JPH0555127A - 精密ステージ - Google Patents
精密ステージInfo
- Publication number
- JPH0555127A JPH0555127A JP21572291A JP21572291A JPH0555127A JP H0555127 A JPH0555127 A JP H0555127A JP 21572291 A JP21572291 A JP 21572291A JP 21572291 A JP21572291 A JP 21572291A JP H0555127 A JPH0555127 A JP H0555127A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- pair
- rail
- rails
- guide surfaces
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electron Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子ビーム露光装置等に使用する精密ステー
ジに関し、移動精度の改善を目的とする。 【構成】 載物台11を案内する水平ガイド面13を有する
少なくとも一対の第１のレール12と、載物台11を案内す
る一対の垂直ガイド面15を有する第２のレール14とを設
ける。載物台11には水平ガイド面13に沿って転動する少
なくとも３個の第１の回転車16と一対の垂直ガイド面15
に沿って転動する少なくとも３個の第２の回転車17とを
装着し構成する。
ジに関し、移動精度の改善を目的とする。 【構成】 載物台11を案内する水平ガイド面13を有する
少なくとも一対の第１のレール12と、載物台11を案内す
る一対の垂直ガイド面15を有する第２のレール14とを設
ける。載物台11には水平ガイド面13に沿って転動する少
なくとも３個の第１の回転車16と一対の垂直ガイド面15
に沿って転動する少なくとも３個の第２の回転車17とを
装着し構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビーム露光装置等
に使用する精密ステージの構成に関する。昨今、半導体
装置の製造において、ウエーハをステージ（載物台）に
搭載し、そのステージを連続移動させながら露光する方
法が用いられるようになった。かかるステージに搭載し
微細パターン露光されるウエーハは、一定の水平姿態を
正しく保ちながら一定速度で移動しなければならない。
に使用する精密ステージの構成に関する。昨今、半導体
装置の製造において、ウエーハをステージ（載物台）に
搭載し、そのステージを連続移動させながら露光する方
法が用いられるようになった。かかるステージに搭載し
微細パターン露光されるウエーハは、一定の水平姿態を
正しく保ちながら一定速度で移動しなければならない。
【０００２】
【従来の技術】図４は電子ビーム露光装置における従来
のステージの概略構成図であり、ウエーハを搭載し移動
する載物台１は複数個の回転ローラ２を介して一対のガ
イドレール３に沿って移動する。各ガイドレール３に沿
って転動する一連のローラ２は、リテーナ４によって一
定間隔が保たれるようになっており、かつ、ローラ２の
滑りをなくすため、水平方向に適当な押圧力Ｆが加えら
れる。。
のステージの概略構成図であり、ウエーハを搭載し移動
する載物台１は複数個の回転ローラ２を介して一対のガ
イドレール３に沿って移動する。各ガイドレール３に沿
って転動する一連のローラ２は、リテーナ４によって一
定間隔が保たれるようになっており、かつ、ローラ２の
滑りをなくすため、水平方向に適当な押圧力Ｆが加えら
れる。。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
一対のガイドレール３と複数個の回転ローラ２を利用し
た従来のステージにおいて、載物台１はその移動に伴っ
て次から次とローラ２を乗り継ぐことになり、かつ、そ
の乗り継ぎは一般に左右同時でない。そのため、ローラ
乗り継ぎの度に衝撃が加わり、上下方向の揺れ，横方向
の揺れ，横方向に蛇行する揺れ，それらの複合揺れが発
生し、形成すべき微細パターンの精度が損なわれるとい
う問題点があった。
一対のガイドレール３と複数個の回転ローラ２を利用し
た従来のステージにおいて、載物台１はその移動に伴っ
て次から次とローラ２を乗り継ぐことになり、かつ、そ
の乗り継ぎは一般に左右同時でない。そのため、ローラ
乗り継ぎの度に衝撃が加わり、上下方向の揺れ，横方向
