JPH0548010A - Input circuit - Google Patents

Input circuit

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JPH0548010A
JPH0548010A JP3206721A JP20672191A JPH0548010A JP H0548010 A JPH0548010 A JP H0548010A JP 3206721 A JP3206721 A JP 3206721A JP 20672191 A JP20672191 A JP 20672191A JP H0548010 A JPH0548010 A JP H0548010A
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JP
Japan
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pull
resistor
resistance
diffusion layer
impurity diffusion
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JP3206721A
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Japanese (ja)
Inventor
Tadao Kadowaki
忠雄 門脇
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To effectively propagate an input level to gate means of a semiconductor integrated circuit by disposing a pull-up resistor or a pull-down resistor between an external input terminal and a static eliminator circuit. CONSTITUTION:A pull-up resistor 8 is disposed between an external input terminal 1 and a static eliminator circuit. If the terminal 1 is opened, an input level of an inverter 7 is fed from a positive electrode power source VDD through resistors 8, 4, 5 at a high level, and hence the inverter 7 can output a low level. On the other hand, when the low level is applied to the terminal 1, the input level of the inverter 7 is applied through the resistors 4, 5 at the low level of the terminal 1, and hence the inverter 7 can output a high level. Thus, the input level can be effectively propagated to gate means of a semiconductor integrated circuit.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プル・アップ抵抗およ
びプル・ダウン抵抗に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to pull-up and pull-down resistors.

【0002】[0002]

【従来の技術】プル・アップ抵抗を例にとり、従来より
多用されてきた従来技術を図4で説明する。VDDは正
極電源、VSSは負極電源を示す。1は外部より信号が
入力される外部入力端子。2、3、4、5は外部入力端
子1に静電気が印加された時、半導体集積回路の破壊を
防止する為の静電気保護回路を構成している。2は外部
端子1に正の電荷の静電気が印加した場合、前記静電気
を正極電源VDDへ吸収させる為のクランプ・ダイオー
ド、3は外部端子1に負の電荷の静電気が印加した場
合、前記静電気を負極電源VSSへ吸収させる為のクラ
ンプ・ダイオード、4は外部端子1に印加した静電気の
エネルギーを減衰させる為の抵抗、5は静電気が半導体
集積回路内部のトランジスタなどの素子まで流入するの
を防ぐ抵抗である。6はプル・アップ抵抗であり、この
例ではP型MOSトランジスタを用いている。7は相補
型MOSインバータであり、外部入力端子1に入力され
る信号により制御されるゲート手段を示す。
2. Description of the Related Art Taking a pull-up resistor as an example, a conventional technique which has been frequently used from now on will be described with reference to FIG. VDD indicates a positive power source and VSS indicates a negative power source. 1 is an external input terminal to which a signal is input from the outside. Reference numerals 2, 3, 4, and 5 constitute an electrostatic protection circuit for preventing damage to the semiconductor integrated circuit when static electricity is applied to the external input terminal 1. Reference numeral 2 is a clamp diode for absorbing the static electricity to the positive power source VDD when the static electricity having the positive charge is applied to the external terminal 1, and 3 is the static electricity when the static electricity having the negative charge is applied to the external terminal 1. A clamp diode for absorbing the negative power supply VSS, 4 is a resistor for attenuating the energy of static electricity applied to the external terminal 1, and 5 is a resistor for preventing static electricity from flowing into elements such as transistors inside the semiconductor integrated circuit. Is. Reference numeral 6 denotes a pull-up resistor, which is a P-type MOS transistor in this example. Reference numeral 7 denotes a complementary MOS inverter, which indicates a gate means controlled by a signal input to the external input terminal 1.

