JPH05503371A - 液/ガスの光学モジュレータ - Google Patents

液/ガスの光学モジュレータ

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JPH05503371A JP3517153A JP51715391A JPH05503371A JP H05503371 A JPH05503371 A JP H05503371A JP 3517153 A JP3517153 A JP 3517153A JP 51715391 A JP51715391 A JP 51715391A JP H05503371 A JPH05503371 A JP H05503371A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の名称 液/ガスの光学モジュレータ ^里立立! 本発明は、モジュレータ(Modulator)セル内の染料溶液、レーザー及 びもう一つの光源を使用した光を変調(Modulate)するための新規な方 法及び装置に関する。
そこでは、集束したレーザービームによって生じたエネルギーを染料溶液が吸収 することによって溶液内にバブルが生じ、該バブルのa域(reg:on)のセ ルの光学密度が著しく減じる現象が利用される。更に詳しくは、本発明は、適度 に高い切変え速度で非偏光性の光を高いコントラスト比で変調する新規な方法及 び装置に関する。
X玉曳!員 この技術分野には、光を変調するための多くの方法があり、各方法は、各特定の 用途に対して長所及び短所を有する0例えば、機械的シャッターは、はぼ無限の コントラスト比で光を変調する極めて効果的な手段として使用できるが、機械的 シャッターの切変え速度は、高価な動力源とかなり入念な組立て(Set−up )を必要とする圧電気シャッターを使用しない限り、多くの場合、キロヘルツ以 下に制限される。液晶モジュレータは、切変え速度が低キロヘルツの領域で使用 でき、またこのモジュレータは、一般に良好なコントラスト比(代表的には20 又は30:1のオーダーだが、あるものは500 : 1)を有する。しかし、 液晶モジュレータは、多くの場合、偏光のみを透過し、また、UV利用の場合に は、光化学的故障を起す。音響−光学式モジュレータは、レーザーと一緒に使用 された場合、一般に優れたコントラスト比(800:1以上)とメガヘルツ領域 の切変え速度を与えるが、その全体の透過効率は、高い変調速度では幾分低く、 またモジュレータの調整も必要とし、更にUV動作では、光は、偏光されねばな らない。電気−光学式そシュレータは、レーザーと一緒に使用された場合、極め て高い変調周波数で良いコントラスト比を与えるが、偏光と精密な組立てを必要 とし、またその信頼性は疑問である。
本発明に関係する他のモジュレータ装置には以下のようなものがある。Wall es (米国特許No、4.280,225.1981年4月7日)は、温度変 化により溶媒中の重合体溶液の溶解度を変化させることによりセルの光学密度を 変化させている。Waring、Jr、(米国特許No、3.951,520゜ 1976年4月20日)は、温度変化により非混和相の分散を変化させることに よりセルを通じた光の散乱を変化させている。Mattis(米国特許N o  −3+684.726.1972年5月23日)は、セルに収容された金属酸化 物又は塩が、起電力による熱によって透明から反射状態への転移を開示する。更 にはHerbert (米国特許N o 、 4 、148 、583 、19 79年4月lo日)は、セルの全内部反射率が、液/ガス相の変化が生じた場合 、屈折率の変化により変化することを開示する。
更に関係する技術として、画材〔日本特願昭157−102305.同57−1 02295、同57−1022Elθ、同57−102291及び同57−10 2292、これら全てが、1982年6月18日に出願、)は、電気抵抗の加熱 によりバブルを不透明な液体中に生じさせて、光学的不透明から透明状態にセル を変化させることを開示する。用材(日本特願昭80−51010.1985年 5月14日)は、上記画材の装置と実質上同じ原理で作動する光学的シャッター を開示する。
上記した各特許の装置では、バブルを生じさせる熱は、電気的素子によって与え られる。透過セルにとって、この電気的素子は透明でなければならず、また好ま しくは透明な複合回路によって接続されねばならない。更に、これらの透明な電 気的素子及び回路は、透過された光の散乱とゆがみを除くために好ましくは、良 好な光学的特性を有さねばならない。また、電気的素子は、別々の位置に置くこ とにより、セル内の不規則な位置にバブルが生じるのを防ぐことを必要とされる 。各電気的素子を別々の位置に置くことは、各素子を/1)さくし、緊密に詰め ることを必要とし、かくすることにより初めて、バブルを通じてイメージ(II Ilage)を形成する透過又は反射した光の高い、@像度を得ることができる 。
従来の光学式モジュレータは、イメージを形成する利用においては、特にUVが 使用される場合、一般に良くない特性を有する0例えば、HeCdレーザーが、 ソリッドイメージ又は立体リングラフプロセスで光学ポリマーの露光に使用され る。この商業的HeCdレーザーは、325nmのUV出力を有し、また出力が かなり低いために、三次元の像形成は比較的遅い、像の形成過程を促進させるた めには、中出力のHeCdのUVレーザーが使用される。しかし、更に高出力を 得るためには、通常、非偏光性でマルチモード出力のレーザーが使用される。中 出力のレーザーとともに、適度に速いビーム変調方法を使用することにより、イ メージ平面上に均一な露光が確実に得られる。しかしながら、上記のようなシス テムに対して、従来のいずれのモジュレータも、必要とされるレーザー出力及び モジュレータ速度の点で十分に動作しない0機械的シャッターは、動作が遅すぎ て適度の露光制御及びイメージのエッヂ制御ができない、液晶シャッターは、偏 光を必要とし、液晶媒体は、UV照射下では安定でない、AOやEOモジュレー タは、この波長では、動作のために偏光を必要とし、また、マルチモードのレー ザー出力は、AOモジュレータを非効率的にする。UV露光を得ようとする場合 には、アルゴンイオンレーザ−のような高出力のUVレーザーが、AOモジュレ ータとともに使用されるが、これは極めて!用がかかる。一方、非干渉性UV光 源をハロゲン化銀のフィルムで被覆してイメージを投射しようとする場合、一つ の層内に高解像が得られるが、隣りの層は、他の層とともに適度に表示されず、 また上記ハロゲン化銀フィルムを十分な速さで操作することが難しい。
本発明の要約 本発明によると、新規な方法及び装置が開示され、そこでは、セル内に収容した 染料と溶媒を使用した光学式モジュレータが製造され、それは、レーザービーム から発生する光を開閉したり、また非干渉性光源から発生する光を開閉するのに 使用される。また、本発明では、二次元又は二次元でもイメージを形成するシス テムとして上記光学式モジュレータの使用が開示される。
一般に、本発明の液/ガスモジュレータは、セル内の間隙(gap)に収容され た液状の染料溶液を使用する0通常の条件では、染料溶液は、上記セルを所定の 波長の光に対して実質上不透明にする。しかし、熱ビーム出力を有するレーザー をセル内の一点の染料溶液に集束させた場合、バブルが形成される。バブルは、 染料溶液によって以前ブロックされていた照射線の波長に対して実質上透明であ り、それによって、以前ブロックされていた照射線の波長頚城は、イメージ線と してバブル及びセルを透過する。そして、上記レーザーが切られるか、又は、レ ーザーの熱ビームがセルの別の領域に集束した場合、バブルが凝縮し、該バブル が凝縮したセルの領域の染料溶液を再び不透明にする。
かくして、本発明のイメージ線(rad 1ation)を変調する方法は、以 下のステップからなる。
a)セル内に染料溶液を収容する; b)上記セルと染料溶液とを、所定の波長を有する照射線で照射し、上記染料溶 液は、上記照射線の所定波長を実質上ブロックする;C)上記染料溶液の一領域 を熱ビームによって横切らせ、上記領域内にバブルを生成させ、上記波長の照射 線の少なくとも一部を上記バブルとセルを透過させることにより上記イメージ線 をオンQurn on)にせしめる。
