JPH0554502B2 - - Google Patents

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JPH0554502B2
JPH0554502B2 JP21976684A JP21976684A JPH0554502B2 JP H0554502 B2 JPH0554502 B2 JP H0554502B2 JP 21976684 A JP21976684 A JP 21976684A JP 21976684 A JP21976684 A JP 21976684A JP H0554502 B2 JPH0554502 B2 JP H0554502B2
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photocurable resin
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resin
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Takashi Kiryama
Mitsuru Ishihara
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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  • Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は光硬化性樹脂組成物およびこの組成物
を用いた加工の容易なホログラム複製方法に関す
る。 〔従来の技術〕 従来から、(A)エポキシアクリレートやアクリル
ウレタン等のエチレン性不飽和基を有する光重合
性化合物を、(B)エチレングリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート等
の重合性不飽和単量体で希釈し、これに(C)光増感
剤を配合した光硬化性樹脂バインダーとし、これ
に顔料、レベリング剤等を配合した光硬化性イン
クを用いて樹脂フイルムや樹脂射出成型品上に印
刷を施こすことが行われている。 しかし、これら光硬化性樹脂組成物の(A)成分
は、一般に常温(20〜30℃)で液状を呈し、これ
を紙、樹脂、金属等の基材上に塗布した後は、光
硬化を行わない限りは紙、フイルム等を巻き取つ
たり、重ね合せたりすることができない欠点があ
る。また、光硬化した樹脂層を有する紙、フイル
ムに、エンボス加工等の模様付け、印刷、塗装、
樹脂ラミネート等の後加工を施すことはできず、
レリーフ形成は困難であるという欠点がある。 〔発明が解決しようとする課題〕 後加工ができる光硬化性樹脂として、上記の(A)
成分が常温で固体である(イ)高分子量のエポキシ樹
脂とアクリル酸を反応させて得られたエポキシア
クリレートまたは(ロ)特殊なアクリルメラミン化合
物が知られており、これを含有する光硬化性樹脂
は塩ビレザーフオーム製造に用いる工程剥離紙に
パターン模様を付す樹脂として利用されている
(特開昭58−156099号、同59−117537号)。 しかし、(イ)のエポキシアクリレートは光硬化樹
脂の耐擦傷性、表面硬度、印刷インクに対する耐
薬品性が、転写紙、ホログラム等におけるリレー
フ形成用樹脂としては不足である。後者(ロ)のアク
リルメラミン化合物は、工程剥離紙の製造に用い
ることを念頭に開発されたために、樹脂、金属等
に対する密着性に欠ける。 本発明は、このような事情に鑑みてなされたも
のであり、上記(ロ)の樹脂の密着性の欠点を改良す
ることに着眼し、後加工が容易であるとともに
種々の材質に対して良好な密着性を示す光硬化性
樹脂組成物と、この組成物を用いて加工が容易で
あるとともに、優れた耐性を備えたホログラムを
複製することのできるホログラム複製方法とを提
供することを目的とする。 〔課題を解決するための手段〕 このような目的を達成するために、本発明は、 (A) 成分: (a) 成分: 一般式〔〕 式中、R′はそれぞれHまたは炭素数1〜
4の炭化水素基を示し、Rはメチル基、フエ
ニル基、−N(CH2OR′)2(R′はそれぞれ上記
R′と同一または異るHまたは炭素数1〜4
の炭化水素基)、または下記式〔〕で表わ
される有機基を示す 一般式〔〕 (Yは−CH2OR′または水素、R′はそれぞれ
上記R′と同一または異なるHまたは炭素数
