗浄
液として、ポラ−クリ−ン６９０（田中インポ−トグル
−プ（株））の５％純水溶液を用い、第２〜４の洗浄槽
の洗浄液として、純水を用いた。第１の洗浄槽の洗浄液
は50℃に加温されており、第２〜４の洗浄槽の洗浄液の
温度はそれぞれ25℃であった。第１乃至第４の洗浄槽へ
の浸漬時間はそれぞれ２分間で、第１乃至第４の洗浄槽
で照射した超音波はそれぞれ40KHz であった。

【００３４】洗浄処理された円筒状基体はクリーン度10
0 に保たれたクリーンブース内で、80℃のクリーンエア
ーを吹き付けて乾燥した。

【００３５】得られた円筒状基体は公知の浸漬塗布方法
により下記Ａ液を円筒状基体の表面に乾燥後の膜厚 0.5
μｍになるように浸漬塗布し、75℃の温度で１時間乾燥
し、更に下記Ｂ液をＡ液が塗布された円筒状基体の表面
に乾燥後の膜厚20μｍになるように浸漬塗布し、75℃の
温度で１時間乾燥した。

【００３６】Ａ液 ジブロムアンスアンスロン２重量部、ブチラール樹脂
［エスレックＢＭ−２、セキスイ化学（株）製］２重量
部、シクロヘキサノン 230重量部をボールミルにて８時
間分散処理して得られた液。

【００３７】Ｂ液 ヒドラゾン系電荷輸送材［ＡＢＰＨ、日本化薬（株）
製］１重量部、ポリカーボネート樹脂［パンライトＬ−
1250、帝人化成（株）製］１重量部をジクロロエタン８
重量部で溶解して得られた液。

【００３８】得られた電子写真感光体30本を回転用治具
に装着し複写機［ＳＦ−8100、シャープ（株）製］に搭
載してコピーを取り画像評価を行なった。結果を表１に
示す。

【００３９】比較例１ 切削加工した円筒状基体を、有機溶剤として60℃の 1.
1.1−トリクロルエタンを用いた超音波・温浴洗浄処理
を30秒間行なった。20℃の 1.1.1−トリクロルエタンで
30秒間冷浴した後、 1.1.1−トリクロルエタンを用いた
蒸気洗浄を30秒間行ない、クリーンルームで20分間放冷
した。得られた円筒状基体の表面に実施例と同様の方法
で感光体層を形成した。

【００４０】得られた電子写真感光体30本を実施例と同
様の方法で画像評価を行なった。結果を表１に示す。

【００４１】比較例１ 洗浄処理をしない円筒状基体の表面に実施例と同様の方
法で感光体層を形成した。得られた電子写真感光体30本
を実施例と同様の方法で画像評価をおこなった。結果を
表１に示す。

【００４２】

【表１】

【００４３】実施例２〜６ 図１で示した方法により、切削加工した円筒状基体を洗
浄処理した。図１の方法において、第１の洗浄槽の洗浄
液として、表２に示された界面活性剤の５％純水溶液を
用い、第２〜４の洗浄槽の洗浄液として、純水を用い
た。第１の洗浄槽の洗浄液は50℃に加温されており、第
２〜４の洗浄槽の洗浄液の温度はそれぞれ25℃であっ
た。第１乃至第４の洗浄槽への浸漬時間はそれぞれ２分
間で、第１乃至第４の洗浄槽で照射した超音波はそれぞ
れ40KHz であった。

【００４４】洗浄処理された基体はクリーン度 100に保
たれクリーンブース内で80℃のクリーンエアーを吹き付
けて乾燥した。

【００４５】得られた円筒状基体を公知の浸漬塗布方法
により下記Ａ液を円筒状基体の表面に乾燥後の膜厚 0.5
μｍになるように浸漬塗布し、75℃の温度で１時間乾燥
し、更に下記Ｂ液をＡ液が塗布された円筒状基体の表面
に乾燥後の膜厚20μｍになるように浸漬塗布し、75℃の
温度で１時間乾燥した。

【００４６】得られた電子写真感光体50本を回転用治具
に装着し複写機［ＳＦ−８１００，シャープ（株）製］
に搭載してコピーを取り画像評価を行った。結果を表２
に示す。

【００４７】

【表２】

【００４８】

【発明の効果】本発明の方法は、洗浄不良によるハジ
キ、シミ等の発生が防止され、且つ高純度のアルミニウ
ム基体であっても表面の水酸化物、酸化物、水和物等の
生成が抑制され、ぬれ性等の物理的特性の変化による塗
布欠陥の発生が防止され、良品率においても、従来の
1.1.1−トリクロルエタン洗浄液を使用する場合とほと
んど同じで、良品率の低下が防止されて、実用可能な高
収率が得られる。更に、洗浄液として有機溶剤を使用し
ないので、有機溶剤の使用による大気汚染、人体への影
響、高い引火性及び高い発火性による爆発の危険、特に
1.1.1−トリクロルエタン、フロンの洗浄液としての使
用による地球温暖化及びオゾン層の破壊等の問題が解消
される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の製造方法における洗浄方法の概略を示
す図である。

【符号の説明】

１ 基体 11 第１の洗浄槽 17 第１の洗浄槽の超音波発振器 18 第１の洗浄槽の洗浄液 21 第２の洗浄槽 31 第３の洗浄槽 41 第４の洗浄槽

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂元 雅遊亀 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ヤープ株式会社内 (72)発明者 松本 浩史 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ヤープ株式会社内 (72)発明者 忍 充弘 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ヤープ株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基体上に感光層を形成して電子写真感光
   体を製造するに際し、基体表面に該感光層を形成する前
   に、基体表面を超音波の作用下、純水、イオン交換水、
   又はノニオン系界面活性剤及び／又はアニオン系界面活
   性剤含有純水又はイオン交換水中で浸漬洗浄することを
   特徴とする電子写真感光体の製造方法。