本発明の好ましい態様では、イメージ線をオンにするばかりでなく、上記変調方 法を使用することによりオフ(turn off)にすることが望ましい、かく して、本発明では、以下の付加的ステップを含むイメージ線をオフにする方法が 開示される。
d〕上記染料溶液の領域から上記熱ビームを除去する;そしてe)上記溶液のl J[域のバブルを凝縮させて、上記波長の照射線を実質上ブロックして上記イメ ージ線をオフにする。
図面の簡単な説明 図1は、液/ガスの光学モジュレータの基本的動作を示す、そこでは、熱ビー゛  ムレーザーからのビームは、セル内の染料溶液に集束し、セル内にバブルを生 成させることにより、非干渉性照射源からの照射線がセルを透過させる。
図2は、液/ガスモジュレータの別の使用を示す、そこでは、照射レーザーから の照射線や別のレーザーからの集束した熱ビームが実質上同一線上にあるように される。モジュレータ内にバブルが生成したとき、照射線は実質上バブルを通じ て集束され、イメージ線を透過させる。
図3は、液/ガスモジュレータの別の使用を示す、そこでは、実質的に同一線上 の照射線と集束した熱ビームが、走査ミラーを使用することにより、液/ガスモ ジュレータセル内に収容された染料溶液の異なりた領域を走査するようにされる 。
rlA4は、光ファイバーに取り付けられた液/ガスモジュレータを示し、それ は、光ファイバーからのイメージ線を変調するのに有用である。
図5は、図3の更に進んだ変形を示す、そこでは、複数の集束熱ビームがモジュ レータの表面上を走査し、複数の対応するバブルを生成することにより、照射縁 がセルの複数の領域をイメージ線として透過させる。
好適な 施態様の説明 一般に、本発明の液/ガスモジュレータは、溶媒が液体からガスに、又はガスか ら液体に相変化するときに、溶媒中の染料の溶解度が大きく変化するという原理 で動作する。溶媒相での染料の溶解度の変化により、染料溶液によってブロック される光の量、即ち光学密度も大きく変化する。本発明では、「ブロック」とい う用語は、光エネルギーが、元の状態の染料溶液を通じてその透過又は反射が妨 げられることを意味する。例えば、ある波長の光が、染料溶液によって吸収され 、従ってブロックされるが、吸収された光エネルギーは、光ルミネツセンスによ り、ブロックされるか又はされない別の波長に変換されうる。また、例えば、光 エネルギーはブロックされるか又はされない熱に変換される。光学密度、または 吸収は、log工0(入射光強度/透過光強度)で定義される。適当な条件で多 くの溶媒は、液体からガス又はガスから液体への相変化が容易に可逆的であるの で、相が変化する溶液中での染料の溶解度も一般的に可逆的であり、かくして、 相が変化する溶液の光学密度も可逆的になる。一般に、高い光学密度を有する液 状染料溶液内にガス状バブルが生成される場合、バブルの領域の光学密度は小さ くなり、即ち透明になる。ガス状バブルが凝縮して液体になる場合、染料は凝縮 した液体に溶解し、以前バブルが存在していた領域は、光学的に緻密になる。
図1は、液/ガスモジュレータを更に説明したものである。液/ガスモジュレー タ101は、2枚の透明プレートで構成される。一方のプレートは、照射プレー ト103と呼ばれ、他方のプレートは、イメージプレート105と呼ばれる。各 プレートは、2つの主表面を有する。照射プレート103には、照射外表面10 3°と照射内表面103“がある、イメージプレート105には、イメージ外表 面105゛ とイメージ内表面105″がある。照射内表面103”は、イメー ジ内表面105”に面し、これら二つの表面の間には、染料溶液107がある。
2つのプレートは、分離して置かれ、染料溶111107は、二つのプレートの 間にシール109によって封入される1本発明の目的では、染料溶液107は、 典型的には液体であり、それ自体ゲルである場合もある。液相では、染料溶液1 07は、ある波長において高い光学密度を有する。かくして、領域を露光する非 干渉性の光照射fi113から発生した照射縁111が、照射プレート103を 通じて染料溶液107に透過されるとき、照射線111のある波長は、実質上ブ ロックされ、染料溶液107を通じてイメージプレート105に透過されない。
しかし、熱ビームレーザー117から放出される集束熱ビーム115が、染料溶 液107を横切るとき、ガスバブル119が生成され、その領域の光学密度が減 少し、その領域を照射する照射線111がモジュレータを通じてイメージ線11 1゛ とじて透過される。更に、集束熱ビーム115は、モジュレータ101及 びバブル118を通じて透過線115° として透過する。この図において、イ メージ線は、染料溶液中のバブルを透過する照射線であり、それは、通常、液状 の染料溶液が実質上ブロックする波長又は波長帯域を有する。「イメージ(im age) Jという用語は、主に照射線の典型的機能を表わす用語として使用さ れる。しかし、イメージ縁は、例えば、電気−光学回路における光センサを作動 せせ、スクリーンのようなテレビジョンを与える機能も有する。同様に、「集束 熱ビームげocused−heat−beam) Jという用語は、ビームの機 能を表わす用語として使用される。集束熱ビームは、染料溶液中のある点に熱を 発生させ、バブルを生成するために液/ガスモジュレータで使用されるのに有用 な波長を有する実質上干渉(coherent)光である。集束熱ビーム又は熱 ビームは、染料溶液を横切るものとしてしばしば表わされる。
これは、熱ビームは、染料溶液のある領域を指向し、オン(turn on)さ れることを意味する。一方、熱ビームが、染料溶液のある領域から「除かれる」 ということは、染料溶液の別の領域を透過するように指向するか、又は熱ビーム が切られるか、又は熱ビームがある方法でブロックされるか、又はこれらの組み 合わせを意味する。
液/ガスモジュレータは、図面で示されるように透過型か又は反射型のいずれか で使用される0例えば、図1では、イメージプレート105は、事実上反射イメ ージ内表面105′″を有することができる。照射縁111は、ある角度でモジ ュレータ101に入り、イメージill 11’ としてバブル119の領域で イメージ内表面105“を補角で反射する。かくして、イメージ線がセルを「通 じて」又はセル「から」通過するという如き表現は、一般に、セルによって変調 されたイメージ線を透過するか、又は反射することを意味するように解釈すべき である。
液/ガスモジュレータ101の動作で使用される染料溶液107は、溶媒と、照 射源113からの線111及びレーザー117からの集束熱ビーム115をブロ ックする少なくとも一つの染料とから構成される。多くの場合、2種類以上の染 料が溶液107に存在するのが好ましい。染料は、本質的に二つの機能を有する 。染料は、集束熱ビーム115からのビームを吸収し、かつ集束熱ビーム115 のエネルギーを熱に変換するのに有効である。上記熱は、溶液107の溶媒を部 分的に加熱してバブル119を生成させる。染料は、以下熱染料(therma l dye)と呼ばれる。溶液107中の上記染料又は別の染料又は染料類は、 照射線111の波長の少なくとも一部をブロックする場合に、以下これらは、ブ ロック染料と呼ばれる。ブロック染料は、好ましくは、照射線111の熱への有 効な変換剤ではない。有効な熱変換剤でない代表的な染料は、高い量子光ルミネ ツセンス収率と幾分低いストークス(Stakes)シフトを有する。溶液10 7中の染料が、照射線」11又は集束熱ビーム115をブロックするとき、非可 逆的光化学変化が起こることは望ましくない。高い光ルミネツセンスの量子収率 染料を使用した場合、照射線111から吸収したエネルギーは、熱よりも光ルミ ネツセンスに変換する。典型的には、この光ルミネツセンスは、吸収した波長よ りも長い波長で生じ、全方向に放射されることによりエネルギーが拡散される。
例えば、照射線111は、プレート103の照射内表面103mに隣接する染料 溶n、107によって、吸収される場合、照射線111のほとんどは、染料によ り光ルミネツセンスに変換され、シフトした波長で全方向に放射される。この光 ルミネツセンスのほとんどは、モジュレータ101から照射プレート103を通 じて反対方向に透過される。上記光ルミネツセンスの残りのほとんどは、まわり の染料溶液107によって吸収され、典型的にはより長い波長で再び光ルミネツ センスに変換される。