【0003】通常プル・アップ抵抗値は数十KΩから数
百KΩ程度の比較的高抵抗である。従って、素子のサイ
ズを小さくして高抵抗を得る為にプル・アップ抵抗には
MOSトランジスタが多く用いられている。しかしなが
らMOSトランジスタに直接静電気が加わると前記MO
Sトランジスタのゲート膜破壊等が発生する危険性があ
る。上述した理由から、プル・アップ抵抗6は外部入力
端子1から、クランプ・ダイオード2、3と抵抗4、5
から構成される静電気保護回路を経た位置に配置され、
かつMOSトランジスタで作られていた。
Usually, the pull-up resistance value is a relatively high resistance of several tens KΩ to several hundreds KΩ. Therefore, in order to reduce the size of the element and obtain high resistance, MOS transistors are often used as pull-up resistors. However, when static electricity is directly applied to the MOS transistor, the MO
There is a risk that the gate film of the S transistor will be destroyed. For the reason described above, the pull-up resistor 6 is connected from the external input terminal 1 to the clamp diodes 2 and 3 and the resistors 4 and 5.
It is placed in a position that goes through an electrostatic protection circuit composed of
And it was made of MOS transistors.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述の従
来技術の場合には以下に示す課題があった。図4におい
てプル・アップ抵抗6はソースとサブ・ストレイトを正
極電源VDD、ゲートを負極電源VSSに接続したMO
Sトランジスタであるので電源電圧の変化によって抵抗
値が変化する。近年カメラなどの携帯機器は、リチウム
電池を2個直列にして電源としているタイプが増えてき
ている。この場合機器の電源電圧は2Vから7Vまでの
広範囲に及ぶ。周知の様にMOSトランジスタの抵抗
は、ほぼ電源電圧の二乗に反比例するから、プル・アッ
プ抵抗6の抵抗値の最小値と最大値を比較すれば10倍
から20倍の違いが生じてしまう。プル・アップ抵抗6
の抵抗値が大きいと外部入力端子1へのノイズに対して
誤動作し易くなる。反対にプル・アップ抵抗6の抵抗が
値小さいと、外部入力端子1にロウ・レベル(負極電源
VSSレベル)を入力した場合インバータ7がロウ・レ
ベル入力を検出できなくなってしまう。外部入力端子1
にロウ・レベルを入力した場合のインバータ7の入力レ
ベルは、プル・アップ抵抗6と抵抗4+抵抗5の抵抗分
圧によって与えられる。この事を示したものが図5であ
る。図5において、同じ構成要素のものには図4と同じ
番号を付けてある。またP型MOSトランジスタ6は分
かりやすくする為抵抗素子に置き換えてある。インバー
タ7の入力レベルは図5の様に与えられるから抵抗6が
小さくなりすぎると、抵抗6<抵抗4+抵抗5となり、
外部入力端子1にロウ・レベル(負極電源電圧VSSの
レベル)を入力してもインバータ7はロウ・レベルを検
出できず誤動作してしまうのである。
However, the above-mentioned conventional techniques have the following problems. In FIG. 4, the pull-up resistor 6 is an MO in which the source and the sub-straight are connected to the positive power supply VDD and the gate is connected to the negative power supply VSS.
Since it is an S-transistor, its resistance value changes with changes in the power supply voltage. 2. Description of the Related Art In recent years, portable devices such as cameras have been increasing in type in which two lithium batteries are connected in series as a power source. In this case, the power supply voltage of the device covers a wide range from 2V to 7V. As is well known, the resistance of the MOS transistor is almost inversely proportional to the square of the power supply voltage. Therefore, if the minimum value and the maximum value of the pull-up resistor 6 are compared, a difference of 10 to 20 times occurs. Pull-up resistor 6
If the resistance value of 1 is large, a malfunction tends to occur due to noise to the external input terminal 1. On the contrary, if the resistance of the pull-up resistor 6 is small, the inverter 7 cannot detect the low level input when the low level (negative power supply VSS level) is input to the external input terminal 1. External input terminal 1
The input level of the inverter 7 when the low level is input to is given by the resistance voltage division of the pull-up resistor 6 and the resistor 4 + the resistor 5. This is shown in FIG. In FIG. 5, the same components as those in FIG. 4 are given the same numbers. The P-type MOS transistor 6 is replaced with a resistance element for the sake of clarity. Since the input level of the inverter 7 is given as shown in FIG. 5, when the resistance 6 becomes too small, the resistance becomes 6 <resistance 4 + resistance 5 and
Even if a low level (level of the negative power supply voltage VSS) is input to the external input terminal 1, the inverter 7 cannot detect the low level and malfunctions.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、本発明は外部入力端子と、プル・アップ抵抗も
しくはプル・ダウン抵抗と、静電気保護回路より構成さ
れる半導体集積回路の入力回路において、前記プル・ア
ップ抵抗もしくはプル・ダウン抵抗を、前記外部入力端
子と前記静電気保護回路の間に配置した事を特徴とす
る。
In order to solve the above problems, the present invention provides an input circuit of a semiconductor integrated circuit comprising an external input terminal, a pull-up resistor or a pull-down resistor, and an electrostatic protection circuit. In the above, the pull-up resistor or the pull-down resistor is arranged between the external input terminal and the electrostatic protection circuit.