1〜4の炭化水素基) で示されるメラミン系化合物 1モル (b) 成分: 分子量が500以下の多価アルコール1.5〜4
当量(水酸基1個を1当量とする) (c) 成分: アクリルアミド、α−低級アルキル置換ア
クリルアミドより選ばれたアミド系化合物
1〜4.5モル 上記(a)、(b)および(c)成分を上記割合で反応
させて得られる20℃で固体のメラミンアクリ
ル化合物 10〜90重量% (B) 成分: 上記(A)成分を溶解する非反応性有機溶剤
90〜10重量% (C) 成分: 光増感剤 上記(A)成分の0.05〜5重量% 上記(A)、(B)および(C)成分を含有するような構成
とした。 また、本発明は基材の少なくとも一方の面に上
記の光硬化性樹脂組成物を塗布し、乾燥して光硬
化性樹脂層を形成し、該光硬化性樹脂層にマスタ
ーホログラムから作成したプレススタンパーを用
いてエンボス加工を施した後、前記光硬化性樹脂
層を硬化させるような構成とした。 (A) 成分のアクリルメラミン化合物: 本発明に使用する上記(A)成分のアクリルメラミ
ン化合物は、特開昭59−117537号公報に掲載され
ている(a)メラミン化合物と、(b)多価アルコールと
アクリル酸アミドとを上記割合で原料として用
い、これに触媒を混合し、50〜150℃、好ましく
は80〜130℃で2〜20時間反応させることにより
得られる。 上記(a)成分のメチロール化メラミン化合物およ
びアルキルエーテル化メラミン化合物の具体例の
いくつかを示せば、次の通りである。ヘキサメチ
ロールメラミン、ペンタメチロールメラミン、テ
トラメチロールメラミン、トリメチロールメラミ
ン、ジメチロールメラミン、ヘキサメトキシメチ
ルメラミン、ペンタメトキシメチルメラミン、テ
トラメトキシメチルメラミン、トリメトキシメチ
ルメラミン、トリプトキシメチルメラミン、ヘキ
サエトキシメチルメラミン、ペンタエトキシメチ
ルメラミン、テトラエトキシメチルメラミン、、
トリメトキシメチル−ジエトキシメラミン、トリ
エトキシメチル−ジブトキシメチルメラミン、ヘ
キサプロポキシメチルメラミン、トリプロポキシ
メチルメラミン、ジブトキシメチルメラミン、ト
リメトキシメチルメラミン、ジプロポキシメラミ
ン、ヘキサプトキシメチルメラミン、モノメトキ
シメチルメラミン、テトラブトキシメチルメラミ
ン、テトラメトキシメチルメラミン、メチルグア
ナミン、ジメトキシメチルグアナミン、ジブトキ
シメチルグアナミン、モノメトキシメチルグアナ
ミン、トリプロポキシメチルグアナミン、テトラ
メトキシメチルグアナミン、ベンゾグアナミン、
テトラブトキシメチルグアナミン、ジブトキシメ
チル−ベンゾグアナミンおよびこれらの混合物。 本発明で対象とするのに特に適したものは、式
()でR′が水素またはメチル基、Rが−N
(CH2OCH32またはフエニル基のものである。 次に、(b)成分の分子量が500以下の多価アルコ
ールとしては、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−
ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,
5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオー
ル等の脂肪族のアルキレンジグリコール;トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール等の水
酸基を3個以上有する脂肪族系多価アルコール;
ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコール等のポリオキシアルキレングリコール;
ビスフエノールAのエチレンオキサイドまたはプ
ロピレンオキサイド2〜4モル付加物;シクロヘ
キサンジメタノール、ノルボルネンジメタノー
ル、トリシクロデカンジメタノール等の脂環構造
を有する二価アルコール等が挙げられる。多価ア
ルコールの分子量が500を越えるときは得られる
樹脂の融点が低く、溶剤を除去した後の光硬化性
樹脂の乾燥性が十分でない。 更に、(c)成分のアクリルアミドおよびα−低級
アルキル置換アクリルアミドとしては、アクリル
アミド、メタクリルアミド、α−プロピルアクリ
ルアミド、α−ブチルアクリルアミド、およびこ
れらの混合物が一般に適当である。α−低級アル
キル基としては、一般に炭素数1〜4のものが適