そして、光ルミネッセンヌエネルギーのほとんどは、プレート103を通じてモ ジュレータ101から全ての方向に逸散し、また残りの光ルミネッセンスエネル ギーのほとんどは、まわりの染料溶液107によって吸収される。これは、光ル ミネツセンスエネルギーが、最終的にプレート105のイメージ内表面105’ ″に到達し、そこでそれが全ての方向に放射されるまで継続する。照射線111 が、染料溶液107を通過するまでに、実質上エネルギーが減少し、高度に分散 しそして典型的にはより長い波長になる。かくして、染料は、照射線111のエ ネルギーを発散するという二つの光ルミネツセンスメカニズムを利用する。一方 のメカニズムは、分散によってエネルギーを全ての方向に発散し、エネルギーの ほとんどが照射プレート103を通過する。他方のメカニズムは、照射線111 のエネルギーを別の波長に変換し、順次、全ての方向に発散させる。
光ルミネツセンスとともに生じる波長の変化は、ストークス損失又はシフトと呼 ばれる。多くの場合、波長の変化の結果として起こるエネルギー損失がある。
このエネルギー損失は、しばしば、フォノン(Phonon)エネルギーと呼ば れる通常分子振動エネルギーであり、それは、染料溶液内に望ましくない熱を発 生させる。本発明を実施する場合、ストークス変化は、発生する熱を減少させる ためにかなり小さいことが望ましい、しかし、染料溶液107の光ルミネツセン スが、染料によって吸収されない波長で生じ、モジュレータを自由に通過するよ うな小さいストークス変化をもたしめることがより好ましい、好ましい態様では 、波長変化は、モジュレータを通じてイメージするものが、変化した波長の光ル ミネッセンヌ線によって実質上影響されるべきではない。
以下、実施例により、染料溶液107とモジュレータ101に関する上記説明を 更に明確にする。例えば、以下の実験が実施された。照射源113は波長エネル ギーのピークが約385nmの照射線111を有する水銀アークランプである。
他の波長も放出されるが、それは、Cromal in (登録商標)C4/C P/デユポン、ウィルセントン、DE)に光フオーム(Photoform)を 起こす主に365nmの波長である。この場合のモジュレータ101は、大きさ 6″×6′、厚み1/16’の2枚の石英ガラス板、照射プレート103及びイ メージプレート105から構成された。これらの2枚のプレートは、ガラヌシー ル用融剤(flux)109を使用して互いにシールされ、照射内表面103m とイメージ内表面105”の間に約1.5ミルの間隙が存在する。染料溶液10 7は、次のように混合された。
POPOP (P−ビス(2−(!5−フェニルオキサシリノリ)ベンセン)を 、メチレンクロライドに対してほぼ飽和になるまで加え、そして約1分間、超音 波を使用して混合した。次いで、その溶液にSQS IR染料を加えた。
SOSの製造法について開示する用材(米国特許4,283,475)及びグラ ベヌタイジン(米国特許4,508.811)の特許がある。最後にCyas  o rb−24(登録商標)(サイナミド、 Wayne、NJ) UV染料( 2゜2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン)が加えられた上記溶液 107は、モジュレータ101の2枚のプレート間の間隙に注入された。上記S QS及びCyasorb−24(登録商標)は、約2450nmから390nm 間で光学密度3.2をモジュレータが到達するまで染料溶液107に対して加え られねばならない、約400nmから870nmの間では、モジュレータ101 の光学密度は、0.7より小さい、そして、約700nmから830nmの間で は、モジュレータ101の光学密度は、3.5を越えた。
光学密度は、次のようにしてテストされた。まず、染料溶液107を有しないモ ジュレータ101を、Varian DM−S 100S UV可視スペクトロ 光メーター中に置き、ベースラインを走らせた。次いで、染料溶液107を有す るモジュレータ101を、上記スペクトロ光メーター中に置き、190nmから 900nmの波長での光学密度を得た。
POPOP (メタノール中)は、3θ5nmで約48.000という高いモル 吸光係数と、約418nmでピークの光ルミネツセンス放出とを有する。
ストークス損失又はシフトは、約2800c冒−1であり、光ルミネツセンス量 子収率は、約0.93である。Cyasorb (登録間W)は、光学密度を増 加させ、またUV領域でモジュレータを光化学的に安定化させるために主に加え られる。染料溶液107を有するモジュレータは、IR染料により主に与えられ る緑がかった褐色を有した。
集束熱ビーム115を発生させるのに使用されるレーザー117は、約780n mに波長の中心があるLiconix Dio1ite30mW(Liconi x。
5anta clara、 CA)ダイオードレーザ−であった。ビーム115 のスポットサイズは、約127nmであるが、実験中多少なりとも調整する必要 があった。
Cromalin(登録商標〕は、まず、Cromal in (登録商標)ラ ミネータ(デュポン、ウィルセントン、DE)を使用してラミネートし、それに より、正のCromal in (登録商標)ラミネーションを組立てマスター プルーフ(Master−proof 、デュポン、ウィルセントン、DE)ブ ルーフストックを得た。
マイラー(Mylar) C登録商標)被覆シートが、イメージングの間、残さ れ、Cromalin(登録商標)モノマーの光フオームを禁止する酸素を防い だ。Cromalin(登録間l1l)は、約3f35nmの波長にあてられた ときに光フオームを起こすが、3EIOnmを越える波長に対してはそれほど敏 感ではない。
染料溶液107を収容するモジュレータ101は、365nmのUvビークの照 射111を本質的にブロックした。POPOP及びCyasorb−24(登録 商標)染料は、このUV照射を吸収し、約418nmに中心をもつ波長の光ルミ ネツセンスを生じた。この光ルミネツセンスは、モジュレータによってごく部分 的にブロックされ、そのあるものは、イメージプレート105を通じて透過し、 Cromalin(登録間[)に照射された。上記光ルミネツセンスの波長も、 Cromalin(登録間ellE)C4/CPの光フオームにほとんど影響を 与えない。約999秒の照射の後、モジュレータ101によってマスクされたC romalin(登録間II)は、光フオームのあるサインを示した。光f11 13を使用してCromal in (登録商標)を光フオームするための通常 の照射は、約10秒間であり、1秒間の照射は、モジュレータ101を通じて9 99秒間照射する場合に達成されるよりも大きい光フオームを生じる。更に、照 射線111は、全ての可視の波長を有した。モジュレータ101が、これら全て の可視のエネルギーをブロックしたならば、熱くなってしまうかもしれない。し かし、モジュレータ101は、400nm〜670nmの波長領域では、幾分透 明であり、上記はとんどの可視光エネルギーは、染料溶液107に有害な熱の増 加をもたらさずにモジュレータ101を透過する。
次いで、レーザー117は、モジュレータ101中の染料溶液107に集束され た。集束熱ビーム115が染料溶液107を横切った領域では、ガスバブル11 θが生じ、イメージ線111′がモジュレータを通過し、そしてCromali n(登録商[)を光フオームした。集束熱ビーム111は、徐々にモジュレータ 101の種々の領域に移動し、Cromal in (登録商標)上に光フオー ムしたラインを生じる。その後に、Mylar(登録商II)被覆シートは、C r。
malin(登録商W)から除かれ、そして、マゼンタトナーをCromali n(登録商g)表面に散布してモジュレータ101の輪郭を示し、集束熱ビーム 113及びイメージ線111° を有する液/ガスモジュレータ101を通じて 点と線が描かれた。別のテストは、集束熱ビーム115の線波長がCromal in(登録商標)を光フオームしないことを示した。
溶液107における染料の溶解度は、重要な事項である。l!温又はその近辺で 染料が溶液中で安定な溶解度が与えられる場合、一般に染料は、バブル119が 以前存在した場所の温かい凝縮したガス中に容易に戻り拡散し、その場所は、以 前の光学的密度をとり戻す。