の揺れ，横方向に蛇行する揺れ，それらの複合揺れが発
生し、形成すべき微細パターンの精度が損なわれるとい
う問題点があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】載物台の移動精度を改善
し、露光装置における微細パターンの精度向上を目的と
した本発明の精密ステージは、その実施例を示す図１に
よれば、載物台11を案内する水平ガイド面13を有する一
対の第１のレール12と、載物台11を案内する一対の垂直
ガイド面15を有する第２のレール14とを設け、載物台11
には水平ガイド面13に沿って転動する少なくとも３個
（図は４個）の第１の回転車16と一対の垂直ガイド面15
に沿って転動する少なくとも３個（図は４個）の第２の
回転車17とを装着し構成する。
し、露光装置における微細パターンの精度向上を目的と
した本発明の精密ステージは、その実施例を示す図１に
よれば、載物台11を案内する水平ガイド面13を有する一
対の第１のレール12と、載物台11を案内する一対の垂直
ガイド面15を有する第２のレール14とを設け、載物台11
には水平ガイド面13に沿って転動する少なくとも３個
（図は４個）の第１の回転車16と一対の垂直ガイド面15
に沿って転動する少なくとも３個（図は４個）の第２の
回転車17とを装着し構成する。
【０００５】回転車16及び17としては転がり軸受, 特に
自動調心型軸受の利用が好都合である。
自動調心型軸受の利用が好都合である。
【０００６】
【作用】上記手段によれば、載物台11に回転車16,17 を
設け、回転車16,17 がレール12,14 に沿って転動する構
成である。そのため、移動する載物台がローラを乗り継
ぐ従来ステージに発生する精度上の問題点が解消し、本
発明を半導体装置製造用露光装置に適用したとき、微細
パターンの製造歩留りが向上するようになる。
設け、回転車16,17 がレール12,14 に沿って転動する構
成である。そのため、移動する載物台がローラを乗り継
ぐ従来ステージに発生する精度上の問題点が解消し、本
発明を半導体装置製造用露光装置に適用したとき、微細
パターンの製造歩留りが向上するようになる。
【０００７】
【実施例】図１は本発明の第１の実施例による精密ステ
ージの正面図(イ) とその載物台の下面図(ロ) であり、精
密ステージ10において半導体ウエーハを搭載する載物台
11は、水平ガイド面13を有する一対の第１のレール12
と、一対の垂直ガイド面15を有する第２のレール14に沿
ってその長さ方向に移動する。
ージの正面図(イ) とその載物台の下面図(ロ) であり、精
密ステージ10において半導体ウエーハを搭載する載物台
11は、水平ガイド面13を有する一対の第１のレール12
と、一対の垂直ガイド面15を有する第２のレール14に沿
ってその長さ方向に移動する。
【０００８】載物台11の下面には、一対のレール12の各
ガイド面13を転動する二対（４個）の第１の回転車16
と、レール14の各ガイド面15を転動する二対（４個）の
第２の回転車17を設ける。載物台11を高精度に移動させ
るには、ガイド面13および15の平面度, 真直度を精密加
工によって確保すると共に、回転精度に優れた回転車16
および17を使用する必要がある。
ガイド面13を転動する二対（４個）の第１の回転車16
と、レール14の各ガイド面15を転動する二対（４個）の
第２の回転車17を設ける。載物台11を高精度に移動させ
るには、ガイド面13および15の平面度, 真直度を精密加
工によって確保すると共に、回転精度に優れた回転車16
および17を使用する必要がある。
【０００９】そこで、軸18に装着し垂直姿態である回転
車16および、軸19に装着し水平姿態である回転車17に
は、ＪＩＳに規格化された転がり軸受を用いると好都合
であり、特に自動調心型である自動調心玉軸受，自動調
心ころ軸受，調心輪付ラジアル軸受が推奨される。
車16および、軸19に装着し水平姿態である回転車17に
は、ＪＩＳに規格化された転がり軸受を用いると好都合
であり、特に自動調心型である自動調心玉軸受，自動調
心ころ軸受，調心輪付ラジアル軸受が推奨される。
【００１０】図２は本発明の第２の実施例による精密ス
テージの正面図(イ)とその載物台の下面図(ロ) であり、
精密ステージ20において載物台21は、水平ガイド面13を
有する一対の第１のレール12と、一対の垂直ガイド面15
を有する第２のレール14に沿ってその長さ方向に移動す
る。
テージの正面図(イ)とその載物台の下面図(ロ) であり、
