JPH055370B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH055370B2 JPH055370B2 JP61159648A JP15964886A JPH055370B2 JP H055370 B2 JPH055370 B2 JP H055370B2 JP 61159648 A JP61159648 A JP 61159648A JP 15964886 A JP15964886 A JP 15964886A JP H055370 B2 JPH055370 B2 JP H055370B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- plasma
- discharge chamber
- mounting surface
- periphery
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15964886A JPS6316624A (ja) | 1986-07-09 | 1986-07-09 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15964886A JPS6316624A (ja) | 1986-07-09 | 1986-07-09 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6316624A JPS6316624A (ja) | 1988-01-23 |
| JPH055370B2 true JPH055370B2 (cs) | 1993-01-22 |
Family
ID=15698301
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15964886A Granted JPS6316624A (ja) | 1986-07-09 | 1986-07-09 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6316624A (cs) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5599726A (en) * | 1979-01-26 | 1980-07-30 | Hitachi Ltd | Method and device for plasma treatment |
-
1986
- 1986-07-09 JP JP15964886A patent/JPS6316624A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6316624A (ja) | 1988-01-23 |
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