染料は、使用される種々の照射線にさらされたときに非可逆性光化学変化をほと んど生じないように選択される。例えば、Cyasorb−24(登録商標)の ような吸収性保護染料を使用した場合、溶液107内の吸収光安定剤としてUV 染料を添加し、SO9IR染料の光化学的分解を減少させる。かくすることによ りモジュレータ101中の染料溶液107のライフを延ばしかつ感度を安定化さ せる。
染料の別の考慮事項は、その固有の熱容量である。代表的には、溶液中の染料は 、染料溶液107の熱容量に大きな影響を与えない、しかし、例えばIndia  Ink(広範囲の照射1Ii111及び集束熱ビーム115のためのモジュレ ータ101の染料溶液107として好ましく、それは、一連の溶液中における微 細な分割したカーボンの分散液である)のような分散状態の染料は、大きな熱容 量を有する場合がある。通常、この高い熱容量は、染料溶液107中に気体バブ ル119を生じさせるために、はるかに大きな集束熱ビーム115の照射(ワッ ト/cm2)を必要とする。そして、分散液中の粒子によって吸収された熱は、 集束熱ビーム115がその領域を照射しなくなった場合に、気体バブル119の 凝縮を遅らせる。
染料溶液107の溶媒は、モジュレータ101の能力をブロックする波長に影響 を与える。なぜなら、種々の溶媒を使用したとき、染料の光ルミネツセンスによ る線の吸収及び放出が大きく変化するからである0例えば、染料BPSB (ビ ス(イソプロピルスチリル)ベンゼン(液/ガスモジュレータ101のUVプロ  ′ツク染料として使用される別の好ましい染料であり、0.94の量子収率と 385nmにて3θOOoを越えるモル消滅係数を有する)は、シクロヘキサン 溶媒中では、約357nmにピークの吸収を有し、かつ415nmにピークの放 出を有するが、ベンゼン溶媒中では、362nmにピークの吸収を有し、かつ4 20nmにピークの放出を有する。また、この波長の吸収と放出は、染料溶液1 07中の他の染料及び照射線111の波長によっても影響される。各々の染料溶 液107に対して、モジュレータ101は、その真のブロック特性を測定するた めにスペクトル光メーター中でテストされるべきである。モジュレータ101の 光ルミネツセンス特性は、光ルミネツセンスの評価のためにセットされたスペク トル光メーター中で調べられる。
高いモル消滅係数、高い光ルミネツセンス量子収率及び十分なストークスシフト を有し、種々の溶媒系と両立する多くの染料が存在する。この点では、蛍光体( phosphors)も有用であることがわかった。以下は、好ましい染料と溶 媒の組合わせの一部のリストであり、これらを吸収と放出の波長及び消滅係数と ともに示す。
光 溶媒 消滅 ピーク (nm) RAD 染料 係数 係 数 Eの鴎 (n m) 365 アクリジン(^cridins) エタノール 6.000 356  417365 880(2,5−ジヒ゛フエニリルーアキサソ゛−ル) へ゛ン セ°ン 33,000 340 408313 BBOへ゛ンセ°ン 54.0 00 317 379365 POPOP シクロヘキサジ 39.000 3 57 415365 POPOP へ゛ン七゛ン 45.000 361 41 7365 シ゛メチルPOPOP(1,4−ヒ゛スー2−4−メヂルー5−フェ ニルオキサソ゛リル)へ゛ン七゛ン) シクロヘキ雫ン 49,000 364  419436 A°貫ルン(Perylene) へ゛ンセ°ン 39,00 0 439 477365 シ゛フェニル スチルへン ベン七゛ン 35,0 00 341 408365 1.6−シ゛フェニル−へ材トリエン シクロヘ キサン 48.000 354 455365 8BOT(2,5−ヒ°ス ( 5−t−〕゛チんへ゛ンス゛オキサソ゛リル(2)) チオフェン シクロへ4 テン 56.000 372 427365 8BOT エタノール 50.0 00 373 435365 8BOT へ°ン七°ン 47,000 377  435313 PP0(2,5−シ゛フェニルーオキサソ゛−ル) シクロへ キチン 24.000 303 357313 PPOエタノール 19.00 0 303 362上記染料の優位性は、切換えUVイメージ線111゛用の液 /ガスモジュレータ101における動作に適切であるが、例えば、ペリレンのよ うな染料の使用は、可視イメージ線111′を許容する。また、上記染料は、主 に芳香族であるが、例えば、種々のクマリン、スチルベン、フルオレシン及びロ ーダミン染料などの他の有用な染料がある。
液/ガスモジュレータにおける有用な熱染料の例は、以下のものである。
例えば、スクアリリウム(Squary l ium)染料SO3の一つは、近 赤外で極めて高い吸光係数をもちながら可視光で低い吸収性をもつという有用な 性質を有する代表であり、それは、液/ガスモジュレータで極めて成功搗に使用 されており、好ましいものである。
O5 上記において、各R1,R2,R3及びR4は、炭素数1〜8の独立したアルキ ル基である0本発明のより好ましい悪様では、染料は、R1,R2,R3及びR 4が、t−ブチル基であるSO3である。SQSは、例えば、アルコール類。
ケトン類、7セトニトリル(acetonitirle)、ジクロロメタンなど の塩素化炭化水素類、トルエンなどの炭化水素類などの通常の非反応性有機溶媒 に容易に溶解する。その最大吸収814nm(ジクロロメタン中で測定〕は、容 易に入手できる遠赤外ダイオードレーザ−の放出波長(750−870nm)に 一致する。
また1例えば、以下のクロコニウム(Croconium)染料は、液/ガスモ ジュレータで有用であることが判明した。
また、アブ染料の一つである例えば、以下のAZ4及びA2Bは、メチレンクロ ライド中での良好な溶解性、それぞれピークの吸収が750nm (AZ4)及 び778nm (A2B)、及び吸光係数約83.000を有する。
R24 一方、アザメチレン(Azameth 1ne)染料のあるものも有用であるこ とが判明した0例えば、AM4は、メチレンクロライド中での有用な溶解性、吸 収ピーク770nm及び吸光係数31.200を有する。
また、AM7もメチレンクロライド中での良好な溶解性、吸収ピーク794nm 及び吸光係数39,800を有する。
また、例えば、サイアニン(Cyan 1nes、コダック、ロチェスター、N Y)も使用できる0例えば、3,3゛−ジエチルチアジカルボシアニンヨウ化物 (DTDC)は、ピーク吸収e53nm及びエタノール溶解性を有し、出力83 3nmをもつHeNeレーザによりスイッチ化される液/ガスモジュレータで有 用な熱染料であることが判明した。また、例えば、1.1’ 、3.3.3’  、3’ −へキサメチル−4,4’ 、5.5’−ジベンゾ−2,2゛−インド トリカルボシアニン バークロレートは、ピーク吸収782nm及び酸性エタノ ール中での溶解性を有し、約780nmで動作するダイオードレーザ−でスイッ チ化される場合に熱染料として有用であることが判明した。
また、例えば、ビリリウム(Pyri Iiums)染料は、約11080nで 動作するダイオードレーザ−又はYAGレーザーの場合有用であることが判明し た。かかる染料及びそれらの構造は、Evans等の米国特許4,948,77 6及び4゜948.777に見られる。例えば、以下のコダック染料26(コダ ック、ロチェスター、NY)は、ピーク吸収11080n及び1,2−ジクロロ エタンに溶解する。
また、例えば、種々の金属置換体を有する以下のフタロシアニン染料は、代表的 にはピリジン及びl−クロロナフタレンに溶解する。
また、例えば、Evans及びDe Boerの米国特許4,950.639及 び4.E150.640に開示されるシアニン及びメロシアニン染料は、熱染料 トランスファーシステムで使用されるが、液/ガスモジュレータで有用であるこ とが判明した。
更に別の例であり、De Boerの米国特許4,948.778及びChap man、De Boerの米国特許4,952.552に記載されるオキシイン ドリジン染料は、熱染料プロセヌで使用され、モジュレータ用の良好な染料であ る。