精密ステージ20において載物台21は、水平ガイド面13を
有する一対の第１のレール12と、一対の垂直ガイド面15
を有する第２のレール14に沿ってその長さ方向に移動す
る。
【００１１】載物台21の下面には、一方のレール12のガ
イド面13を転動する一対の回転車16と、他方のレール12
のガイド面13を転動する１個の回転車16と、レール14の
一方のガイド面15を転動する２個の回転車17と、レール
14の他方のガイド面15を転動する１個の回転車17とを設
ける。３個の回転車16はそれぞれが軸18に装着され垂直
姿態であるのに対し、３個の回転車17は軸19に装着され
水平姿態である。
イド面13を転動する一対の回転車16と、他方のレール12
のガイド面13を転動する１個の回転車16と、レール14の
一方のガイド面15を転動する２個の回転車17と、レール
14の他方のガイド面15を転動する１個の回転車17とを設
ける。３個の回転車16はそれぞれが軸18に装着され垂直
姿態であるのに対し、３個の回転車17は軸19に装着され
水平姿態である。
【００１２】載物台21を高精度に移動させるには、ガイ
ド面13および15の平面度, 真直度を精密加工によって確
保すると共に、回転車16および17としてＪＩＳに規格化
された自動調心玉軸受，自動調心ころ軸受，調心輪付ラ
ジアル軸受が推奨される。
ド面13および15の平面度, 真直度を精密加工によって確
保すると共に、回転車16および17としてＪＩＳに規格化
された自動調心玉軸受，自動調心ころ軸受，調心輪付ラ
ジアル軸受が推奨される。
【００１３】図３は本発明の第３の実施例による精密ス
テージの正面図(イ)とその載物台の下面図(ロ) であり、
精密ステージ30において載物台31は、水平ガイド面13を
有する３本の第１のレール12と、一対の垂直ガイド面15
を有する第２のレール14に沿ってその長さ方向に移動す
る。
テージの正面図(イ)とその載物台の下面図(ロ) であり、
精密ステージ30において載物台31は、水平ガイド面13を
有する３本の第１のレール12と、一対の垂直ガイド面15
を有する第２のレール14に沿ってその長さ方向に移動す
る。
【００１４】載物台31の下面には、３本のレール12の各
ガイド面13を転動する３個の回転車16と、レール14の一
対のガイド面15を転動する４個の回転車17とを設ける。
３本のレール12は、載物台31の幅方向に中央部，右端
部，左端部に対応するため、レール14は載物台31の幅方
向に対し左側（右側）に偏って設けられる。そして、３
個の回転車16はそれぞれが軸18に装着され垂直姿態であ
るのに対し、４個の回転車17はそれぞれが軸19に装着さ
れ水平姿態である。
ガイド面13を転動する３個の回転車16と、レール14の一
対のガイド面15を転動する４個の回転車17とを設ける。
３本のレール12は、載物台31の幅方向に中央部，右端
部，左端部に対応するため、レール14は載物台31の幅方
向に対し左側（右側）に偏って設けられる。そして、３
個の回転車16はそれぞれが軸18に装着され垂直姿態であ
るのに対し、４個の回転車17はそれぞれが軸19に装着さ
れ水平姿態である。
【００１５】載物台31を高精度に移動させるには、ガイ
ド面13および15の平面度, 真直度を精密加工によって確
保すると共に、回転車16および17としてＪＩＳに規格化
された自動調心玉軸受，自動調心ころ軸受，調心輪付ラ
ジアル軸受が推奨される。
ド面13および15の平面度, 真直度を精密加工によって確
保すると共に、回転車16および17としてＪＩＳに規格化
された自動調心玉軸受，自動調心ころ軸受，調心輪付ラ
ジアル軸受が推奨される。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように本発明ステージによ
れば、載物台に回転車を設けその回転車がレールに沿っ
て転動する構成であるため、移動する載物台がローラを
乗り継ぐ従来ステージに発生する精度上の問題点が解消
する。従って、本発明を半導体装置製造用露光装置に適
用したとき、微細パターンの製造歩留りが向上する効果
がある。
れば、載物台に回転車を設けその回転車がレールに沿っ
て転動する構成であるため、移動する載物台がローラを
乗り継ぐ従来ステージに発生する精度上の問題点が解消
する。従って、本発明を半導体装置製造用露光装置に適
用したとき、微細パターンの製造歩留りが向上する効果
がある。
【図１】 本発明の第１の実施例による精密ステージの
説明図である。
説明図である。