当である。 これらの混合物も使用可能である。 次に各成分の仕込比について記載する。 (a)成分のメチロール化メラミン化合物またはア
ルキルエーテル化メラミン化合物またはアルキル
エーテル化メラミン化合物1モルに対する(b)成分
の多価アルコールの仕込割合は1.5〜4当量(−
OH1モル相当を1当量とする)、好ましくは2〜
3当量であり、(c)成分のアクリルアミド系化合物
の仕込割合は1〜4.5モル、好ましくは2〜4モ
ルである。 (a)成分のメラミン系化合物1モルに対する(b)成
分の多価アルコールの仕込量が1.5当量未満であ
ると得られる樹脂は、反応溶媒、例えばシクロヘ
キサノン、ジオキサンに対する溶解性に欠け、樹
脂が反応中に析出する。逆に4当量を越えると得
られる樹脂の高分子化が進み過ぎ、反応液の粘度
が高くなりすぎ撹拌が困難となる。 また、(a)成分のメラミン系化合物1モルに対す
る(c)成分の仕込量が1モル未満では得られる樹脂
の融点を80℃以上とすることはできない。樹脂が
常温で液状または粘稠なものであるとき、もしく
は樹脂の融点が50℃以下と低いときは、基材上に
コーテイングした後、乾燥により有機溶剤を飛散
させて、光硬化性樹脂層を得、次いでこの層にエ
ンボス等の後加工する際、エンボシングロールや
プレス板に樹脂が付着し、パターニングが鮮明に
行われない。 (a)、(b)および(c)成分の反応は適当な溶媒の存在
下に行なう。この場合の溶媒としては、反応に関
して不活性なものであることが必要である。かか
る溶媒としてはたとえばベンゼン、トルエン、キ
シレン、テトラリン等の炭化水素、シクロヘキサ
ノン、ジオキサン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン等があげられる。 そして、触媒としては、カルボン酸とアルカノ
ールとからエステルを形成させるのに有効な酸が
一般に適当であるが、特に好ましいものはパラト
ルエンスルホン酸で代表される有機酸からなるも
のである。触媒使用量は、たとえばパラトルエン
スルホン酸の場合は各成分の合計量に対して
100ppm〜1重量%程度、好ましくは1000〜
5000ppm銭程度、であるのがふつうである。 (A)成分を得る反応系にはアクリルアミド系化合
物が反応体として、また生成物中にエチレン性不
飽和結合が、存在するから、その重量を防止する
ことが一般に必要である。 このようなエチレン性不飽和結合の重合防止に
関しては種々の化合物が知られており、本発明で
も合目的な任意のものを使用することができる。
具体的には、たとばフエノール系化合物、アミン
系化合物がある。フエノール系化合物を用いた時
の空気は、これを反応系に吹込むと重合防止作用
を延長させる外に生成アルカノール(R′OH)留
去を促進することができるから、反応系への空気
の吹込みは好ましいことである。 この反応は、種々の操作態様に従つて実施する
ことができる。具体的には、たとえば、撹拌装
置、冷却器、および空気吹込装置の付属した反応
器に(a)、(b)および(c)成分と触媒とを仕込み、少量
の空気を反応系(液相部)に吹込みながら徐々に
昇温させる。反応系温度が80℃前後から水または
アルカノール(R′OH)の留去が始まり、100〜
120℃程度まで昇温させてアルカノールの留出が
止まるまで加熱を続けて、反応を終了させる。 この製造により得られる成分(A)の樹脂は次の一
般式()〜()等で示されるエチレン性不飽
和結合を有する樹脂の混合物である。 一般式〔〕 一般式〔〕 一般式〔〕 一般式〔〕 〔式中Zは−CH2NHCOCR1=CH2、−
CH2OR2、R1、R2はHまたは炭素数1〜4のア
ルキル、Rは炭素数1〜8のアルキレン基、Xは
10〜650の整数、Yはポリオール残基を示す〕。 この(A)成分の樹脂を本発明の組成物として供せ
る場合は、反応に用いた溶媒を除去せずにそのま
ま使用してもよいし、ヘキサン、ヘプタン、シク
ロヘキサン等の貧溶媒で(A)成分の樹脂を沈殿さ
せ、乾燥後、粉末固体に単離して使用してもよ
い。 (B) 有機溶剤: 本発明において使用する(B)成分の有機溶剤とし
ては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素、メチルイソブチルケトン、メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等が挙げられる。これら有機溶剤
は乾燥時揮散が容易となる沸点が100〜160℃のも
ので、かつ、親水性も有するシクロヘキサノン、