液/ガスモジュレータ101に対して、気体バブル119の生成/#縮の速度及 び集束熱ビーム115のスポット内に必要とされるエネルギーは、溶媒液/ガス 相の転換特性に高度に依存している。集束熱ビーム115の焦点が染料溶液1o 7と交わるとき、熱染料は、線を吸収して光エネルギーを熱に転換する。染料溶 液107に関係する熱力学I度−圧力関係に基づいて、溶媒は、気体又は液体の いずれかとして存在する。単純化した観点からは、染料溶11!107は、集束 熱ビーム115によって加熱された場合、染料溶液107の理論的円柱体積は、 セル内のノミナルな圧力でのその飽和液体温度をもたらす温度にまで加熱される ものと理解することが大切である。なお、上記理論的円柱体積は、焦点の直径1 /e”fと、モジュレータ101のプレートのうち照射内部表面103”とイメ ージ内部表面105”との間隙距離とによってほぼ定義される。体積からの熱的 損失がないとすると、染料溶液107の飽和液体への加熱は、染料溶液107の 熱容量、集束熱ビーム115の光から染料による加熱への転換吸収係数、及び集 束熱ビーム115における合計エネルギーについての主に関数である。しかし、 この飽和液体の円柱体積からバブル119を形成するには、気体の相当する体積 が生成されることのみが必要とされる。即ち、染料溶液107の全円柱体積を気 体にまで加熱することは必要でないし、また実際、そうすることは望ましくない 。
飽和溶液から気体のその体積に転換に必要なエネルギーの計算は、主に染料溶液 107の気化熱の関数である0例えば、染料の存在による損失や熱力学的変異が ないとした場合、2mWのレーザー117を使用したとき、直径0.41ミル、 高さ0.5ミルのメチレンクロライド気体の円柱体積を形成するには、約18゜ 5usecを必要とすることが計算される。
バブル形成速度についての上記推定は、単純化したものであって、実際は、レー ザー117からの集束熱ビーム115は、必ずそうとも言えないが、典型的には ガウスプロフィル(gaussian profile)である、このことは、 焦点の照射(irrad 1ance)は、その中心で最大であり、中心から遠 ざかるにつれてガウス方式で低下することを意味する。集束熱ビーム115の最 大照射は、焦点の中心であるため、最大の熱量がその中心に発生する。従って、 上記理論的円柱の中心、即ち軸がまず加熱されて気体バブル119に転換し、次 いで周囲の染料溶液107を円柱の半径方向の外側範囲に押し進める。染料溶液 107が、集束熱ビーム115の焦点から離れた所定の距離に達した場合、溶液 は多くのエネルギーを吸収せず、従って実質上加熱されない、気体は、溶解した 染料を含まないので、集束熱ビーム115のエネルギーに対して透明であり、そ れ以上膨張することはない。
要するに、バブル119は、理論的には、平衡した円柱体積まで成長し、そこで は、バブルが崩壊を始め、染料溶液107は集束熱ビーム115からエネルギー を吸収して気体を生成しかつ崩壊を妨げる。そして、バブル119が大きくなり 過ぎた場合、集束熱ビーム115からのエネルギーの吸収を少なくし、それによ り気体の凝縮とバブル119の崩壊をもたらす。
集束熱ビーム115は、バブル119を生成する駆動エネルギーを与える。しか し、バブル119を液体に戻す凝縮は、液/ガスモジュレータでは強力でない。
凝縮相への変化は、気化熱が周囲の染料溶液107や照射プレート103やイメ ージプレート105にの逸散することに依存する。この熱の逸散は緩慢である。
それは気体での熱移動も緩慢であり、かつ液/ガスモジュレータ101で使用さ れるプレート材料が典型的には良好な断熱材であるためである。
気体の緩慢な凝縮に対する最初の解決法は、セル即ちモジュレータで使用される 溶媒を沸点のより高いものに置換することである。例えば、沸点40”Cをもつ メチレンクロライドより沸点65℃をもつメタノールの使用はより速いバブル凝 縮を与える。それば、周囲の染料溶液107及びセル101に関して、より高い 温度での熱移動が速いためである。
図2は、図1で示される照射源113が照射レーザー214によフて置き変えら れた液/ガスモジュレータを示す、更に、集束熱ビーム215を与える熱ビーム レーザー217は、二色ミラー221によつて反射され、反射集束熱ビーム21 5″が照射レーザー214かも発散した集束照射ビーム212と実質上同一繰上 になるようにされる。二色ミラー221は、集束照射ビーム212を実質上反射 又は方向を変えずに透過するものである。!/ガスモジュレータ201を通過す るとき、集束照射ビーム212は、反射集束熱ビーム21i5“よりもより小さ な点に集束される。染料溶液207が存在する場合、集束照射ビーム212はブ ロックされる。染料溶液207と二つのビームの交点では、集束照射ビーム21 2が反射集束熱ビーム215”のほぼ中心を通過する。反射集束熱ビーム215 ”がオンされたときはいつも染料溶液207中に気体バブル219が生成される 。
バブル219が存在するとき、集束照射ビーム212は、イメージビーム212 ′としてモジュレータ201を透過し、反射集束ビーム215″は、透過熱ビー ム215゛ として透過する。液/ガスモジュレータ201は、2枚の透明なプ レートの間に構成される。一つのプレートは、照射プレート203と呼ばれ、他 のプレートは、イメージプレート205と呼ばれる。各プレートは、二つの主表 面を有する。照射プレート203には、照射外表面203゛と照射内表面203 ″がある。イメージプレート205には、イメージ外表面205′ とイメージ 内表面205”がある。照射内表面203”は、イメージ内表面205゛に面し 、これらの間には、染料溶液207がある。二つのプレートは、分離して保持さ れ、染料溶液207は、二つのプレートの間にシール209によって封入されて いる。
区2に示されるようにセットされたモジュレータ201、熱ビームレーザー21 7、二色ミラー221及び照射レーザー214を用いた一連のテストを行った。
このテストでは、モジュレータ201は、2枚の1/1θインチ厚の顕微鏡のス ライドの大きさのプレートが、約1ミルの間隔をおいて、ガラス融剤を使用して セルを形成するようにシールされた構成を有する。染料溶液207を充填するた め、小さいガラス管がセルに取り付けられた。染料溶液207がセル内に収容さ れた後、セルは、ドライアイス中に置かれ、上記ガラス管は加熱され、つまみ取 られ、かくしてシールされたモジュレータ201が形成された。染料溶液207 は、ある場合には、メチレンクロライド溶媒のSO3染料と飽和PP○染料であ った。照射レーザー214は、リコエックス(Liconiz、サニデール、C A)モデル4240Bであり、325nmの波長で6mwの出力を有するHeC dレーザーであった。熱ビームレーザー217は、約780nmで30mWの出 力を有するリコエックス ジオライトであった。二色ミラー221ば、SWP  (45’ ) 325T/780Rミラー(CVI La5erCorpora tion、アルバカ−キー、NM)であった。メチレンクロライド染料溶液20 7を有するモジュレータ201は、集束反射熱ビーム215”を使用することに より、イメージビーム212°を13hzだけ変調できた。同じ装置であるが、 染料溶液207中のメチレンクロライドをメタノールで置換したものをテストし た場合、光ダイオード及びオシロスコープの使用により変調速度は、約2000 hzであることが測定された。メタノール染料溶液207のモジュレータ201 にとって、2000hzは限界であるとは思われない。なぜなら、ベンチの装置 では配置やビームの焦点化に制限があったからである。
多種類の溶媒や溶媒混合物、ポリマー、オイル、水などの添加剤、沸騰/凝縮結 晶、界面活性剤などが、液/ガスモジュレータ中の液からガス及びガスから液へ の相変化を加減するために使用できる。
染料溶液中に溶解した空気が、凝縮しないバブルの存在の原因となりうる。また 、染料溶液中の酸素の存在も、染料の光ルミネツセンスの量子収率を減少させう る。このため、染料溶液をセルに充填した後、例えば液体CF4 (Freon (登録商m)14.沸点−128℃)中でセル及び染料溶液を凍結し、次いでセ ルを真空に引くことにより凍結しないガスを除くことが好ましい。染料溶液の凍 結−真空及び解凍の数回のサイクルにより、大量のガスが除去される。最後に、 凍結サイクルの間に、セルへの染料溶液供給管は、つまみとられる。石英ガラス は、モジュレータセルの装置にとって良好な材料である。なぜなら、それは、ガ ラス融剤でシールでき、また、概して、一部分で凍結をしながら、その近くの部 分の管を炎で焼き切るという極端な温度に耐え、更に染料溶液に対して実質上不 活性でありかつ不透過性であるからである。
