JPH0552568B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、垂直磁気記録用の磁気記録媒体、特
に磁気デイスクの製造方法に関する。

従来技術 垂直磁気記録方式は、従来の面内磁気記録方式
に比べて、記録密度を10〜100倍程度も高くとる
ことができ、高密度磁気記録方式として注目を集
めている。垂直磁気記録用の磁気記録媒体として
は、例えば第３図に示すように、非磁性基体１の
上に、高透磁率層となる水平磁化膜層２を形成す
ると共に、この水平磁化膜層２の上に磁気記録層
となる垂直磁化膜層３を積層した２層膜構造のも
のが知られている。前記水平磁化膜層２はNi−
Fe−Mo系スーパマロイまたはNi−Fe系パーマ
ロイ等で構成され、垂直磁化膜層３はCo−Crの
組成で構成される。

上記の２層膜構造の磁気記録媒体において、磁
気記録を行なうに当り、例えば第４図に示すよう
に、磁気記録媒体の垂直磁化膜層２に対向して主
磁極４を配置し、背面側に補助磁極５を配置した
場合、補助磁極５からの磁束は、高透磁率層であ
る水平磁化膜層２を水平方向に流れて主磁極４に
集中し、主磁極４の部分で垂直磁化膜層３を垂直
磁化する。このため、２層膜構造の磁気記録媒体
では、補助磁極５を垂直磁化膜層３に極めて接近
させたと等価の状態で高密度磁気記録を行なうこ
とができる。また、水平磁化膜層２の存在によつ
て、垂直磁化膜層３の垂直磁化に対して馬蹄形磁
化モードが形成され、減磁作用が小さくなるこ
と、記録密度特性を損なうことなく、垂直ヘツド
における記録再生の感度を10倍以上に向上させる
ことができること、更に、記録の保存性を高める
ことができること等の利点も得られる。

上述の垂直磁気記録用の磁気記録媒体の工業的
製造方法としては、スパツタ成膜方法が採用され
る。第５図はマグネトロンスパツタ装置を概略的
に示す図である。図において、７はArガス等を
導入して10^-3Torr程度に圧力設定した真空槽、
８はターゲツト、９はこのターゲツト８の背面側
に配置されたマグネツトである。１０は矢印ａ方
向に走行する非磁性基体、１１は非磁性基体１０
を供給する供給ロール、１２は巻取ロール、１３
は冷却ドラムである。

前記ターゲツト８は、水平磁化膜層２を形成す
る場合には、Ni−Fe−Mo系スーパマロイまたは
Ni−Fe系パーマロイ等で構成され、垂直磁化膜
層３を形成する場合にはCo−Cr系材料によつて
構成される。このターゲツト８は、工業的量産性
を向上させるため、第６図に示すように、非磁性
基体１０の幅ｗ１をカバーできる幅ｗ２を有する
矩形状に形成し、その背面側に、外形に沿う矩形
リング状の外側コア９１及び中脚コア９２を有す
るマグネツト９を配置した構造となつている。

上記の装置において、冷却ドラム１３とターゲ
ツト８との間に、ターゲツト８側を負とする400
〜500Vの高電圧を印加すると、真空槽７内でプ
ラズマ放電が発生し、Ar⁺がターゲツト８の負電
位に引かれてその表面に衝突し、ターゲツト表面
の金属原子が叩き出される。叩き出された金属原
子は、ターゲツト８に対向させた非磁性基体１０
の表面に析出する。ターゲツト８の表面における
金属原子の放出跡イは、第６図に示すように、タ
ーゲツト８の背面に配置されたマグネツト９の形
状に応じて、矩形リング状となる。