ジオキサン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトンが好ましい。 (C) 光増感剤: 本発明において使用する(C)成分の光増感剤とし
ては、既に紫外線硬化型塗料の光増感剤として用
いられている各種の光増感剤、例えばベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
α−メチルベンゾイン、α−フエニルベンゾイン
等のベンゾイン系化合物;アントラキノン、メチ
ルアントラキノン等のアントラキノン系化合物;
ベンジル;ジアセチル;アセトフエノン、ベンゾ
フエノン等のフエニルケトン化合物;ジフエニル
ジスルフイド、テトラメチルチウラムスルフイド
等のスルフイド化合物;α−クロルメチルナフタ
リン;アントラセンおよびヘキサクロロブタジエ
ン、ペンタクロロブタジエンなどのハロゲン化炭
化水素などが挙げられる。 任意成分: 本発明に使用する光硬化性樹脂組成物は、上記
の(A)成分、(B)成分および(C)成分に加えて、ハイド
ロキノン、t−ブチルハイドロキノン、カテコー
ル、ハイドロキノンモノメチルエーテルなどのフ
エノール類;ベンゾキノン、ジフエニルベンゾキ
ノンなどのキノン類;フエノチアジン類;銅類な
どの重合防止剤を配合すると貯蔵安定性が向上す
る。更に、必要に応じて、促進剤、粘度調節剤、
界面活性剤、消泡剤等の各種助剤を配合してもよ
い。また、スチレン・ブタジエンラバー等の高分
子体を配合することも可能である。 (組成比) (A)成分と(B)成分の配合割合は、(A)成分の樹脂が
10〜90重量%、好ましくは35〜70重量%、(B)成分
が90〜10重量%、好ましくは65〜30重量%であ
る。 (C)成分の光増感剤は、(A)成分の0.01〜5重量
%、好ましくは0.05〜1重量%の割合で使用され
る。促進剤は(A)成分の0.05〜5重量%である。 本発明に用いる光硬化性樹脂組成物は、基材へ
含浸あるいは塗布を容易とするため25℃の粘度が
30〜5000センチポイズとなるように一般に調製さ
れる。 (ホログラムの複製) 上述のような光硬化性組成物を、金属板、紙、
ポリエチレンテレフタレート等の基材に塗布、ま
たは含浸し、次いで(B)成分の有機溶剤が飛散する
温度、例えば100〜165℃に設定した加熱炉内に
0.1〜1分導いて乾燥させて光硬化性樹脂層を基
材上に形成する。そして、この光硬化性樹脂層に
マスターホログラムから引き続いて作成したプレ
ススタンパーを用いて所望のホログラムレリーフ
のパターニング(エンボス加工)行ない、ついで
紫外線、電子線等を照射して樹脂を光硬化させ、
この光硬化した樹脂上にアルミニウムを蒸着させ
ることによりホログラムを複製する。 また、本発明の光硬化性樹脂組成物を用いるこ
とにより、予じめオフセツト印刷した基材の表面
に光硬化性樹脂組成物を塗布し、乾燥後、光硬化
性樹脂をエンボス加工した後に光硬化させてレリ
ーフを形成させて立体的な地図やポスターを製造
することができる。 更に、ポリエチレンテレフタレート製の剥離フ
イルム等の第1の基材上に光硬化性樹脂組成物を
塗布し、乾燥後、光硬化性樹脂層上に絵柄を印刷
し、ついで印刷面上にホツトスタンプ剤を塗布し
た後、合板、ABSシート、亜鉛板等の第2の基
材をホツトスタンプ剤面に貼合し、熱転写ロール
等により基材上に転写させ、剥離フイルムを除去
し、露呈した光硬化性樹脂層を光硬化させること
により絵柄を基材に転写したフイルム、金属板等
が製造できる。 ホログラムパターンのエンボス加工は、例えば
マスターホログラムから作成したプレススタンパ
ーを周面に装着した金属ロールとペーパーロール
よりなる1対のエンボスロールを使用して通常の
方法で、例えば50〜150℃、10〜50Kg/cm2の圧力
で行う、エンボス加工は片面エンボスで十分であ
るが、両面エンボスでもよい。基材に塗工された
光硬化性樹脂は常温で固体であるため、エンボス
ロースの温度を該光硬化性樹脂の軟化点以下に設
定することにより樹脂のエンボスロールへの付着
は防止される。 光硬化性樹脂を硬化させるに用いる光として
は、高エネルギー電離性放射線および紫外線があ
げられる。 高エネルギー電離性放射線源としては例えば、
コツククロフト型加速器、バンデグラーフ型加速
器、リニヤーアクセレーター、ベータトロン、サ
イクロトロンなどの加速器によつて加速された電
子線が工業的に最も便利かつ経済的に使用される