図3は、照射源313が、照射レーザーか、又は実質上収束非干渉性光源のいず れかである液/ガスモジュレータを示す。集束熱ビーム315を有するレーザー 317は、二色ミラー321を反射し、反射した集束熱ビーム315”は、照射 源313から発散される集束照射ビーム311と同一線上になるようにされる。
二色ミラー321は、集束照射ビーム311を実質上反射や方向を変化させずに 透過するようにする。反射集束熱ビーム315”と集束照射ビーム311は、と もにミラー323(又はミラーセット、単純化のために2示されない)を反射す る。このミラーは、軸325(又は複数の軸)を中心に回転し、モジュレータ3 01の表面上にビームを走査させる。集束照射ビーム311は、ミラー323を 反射しながら走査照射ビーム311”となり、また、反射集束熱ビーム315” は、ミラー323を反射しながら走査集束熱ビーム315”となる。液/ガスモ ジュレータ301と交ったとき、走査照射ビーム311”は、この例では、走査 集束熱ビーム315“よりも大きな点に集束する。染料溶液307と二つのビー ムとの交点では、走査集束熱ビーム315”’が、走査照射ビーム311Hのほ ぼ中心を通過する。気体バブル319は、走査集束熱ビーム315″がオンされ たときはいつでも染料溶液307中に生成される。バブル318が存在する場合 、走査照射ビーム311″のほぼ中心部分が、イメージビーム311′としてモ ジュレータ301を透過し、また走査集束熱ビーム315”°は、透過熱ビーム 315′として透過する。バブル319が存在しない場合、走査照射ビーム31 1”はブロックされるため、イメージビーム311′は消滅する。液/ガスモジ ュレータ301は、2枚の透明プレートから構成される。一つのプレートは、照 射プレート303と呼ばれ、他のプレートは、イメージプレート305と呼ばれ る。
各プレートは、二つの主表面を有する。照射プレート303には、照射外表面3 03’ と照射内表面303’がある。イメージプレート305には、イメージ 外表面305′とイメージ内表面305”がある、照射内表面303”は、イメ ージ内表面305“に面し、両表面の間には染料溶液307がある。二つのプレ ートは、分離して保持され、または染料溶液307は、二つのプレートの間にシ ール308に封入される。
図3に概略された装置を使用してテストを行った。そこでの照射源313は、P hotochemcal Re5earch ASsociates(ロンドン 、カナダ)のランプハウジングモデルAL4215であり、75ワツトの高圧水 銀アークであった。集束照射ビーム311は、上記ランプハウジングを使用し、 走査照射ビーム311”がモジュレータに交じったときの置径約1インチになる ように集束させた。このテストでは、Corning7−51 (コーニング、 NY)フィルタが使用され、約385nmに中心があるUV線を除きほとんどの 光を除去するようにした。このフィルタは、照射ビーム中に配置され、モジュレ ータ301の表面での走置照射ビーム311”内の余分の光エネルギーを減じか つエネルギーのUV部分の集束を促進させた。しかし、このフィルタは、必ずし も必要ない、二色ミラー321は、次の利点を有する。即ち、それが、照射ビー ム311の通路に配置された場合、ミラーは、照射ビーム線311のUVと可視 部を実質上透過させる一方、モジュレータ301の染料溶液307のSQS染料 により実質上吸収される遠赤外線を反射する。従うて、二色ミラーは、染料溶液 307中に大きな気体バブル319が生成するのを防止する。この例では、83 0nmで40mWの出力をもつLiconix Dio1ite800レーザー 317から発散される集束熱ビーム315は、二色ミラー321を実質上反射し 、集束照射ビーム311と実質上同一線上になる。両者のビームは、その後に、 二つの走査ミラー323で反射する。この走査ミラーは、General Se anning Inc、(ウォータタウン、MA)で製造され、XY3037Y 走査ヘッドに取り付けられ、二つのDX2002ffi動装置によって駆動され た。ベクトルイメージ情報がHPコンピュータで生じたファイルから得られた。
モジュレータ301セルは、2枚のe’ xe’の厚み1/1θ′の石英ガラス プレートを約1ミルの間隔で分離しかつガラス融剤でシールすることにより構成 した。染料溶液307は、メチレンクロライド中に飽和した約10%のBro。
kfield 粘度凛準液 L−3,POPOP染料及びモジュレータ301を 通じて最終的光学g度OD(光学さ度)が約200〜400nmで>3.5.約 400−700nmでODが〈0.8、約700−850nmでODが4を生じ るように添加されたSQS及びCyasorb24染料からなる。Cromal in(登録商標)を使用するこの装置では限界がある。ビームがモジュレータ3 01の部分を走査しなくなったときでも、バブル319がベクトルの端部に生成 し、とどまる性質がある。これは、ミラーがその回転を始めかつ停止するときベ クトルの始めと終わりに生じる余分の露光を、一般走査(General Sc anning)ベクトルスキャナが補償しないためである。
走査集束熱ビーム315”の焦点の慄さは、重要な因子である。代表的には、染 料溶液の交点での走査集束熱ビームのスポットの大きさは、50〜60μmのオ ーダーにある。走査ミラーがモジュレータの近くに配置された場合、走査の半径 、即ち走査ミラーと染料溶液の交点との距離がモジュレータの異なった領域を走 査するにつれて大きく変化する。これは、モジュレータの種々の領域での走査集 束熱ビームのスポットサイズの大ぎな変化ももたらす。スポットサイズの増加は 、走査集束熱ビームのエネルギーによってより多くの染料溶液を加熱しなければ ならないことを意味する。最適な操作にとって効果的には、走査集束熱ビームの スポットサイズは、127μm(1/e2直径)より小さく、好ましくは60μ m(1/e2直径〕より小さい。また、染料溶液を走査する場合、走査半径は、 好ましくは、±ルイライ(Reyleigh)焦点長さより大きく変化すべきで ない。
モジュレータを走査する場合、走査集束熱ビームのスポットサイズを制御する多 くの手段がある。一般走査は、ビーム焦点を走査半径の関数として変化させる線 状変換器を提供する。F/セータ(theta)走査レンズは、走査集束熱ビー ムのスポットサイズを走査角度の関数として修正するのに使用できる。全体のモ ジュレータは、必ずしも平な形である必要はない、事実、液/ガスモジュレータ は、使用者にとって都合のよい形又は大きさにできる0例えば、モジュレータや 染料溶液の間隙は、実質上部分的な球の形にでき、走査集束熱ビームが、常に染 料溶液に焦点をあわすようにされる。また、照射プレートは、走査集束熱ビーム を走査半径の関数として屈折させるレンズの形にでき、その領域はモジュレータ 上を走査させる。事実、モジュレータは、温度計の形にでき、バブルは、線状セ ル内のラインに含まれる染料溶液中で生成しかつ凝縮する。
同じ構造の液/ガスモジュレータを使用して同様のテストを行った。但し、この 場合染料溶液は、SQS、Cyasorb−24及びPOPOP染料を有し、メ チレンクロライドとメタノールがそれぞれ75−25 (容量)の混合物から構 成され、上記した一番目のテストで使用したのに匹敵する光学密度を有するモジ ュレータ301を形成した。しかし、この場合、照射fi313は、Coher ent(バロアウル、CA)のアルゴンイオンレーザ−、モデル30Bであり、 それは、波長333.8nm〜383.8nmにまたがる出力を有するUVで動 作する。走査照射ビーム311”のスポットサイズは、直径が約1/8″であり 、モジュレータ301での出力は、約6mWであった。集束熱ビーム315を発 生する熱ビームレーザー317は、5anyo (サンヨー、日本)の100m wのダイオードレーザ−であり、約800nmで動作する。Melles Gr i。