【図２】 本発明の第２の実施例による精密ステージの
説明図である。
説明図である。
【図３】 本発明の第３の実施例による精密ステージの
説明図である。
説明図である。
【図４】 従来の精密ステージの説明図である。
10,20,30は精密ステージ 11,21,31はレールにガイドされて移動する載物台 12は水平ガイド面を有する第１のレール 13は水平ガイド面 14は垂直ガイド面を有する第２のレール 15は垂直ガイド面 16は水平ガイド面を転動する第１の回転車 17は垂直ガイド面を転動する第２の回転車
Claims (3)
- 【請求項１】 載物台(11,21,31)を案内する水平ガイド
面(13)を有する少なくとも一対の第１のレール(12)と、
該載物台(11,21,31)を案内する一対の垂直ガイド面(15)
を有する第２のレール(14)とを設け、該載物台(11,21,3
1)には該水平ガイド面(13)に沿って転動する少なくとも
３個の第１の回転車(16)と該一対の垂直ガイド面(15)に
沿って転動する少なくとも３個の第２の回転車(17)とを
装着してなることを特徴とする精密ステージ。 - 【請求項２】 前記第２のレール(14)の右側および左側
に１本ずつ前記第１のレール(12)を配設し、前記載物台
(11)には、一対の該第１のレール(12)の各水平ガイド面
(13)のそれぞれに沿って転動する各一対の前記第１の回
転車(16)と、該第２のレール(14)の一対の垂直ガイド面
(15)のそれぞれに沿って転動する各一対の前記第２の回
転車(17)とを設けたことを特徴とする請求項１記載の精
密ステージ。 - 【請求項３】 前記回転車(16,17) が、内輪を前記載物
台に固定した自動調心型転がり軸受であることを特徴と
する請求項１記載または請求項２記載の精密ステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21572291A JPH0555127A (ja) | 1991-08-28 | 1991-08-28 | 精密ステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21572291A JPH0555127A (ja) | 1991-08-28 | 1991-08-28 | 精密ステージ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0555127A true JPH0555127A (ja) | 1993-03-05 |
Family
ID=16677100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21572291A Pending JPH0555127A (ja) | 1991-08-28 | 1991-08-28 | 精密ステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0555127A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012036189A1 (ja) * | 2010-09-16 | 2012-03-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送装置、基板処理システム及び姿勢制御機構 |
-
1991
- 1991-08-28 JP JP21572291A patent/JPH0555127A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012036189A1 (ja) * | 2010-09-16 | 2012-03-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送装置、基板処理システム及び姿勢制御機構 |
| JP2012061568A (ja) * | 2010-09-16 | 2012-03-29 | Tokyo Electron Ltd | 搬送装置、基板処理システム及び姿勢制御機構 |
| US9138901B2 (en) | 2010-09-16 | 2015-09-22 | Tokyo Electron Limited | Transfer device, substrate processing system and posture control unit |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990824 |