が、その他に放射性同位元素や原子炉などから放
射されるγ線、X線、α線、中性子線、陽子線な
どの放射線も使用出来る。 紫外線源としては例えば、紫外線螢光灯、低圧
水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン
灯、炭素アーク灯、太陽灯などがある。 〔実施例〕 以下、実施例により本発明を詳細に説明する。
なお、例中の部、%は特に例記しない限り重量基
準である。 本発明における成分(A)の樹脂の製造例: 製造例 1 四つ口フラスコ内に撹拌機、温度、冷却器、空
気吹込み用ガラス管を取り付け、このフラスコ内
にヘキサメトキシメチルメラミン(三井東圧化学
製サイメル303 390部(1モル)、アクリルアミド
248.5部(3.5モル)、エチレングリコール45部
(1.5当量)、シクロヘキサノン751.9部、パラトル
エンスルホン酸2部およびハイドロキノン0.5部
を仕込み、200ml/分の速度で空気を吹込みなが
ら徐々に100℃迄昇温させ、同温度に7時間保つ
て反応を終了させた。 反応終了後、70℃まで冷却し、重曹30gを添加
してこの温度で30分間維持した。その後濾紙で濾
過して樹脂溶液を得た。この樹脂溶液の粘度は
420cps(25℃)であり、また、溶媒を蒸発させた
樹脂の融点は112℃であつた。 製造例 2〜6 ヘキサメトキシメチルメラミン1モルに対する
エチレングリコールおよびアクリルアミドの仕込
モル比を下記の表1に示すように変更した他は製
造例1と同様にして樹脂溶液を得た。 製造例 7〜16 製造例1において、(a)成分ののメラミン系化合
物、(B)成分の多価アルコールの種類ならびに各成
分の配合割合を下記の表1のように変更する他は
製造例1と同様にして表1に示す粘度を示す樹脂
溶液を得た。 参考例 1 油化シエルエポキシ(株)製ビスフエノールAのジ
グリシジルエーテル“エピコート1004”(商品名、
エポキシ当量913)464部、アクリル酸37部、ハイ
ドロキノンモノメチルエーテル1部、テトラメチ
ルベンジルアンモニウムブロミド5部およメチル
イソブチルケトン500部を11の4口フラスコ内に
仕込み、撹拌機、還流冷却器、空気吹込管および
温度計を取りつけ、撹拌しながら、および空気を
200ml/分の割合で吹き込みながら加熱して110℃
迄昇温した。 同温で5時間反応させて粘度(25℃)が280cps
のエポキシアクリレート樹脂溶液を得た。なお、
溶媒を除去た該樹脂の融点は75℃であつた。 実施例1〜12、比較例1〜4、参考例2 前記製造例1〜16および参考例1で得た樹脂溶
液100部に、光増感剤として2,2−ジメトキシ
−2−フエニルアセトフエノン1.5部を配合して
光硬化性樹脂組成物を得た。 () ホログラム層の複製 これらの組成物を75μのポリエチレンテレフタ
レートフイルム上にロールコーターで2g/m2
量塗工し、80℃で乾燥して溶剤を揮散させた後、
レーザー光を用いて作つたマスターホログラムか
ら引続き作成したプレススタンパーにより150℃
で加熱ブレスして微細な凹凸層を形成させた。次
いで、水銀灯より発生した紫外線を照射して光硬
化させた。更に、真空蒸着法によりAl層をこの
上に蒸着してホログラムを形成した。これは、立
体像を写し出す印刷物やデイスプレー等に用いる
ことが出来る。 () レリーフ層の形成 これらの組成物をオフセツト印刷をほどこした
コート紙の表面にマイヤーバーを用いて5g/m3
の塗布量で塗布し、150℃で乾燥して(参考例1
のエポキシアクリレートは30g/m3の塗布量、
120℃乾燥)溶剤を揮散させた後、エンボス加工
し、次いで水銀灯より発生した紫外線を照射して
光硬化させて透明なレリーフ層をコート紙表面に
形成させた。これにより立体感を有する印刷物が
得られた。これは、レコードジヤケツト、ポスタ
ー、美術品等に用いることが出来る。 () 転写方式によるレリーフ形成 これら組成物を、25μのポリエチレンテレフタ
レート製剥離フイルム上にグラビア印刷法で塗工
し、105℃で乾燥した後、この上にグラビア法で
絵柄印刷し、さらにヒートシール用のアクリル系
接着剤(ホツトスタンプ剤)を塗工した。合板の
上に前記アクリル系接着剤面を下にしてフイルム
面側から熱ロールにて熱転写を行なつた。次い
で、剥離フイルムをはがし、水銀灯より発生した
紫外線を照射して、表層の樹脂を硬化させた。こ