t(アービン、CA)のダイオードレーザ−駆動器、モデルO8DLDOOIが 、熱ビームレーザー317の“A”の電気配置に接続されたMelles Gr iotのダイオード ユニバーサルケーブルとともに使用された。Greyha wk Systems (ミルビタス、CA)の“5quat−Plot”走査 器をX−Y走査ミラー323とともに使用してビームを走査し、これをDel1 3y5temsコンピュータに接続してHPGLベクトルデータな得た。Gre yhawkのベクトル走査システムは、その走査ミラー323の軸325にエン コーダを使用して電気パルス信号を生じる。かくすることにより、軸325の回 転量が示され、従ってミラー323を反射したビームによってイメージ平面を動 いた距離が示される。これらの信号は、イメージ空間の存在及び所望の露光量を 考慮してデジタル的に処理して5vのTTLパルスを生じる。これらのノくルス は、Melles Griotレーザー駆動器をオンにし、従って熱ビームレー ザー317を、イメージ平面を走査する実質上同一線状ビームとして変調するの に使用された。実際上、熱ビーム317は、デジタル的に変調され、ビームがイ メージ平面で動いた分離した距離に対応させた。レーザーの変調は、レーザーが パルスあたり特定の時間フレームだけオンすることを要求するので、その結果、 走査集束熱ビーム315”′によって動かされたイメージ平面の距離あたりの実 質上より均一な露光をもたらした。この場合のイメージ平面は、染料溶液307 である。Greyhawk走査器及び熱ビームレーザー317の変調能力によっ て、走査集束熱ビーム315”′のスポットがバブル319を生成させるのに消 賛する時間は、容易に制御される。かくして、生成されるバブル319の大きさ と、モジュレータ301の与えられた領域を通過するイメージビーム311′の エネルギー量とを潜在的により制御することになる。
上記テストでは、ソリッドイメージ(Solid Imaging)に有用な光 フオーム組成物を露光し、光フオーム層が形成された。デュポンの米国特許出願 No、07341.347 (1989年4月21日付)の”Core−3he ll Polymerを使用するソリッドイメージ方法”の実施例2に詳記され る光フオーム組成を使用してサンプルを製造した。
例えば、モジュレータ301のイメージ外表面305゛をテフロンAP(登録商 標)(デュポン、ウィルミントン、DE)のような離型コートで被覆したソリッ ドイメージシステムを製造できる。テフロンAP(登録商標)の被覆は、以下の 方法を使用して石英プレートに施される。まず、被覆されるガラス表面を清浄に する。メチレンクロライドと10%のElvacite 2044(デュポン。
ウィルミントン、DE)との混合物を約250Orpmで約1秒間被覆被覆し、 次いで乾燥する。その後に、テフロンAP(登録商標)8%FPX/FC−40 を11000rpで約1秒間被覆回転し、次いで、180’Cで約15分間オー ブン乾燥する。テフロンAF(登録商標)に対して湿った結合表面を与えるため にElvacite (登録商標)以外のポリマーも使用できる9次いで、モジ ュレータ301のテフロンAP(登録商el+)を被覆した側にバットを形成し るフレーム中にモジュレータを置く、このソリッドイメージシステムの製造では 、モジュレータ301は、テフロンAF(登録商標)被覆の側に配向され、実質 上同一線上にある走査照明ビーム311”と走査集束熱ビーム315“の走査が 以下のように行われる。モジュレータ301の上部のバットフレーム中に光フオ ーム組成物を注ぎ、そして、児玉(公開特許No、昭58 (1981)−14 4478゜1981年11月10日公開)によって教示され、公開特許の図6に 示されたのと類似した方法により、本願の図3に示されるシステムでモジュレー タ301を通じて得られる露光と結合してプラットフォームを動かし、層を形成 する三次元の物体を製作できる。
上記ソリッドイメージシステムに対しては、他のタイプの照射システムが使用で きる。照射は、図1に示される範囲照射、図3に示される集束熱ビーム中心とす る領域照射、図3に示される緊ざに集束された照射、又は図5で後述する線状領 域照射であってもよい。本技術分野では、多くの橿原の非干渉性の光照M源がよ く知られており、例えば、水銀アーク、高圧ナトリウム、キセノン等であり、そ れらは、所定範囲の出力波長と各所定波長での強度を有する。はとんどの照射源 は、UV、可視光及びIRを通じた多(の領域での出方波長を有する。しかし例 えば、約325nmの出力をもっHeCd UVレーザーのような照明レーザー は、極めて近似した特定の波長の出力を有する。
また、他のタイプの光フオーム組成物の被覆方法も使用できる。例えば、モジュ レータは、上記組成物、照射及び上部で行われるレーザー走査と接触せずに置か れ、そして、E次元の物体の製造に必要とされる種々の層を提供するために、ナ イフ被覆方法が利用される。また、例えば、1枚のフィルムが、モジュレータの 下で伸長され、フィルムの反対側面は上記組成物と接触している。一旦、露光が 行われると、モジュレータは移動し、フィルムは、光フオームの表面からはがさ れる。その後に、モジュレータは、以前に生成した層の上方に戻り、フィルムと 以前の暦との間に光フオーム組成物の新たな層が形成され、新しい露光が行ゎ液 /ガスモジュレータは、大きくても、小さくてもよい。例えば、光ファイバー4 25の端部に接続されたモジュレータ401を示す。図4は、照射プレート40 3とイメージプレート405が互いに保持され、シール409によってシールさ れて製造されたモジュレータを示す。モジュレータ401は、透明ガラス又はポ リマーシェル内に染料溶液407をカプセル化することによっても製造される。
この場合、光ファイバー425は、反射熱ビーム415”が第一の屈折率を有す るそのコアn1に入るようにされる。反射熱ビーム415”がコアn1を通過し ながら、第2の屈折率を有するクラッドn2を反射する。このように導がれて最 終的に反射熱ビーム415”は、モジュレータ401に入り、染料溶液4゜7中 にバブル419を生成させ、そして、透過熱ビーム415′としてモジュレータ を通過する。熱ビームレーザー417は、熱ビーム415を放射し、熱ビームは 二色ミラーを反射し、反射熱ビーム415”となる。照射源413は、照射5ζ  !411を放射し、照射線は、二色ミラー421を実質上透過し、光ファイバ ー425のコアn1に入り、クラッドn2を反射し、最終的にモジュレータ40 1リ を照射する。反射熱ビーム415“が存在しない場合、バブル419は存 在せず、照射1i411は、染料溶液407によって実質上ブロックされる。し かし、反射r 熱ビーム415”が存在し、バブル419が存在する場合には、 照射線411は、イメージ!411’ としてモジュレータ401を透過する。
照射線411と熱ビーム415が、両方とも、受容角度を通じて光ファイバー4 25に導入されるならば、二色ミラーは必要としない。
【 図5は、モジュレータ501それ自体の構成要素が図1〜図3に記載したのと等 しい液体/気体の好ましい実施態様を示す#照射プレート503とイメージプレ ー)505は、染料溶液507を収容する間隙を形成するように、照射内表面【  503“とイメージ内表面505”が互いに面している。照射プレート503 は、照射外表面503′を有し、また、イメージプレート505は、イメージ外 表面505°を有する。両方のプレートは、離して保持され、その間隙は、シー ル509により封入される。、図5で、照射源513は、線状管露光ランプであ る。例えば、イメージa513は、比較的高電圧UV放出出力をもつIODバブ ルを使用するFusion Systems :l−ポレーション〔ロックビル 、MD)F450ランプシステムである。照射源513とモジュレータ501と の間には、必要に応じて、好ましくない線510の波長を反射する二色ミラー5 21がある。
照射源513の回りには、反射器529があり、照射線511をモジュレータ5 o1へ反射しかつ直線状に集束させる。一連のレーザー517は、軸533に支 持されかつモータエンコーダによって回転される回転走査レンズ527内に配置 される0回転走査レンズ527が回転するにつれて、集束熱ビーム515は、軸 533と平行な線に沿って前後に走査され、走査集束熱ビーム515″になる。