従来技術の欠点 ところが、従来は、スパツタ成膜方法によつて
磁化膜層を形成する場合、第６図に示すように、
矩形状ターゲツト８を使用していたため、金属原
子がマグネツト９の形状に応じて矩形リング状に
叩き出され、金属原子が非磁性基体１０に対して
その幅ｗ１の方向Ｙに沿つて析出する。このた
め、金属原子の析出方向となる幅方向Ｙを磁化容
易方向とし、これと直交する長さ方向Ｘを磁化困
難方向とする磁気異方性が発生し、磁気デイスク
とした場合の再生出力モジユレーシヨンが大きく
なつてしまうと言う問題点があつた。第７図は、
水平磁化膜層２を磁歪零の組成とし、上述のスパ
ツタ成膜法によつて得られた磁気記録媒体を、円
形状に打抜いて得られた磁気デイスク（フロツピ
デイスク）を、円周360°に亘つてトレースして得
られた再生出力特性図であり、明確な再生出力モ
ジユレーシヨンが見られる。再生出力モジユレー
シヨンは磁化困難方向となる長さ方向Ｘで大き
く、磁化容易方向となる幅方向Ｙで小さくなるよ
うに現われる。

本発明の目的 本発明は上述する従来からの問題点を解決し、
磁気記録面内で磁気異方性を持たず、磁気特性が
等方的で、再生出力モジユレーシヨンの小さい垂
直磁気記録用の磁気記録媒体を製造する方法を提
供することを目的とする。

本発明の構成 上記目的を達成するため、本発明は、非磁性基
体の表面に水平磁化膜層及び垂直磁化膜層を順次
スパツタ成膜して磁気記録媒体を製造する方法に
おいて、１個または複数個の円形状のターゲツト
を用いると共に、前記ターゲツトのそれぞれの背
面側に、その外形に沿う円環状の外側コアと中心
コアとを有するマグネツトを配置することを特徴
とする。

即ち、第５図に示したようなスパツタ装置によ
つてスパツタ成膜を行なう場合に、第１図に示す
ように、非磁性基体１０の幅方向Ｙに沿つて、１
個または複数個の円形状のターゲツト８を配置
し、このターゲツト８を使用して水平磁化膜層２
のスパツタ成膜を行なうのである。ターゲツト８
のそれぞれの背面側には、第２図にも示すよう
に、円環状の外側コア９１と中心コア９２を有す
るマグネツト９を配置してある。

このスパツタ成膜方法によれば、非磁性基体１
における金属原子の析出ロが円形状ターゲツト８
の形状に沿う円形状となり、長さ方向Ｘ及び幅方
向Ｙでの析出方向性がなくなる。このため、磁気
デイスク等のような円形状の磁気記録媒体におい
ては、磁気記録面内での磁気特性が等方的とな
り、再生出力モジユレーシヨンが小さくなる。な
お、垂直磁化膜層３のスパツタ成膜に当つても、
円形状ターゲツトを用いることができる。

第８図は本発明に係る円形状磁気デイスクの再
生出力特性図であり、モジユレーシヨンが殆ど見
られない。

本発明の効果 以上述べたように、本発明は、非磁性基体の表
面に水平磁化膜層及び垂直磁化膜層を順次スパツ
タ成膜して磁気記録媒体を製造する方法におい
て、１個または複数個の円形状のターゲツトを用
いると共に、ターゲツトのそれぞれの背面側に、
その外形に沿う円環状の外側コアと中心コアとを
有するマグネツトを配置することを特徴とするか
ら、磁気記録面内で磁気異方性を持たず、磁気特
性が等方的で、再生出力モジユレーシヨンの小さ
い垂直磁気記録用の磁気記録媒体を製造すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気記録媒体の製造方法
を説明するためターゲツト部分を拡大して示す平
面図、第２図は同じくターゲツト部分の断面図、
第３図は垂直磁気記録用の磁気記録媒体の構造を
示す図、第４図は同じくその磁気記録方式を示す
図、第５図は第３図及び第４図に示した磁気記録
媒体を製造するスパツタ装置の構成を概略的に示
す図、第６図はスパツタ装置におけるターゲツ
ト、非磁性基体及びマグネツトの関係を示す図、
第７図は従来の磁気記録媒体の再生出力特性図、
第８図は本発明に係る磁気記録媒体の再生出力特
性図である。 １……非磁性基体、２……水平磁化膜層、３…
…垂直磁化膜層、８……ターゲツト。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 非磁性基体の表面に水平磁化膜層及び垂直磁
   化膜層を順次スパツタ成膜して磁気記録媒体を製
   造する方法において、１個または複数個の円形状
   のターゲツトを用いると共に、前記ターゲツトの
   それぞれの背面側に、その外形に沿う円環状の外
   側コアと中心コアとを有するマグネツトを配置す
   ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。