のものは壁材として用いることが出来る。 これら加工品の物性を表2に示す。 なお、物性の評価法は次のとおりである。 耐薬品性: 本組成物の硬化表面をメチルエチルケトンを浸
みこませたガーゼで100回往復させてこすつたと
き、表面に異常がなかつたものを良好とし、表面
に異常を生じ、コート紙の表面が露呈したものを
不良とした。 耐熱性: 本組成物の硬化表面を熱ロールで200℃に加熱
し、3分保持した後の変色、変形等を見た。異常
のなかつたものを良好とし、黄変もしくは変形や
ハクリのおこつたものを不良とした。 耐擦傷性: #0000のスチールウールで本組成物の硬化表面
を10回こすつたとき、表面に何の変化もなかつた
ものを良好とし、表面が傷つき、白化したものを
不良とした。 〔発明の効果〕 以上詳述したように、本発明によれば光硬化性
樹脂組成物は乾燥して有機溶散を飛散させること
により、タツク性がなくなり、巻き取り、重ね合
せができ取扱いが容易易であるとともに、エンボ
ス加工の他、印刷、塗装、ラミート等の後加工が
可能となる。また、光硬化性樹脂組成物を基材に
塗布した後、乾燥して有機溶剤を飛散させてタツ
ク性のない固体の光硬化性樹脂層を基材上に設
け、マスターホログラムから作成したプレススタ
ンパーを用いてエンボス加工を施した後に光照射
(電子線、紫外線)により固体の光硬化性樹脂層
を完全に硬化させて樹脂層上にホログラムを複製
するので、複製されたホログラムは強靭で、硬
度、耐熱性、耐擦傷性、耐薬品性、基材に対する
密着性に優れたものである。
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (A)成分: (a) 成分: 一般式 式中、R′はそれぞれHまたは炭素数1〜
    4の炭化水素基を示し、Rはメチル基、フエ
    ニル基、−N(CH2OR′)2(R′はそれぞれ上記
    R′と同一または異なるHまたは炭素数1〜
    4の炭化水素基)、または下記一般式で表わ
    される有機基を示す (Yは−CH2OR′または水素、R′はそれぞれ
    上記R′と同一または異なるHまたは炭素数
    1〜4の炭化水素基) で示されるメラミン系化合物 1モル (b) 成分: 分子量が500以下の多価アルコール1.5〜4
    当量(水酸基1個を1当量とする) (c) 成分: アクリルアミド、α−低級アルキル置換ア
    クリルアミドより選ばれたアミド系化合物
    1〜4.5モル 上記(a)、(b)および(c)成分を上記割合で反応させ
    て得られる20℃で固体のメラミンアクリル化合物
    10〜90重量% (B) 成分: 上記(A)成分を溶解する非反応性有機溶剤
    90〜10重量% (C) 成分: 光増感剤 上記(A)成分の0.05〜5重量% 上記(A)、(B)および(C)成分を含有する光硬化性樹
    脂組成物。 2 基材の少なくとも一方の面に下記(A)、(B)およ
    び(C)成分を含有する光硬化性樹脂組成物を塗布
    し、乾燥して光硬化性樹脂層を形成し、該光硬化
    性樹脂層にマスターホログラムから作成したプレ
    ススタンパーを用いてエンボス加工を施した後、
    前記光硬化性樹脂層を硬化させることを特徴とす
    るホログラムの複製方法。 (A) 成分: (a) 成分: 一般式 式中、R′はそれぞれHまたは炭素数1〜
    4の炭化水素基を示し、Rはメチル基、フエ
    ニル基、−N(CH2OR′)2(R′はそれぞれ上記
    R′と同一または異るHまたは炭素数1〜4
    の炭化水素基)、または下記一般式で表わさ
    れる有機基を示す (Yは−CH2OR′または水素、R′はそれぞれ
    上記R′と同一または異なるHまたは炭素数
    1〜4の炭化水素基) で示されるメラミン系化合物 1モル (b) 成分: 分子量が500以下の多価アルコール1.5〜4
    当量(水酸基1個を1当量とする) (c) 成分: アクリルアミド、α−低級アルキル置換ア
    クリルアミドより選ばれたアミド系化合物
    1〜4.5モル 上記(a)、(b)および(c)成分を上記割合で反応させ
    て得られる20℃で固体のメラミンアクリル化合物
    10〜90重量% (B) 成分: 上記(A)成分を溶解する非反応性有機溶剤
    90〜10重量% (C) 成分: 光増感剤 上記(A)成分の0.05〜5重量%
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