例として、図5では、各々集束熱ビーム515を有する六つのレーザー517が 示される。各レーザー517が、1インチ間隔に置かれ、また、焦点スポットで の各集束熱ビーム515が、回転走査レンズ527の各回転の軸533に平行し て前後に1インチの距離だけ移動するように回転走査レンズが配置される。この 配置では、二つの端部の熱ビームレーザー517を除ぎ、一つの走査集束熱ビー ム515”の焦点スポットの移動の始めは、隣りの走査集束熱ビーム!515” の焦点スポットの移動の始めとなる。かくして、軸533に平行な6インチの長 さの線の部分が熱ビームレーザー517の一つによって走査される。これは、上 記した必要とされる焦点深さ以内に小さな焦点スポットサイズを得るという困難 さを解決しながら熱ビームレーザー517のコストを最小にする。矢印で示され るように、走査ヘッド移動手段535は、モジュレータ501の表面を横切りか つ平行に走査ヘッド装置(照射a513、反射器529、二色ミラー521、回 転走査レンズ527、レーザー517、軸533及びモータ531からなる〕を 移動させる。走査ヘッド移動装置535を、回転走査レンズ527のモータエン コーダ531とレーザー517の変調と結合することにより、少なくとも一つの 走される。走lt熱ビーム515″と交差した染料溶液507内の各点では、バ ブル519が生成し、伝達された熱ビーム515′がモジュレータ501を通過 させる。通常、染料溶液507によってブロックされた照射線511の一部は、 イメージ線511′としてバブル51θを通過する。光学クサビ(wedges )の往復シリーズは、図示される回転走査レンズ527によって置き変えられる 。
本発明の実施に使用されるモジュレータのプレート材料は、典型的には石英ガラ スのプレートである。これは、幾つかの理由で好ましい、第一の理由は、石英ガ ラスは、光学的に透明であり、UV操作に対して透明である。他の理由は、石英 ガラスは、クラックを生ぜずに顕著な温度の差異に耐え、従ってガラス融剤でシ ールでき、凍結脱ガスができ、かつ破損せずに熱点源に耐えられる。他の理由は 、石英ガラスは、溶媒に対して低い浸透性を有し、また染料溶液で使用される材 料に対して化学的に不活性である。他の理由は、石英プレートの自然的平坦さに ある。
プレート間をグルー(Glue)シールした場合−次的モジュレータセルが得ら れる。しかし、例えばエポキシによるグルーシールは好ましくない。なぜなら、 硬化する間及びエポキシが溶媒吸収により膨潤するとき、エポキシが石英プレー トを破損する傾向がある。モジュレータの間隙【よ、通常、1ミル厚の詰め木( Shi+o)を使用することにより得られる。端部なガラス融剤でシールしなが ら、セルの間隙を形成する別の方法は、間隙を形成する2枚のプレートの間に、 石英ガラスよりも融点の高い粉砕した酸化マグネシウムを配置することである。
通常、シール後のプレート内の応力を除くためにセルをオープンに入れる。WI 温溶液、酸化マグネシウムを溶解するので、染料を充填するためのセルが製造さ れる。テストセルば、染料溶液をセルに充填しかつ取り出すために融剤で取り付 tすられな二つのボール及びソケット継ぎ手を有する。
できる。しかし、他の波長の熱ビームダイオードレーザ−も使用でき、また、多 である。集束熱ビームは、デジタル方式又はアナログ方式のいずれかで強度が変 調できる。集束熱ビームのアナログ方式の強度変調は、バブルサイズの制御にお いて利点を有し、またイメージ線の空間的広がりある変調を与える。
要約書 セル内に収容された通常、不透明な染料溶液中でのバブルの生成を含む光を変調 するための装置及び方法、レーザービームを染料溶液の領域に集束させ、該溶液 中の溶媒を気化させることによって染料溶液中にj<プルが生成される。バブル が生成されるとき、変Il装置は、バブルのjJi域にて実買上透明になる。集 束レーザービームが、オフになったときバブル1よlli’lL、変調装置は凝 縮したバブルの領域で再び不透明になる。
国際調査報告 orT/、lp 91101457

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.以下のステップからなることを特徴とするイメージ線を変調する方法:(a )セル内に染料溶液を収容する; (b)上記セルと染料溶液とを、所定の波長を有する照射線で照射し、上記染料 溶液は、上記照射線の所定波長を実質上ブロックする;(c)上記染料溶液の一 領域を熱ビームによって横切らせ、上記領域内にバブルを生成させ、上記波長の 照射線の少なくとも一部を上記バブルとセルを通じて透過させることにより上記 イメージ線をオンにせしめる。
  2. 2.更に以下のステップを有する請求項1に記載したイメージ線を変調する方法 :(d)上記染料溶液の領域から上記熱ビームを除去する;(e)上記染料溶液 の領域内の上記バブルを凝縮させて上記波長の照射線を実質上ブロックしかつ上 記イメージ線をオフにする。
  3. 3.上記照射線が、非干渉性光源から発生する請求項1又は2に記載したイメー ジ線を変調する方法。
  4. 4.上記熱ビームが、ダイオードレーザーから発生する請求項1又は2に記載し たイメージ線を変調する方法。
  5. 5.上記照射線と熱ビームが、実質上同一線上にある請求項1又は2に記載した イメージ線を変調する方法。
  6. 6.上記染料溶液が、光ルミネッセンス機構により上記波長の照射線を実質上ブ ロックする請求項1又は2に記載したイメージ線を変調する方法。
  7. 7.上記照射及び熱ビームが、光ファイバーを通じてモジュレータに入る請求項 2に記載したイメージ線を変調する方法。
  8. 8.上記照射線が、1以上の波長を有し、かつ上記染料溶液が、少なくとも1つ 以上の上記波長を実質上ブロックする請求項3に記載したイメージ線を変調する 方法。
  9. 9.上記実質上同一線上の照射線と熱ビームが、少なくとも一つの走査ミラーに よって反射される請求項5に記載したイメージ線を変調する方法。
  10. 10.上記染料溶液が、上記照射線の波長を染料溶液が実質上ブロックできない もっと長い波長に変化させる請求項6に記載したイメージ線を変調する方法。
  11. 11.付加的な熱ビームが使用され、該熱ビームは回転する走査レンズによって 走査され、上記染料溶液の異なる領域にそれぞれバブルを生成され、そこでは上 記照射源が線状である請求項8に記載したイメージ線を変調する方法。
  12. 12.以下の手段からなることを特徴とするイメージ線を変調する装置:(a) 間隙を有するセル; (b)上記セルのギャップ内に収容された染料溶液;(c)一つの波長を有する 照射線によって上記セルと染料溶液を照射するための照射源、上記染料は上記波 長の照射線をブロックするようにされている;(d)熱ビームを有するレーザー 、該熱ビームは、上記染料溶液の一領域を横切るようにされかつ上記染料溶液の 一領域を気化するようにされ、それにより上記領域をして上記照射線の少なくと も一部をブロックさせ、かつ上記照射線の少なくとも一部が上記セルからイメー ジ線として通過させる。
  13. 13.更に以下の手段を有する請求項12に記載したイメージ線を変調する装置 :(e)上記熱ビームと上記照射線を実質上同一線上にあるようにせしめるため の二色ミラー; (f)上記実質的同一線上にある熱ビームと照射線を走査するための走査ミラー 。
  14. 14.更に以下の手段を有する請求項12に記載したイメージ線を変調する装置 :(e)上記熱ビームと上記照射線を染料溶液に誘導する光ファイバー。
  15. 15.更に以下の手段を有する請求項12に記載したイメージ線を変調する装置 :(e)熱ビームを発生する少なくとも一つのレーザー;(f)上記熱ビームを 上記染料溶液の異なる領域に走査するための回転走査レンズ。
  16. 16.上記染料溶液が、ブロック染料(P−ビス{2−(5−フェニルオキサゾ リル)}ベンゼン),メチレンクロライド及び以下の構造を有する熱染料からな る請求項12に記載したイメージ線を変調する装置:▲数式、化学式、表等があ ります▼ 上記構造式において、R1,R2,R3及びR4は、炭素数1〜8の独立したア ルキル基である。
  17. 17.R1,R2,R3及びR4が、ともにt−ブチル基である請求項16に記 載したイメージ線を変調する装置。
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