【0006】[0006]

【作用】本発明によれば、入力レベルはプル・アップ抵
抗もしくはプル・ダウン抵抗と静電気保護回路内の抵抗
と抵抗分割されないので、入力レベルを確実に半導体集
積回路内のゲート手段へ伝播できる。
According to the present invention, since the input level is not resistance-divided with the pull-up resistor or pull-down resistor and the resistance in the electrostatic protection circuit, the input level can be reliably transmitted to the gate means in the semiconductor integrated circuit.

【0007】[0007]

【実施例】本発明の一実施例の回路図を図1に示す。図
1においては図4と同じ構成要素には、同じ番号を付け
てある。VDDは正極電源、VSSは負極電源である。
1は外部入力端子、2、3、4、5は静電気保護回路を
構成しておりその働きは従来の技術の項で説明したとう
りである。7は相補型MOSインバータで外部入力端子
1の入力される信号により制御されるゲート手段であ
る。8はプル・アップ抵抗である。プル・アップ抵抗8
は、外部入力端子1と2、3、4、5の静電気保護回路
との間に配置されている。次に動作について説明する。
外部入力端子1をオープンとすれば、インバータ7の入
力レベルは正極電源VDDから抵抗8、抵抗4、抵抗5
を経てハイ・レベルが与えられるのでインバータ7はロ
ウ・レベルを出力できる。(抵抗8+抵抗4+抵抗5の
インピーダンス≪インバータ7の入力インピーダンス)
一方、外部入力端子1にロウ・レベルを与えると、イン
バータ7の入力レベルは、外部入力端子1のロウ・レベ
ルが抵抗4、抵抗5を経てロウ・レベルが与えられるの
でインバータ7はハイ・レベルを出力できる。以上の説
明はプル・アップ抵抗についてであったが、抵抗8を外
部入力端子1と抵抗4の交点と負極電源VSSに接続し
た場合はプル・ダウン抵抗をを持つ入力回路になるのは
無論である。
1 is a circuit diagram of an embodiment of the present invention. In FIG. 1, the same components as those in FIG. 4 are given the same numbers. VDD is a positive power supply and VSS is a negative power supply.
Reference numeral 1 designates an external input terminal, and 2, 3, 4, and 5 constitute an electrostatic protection circuit, and the function thereof is as described in the section of the prior art. Reference numeral 7 is a complementary MOS inverter which is a gate means controlled by a signal input to the external input terminal 1. 8 is a pull-up resistor. Pull-up resistor 8
Are arranged between the external input terminal 1 and the electrostatic protection circuits of 2, 3, 4, and 5. Next, the operation will be described.
When the external input terminal 1 is open, the input level of the inverter 7 is from the positive power source VDD to the resistors 8, 4, and 5.
Since a high level is given through the inverter, the inverter 7 can output a low level. (Impedance of resistance 8 + resistance 4 + resistance 5 << input impedance of inverter 7)
On the other hand, when a low level is applied to the external input terminal 1, the input level of the inverter 7 is low because the low level of the external input terminal 1 is applied via the resistors 4 and 5. Can be output. Although the above description is about the pull-up resistor, it goes without saying that when the resistor 8 is connected to the intersection of the external input terminal 1 and the resistor 4 and the negative power source VSS, the input circuit has a pull-down resistor. is there.

【0008】本発明では、プル・アップ抵抗もしくはプ
ル・ダウン抵抗が静電気保護回路を介さず外部入力端子
に接続されるので、外部入力端子に印加した静電気は直
接プル・アップ抵抗もしくはプル・ダウン抵抗に印加す
る。従って、プル・アップ抵抗もしくはプル・ダウン抵
抗の静電気耐量を確保する為に、静電気によってゲート
酸化膜などが破壊されやすいMOSトランジスタを用い
ず抵抗素子を用いる。この抵抗素子の半導体集積回路内
におけるレイアウト図について説明する。
In the present invention, since the pull-up resistor or pull-down resistor is connected to the external input terminal without passing through the static electricity protection circuit, the static electricity applied to the external input terminal is directly pulled up or pulled down. Apply to. Therefore, in order to secure the electrostatic resistance of the pull-up resistor or the pull-down resistor, a resistance element is used without using a MOS transistor whose gate oxide film or the like is easily damaged by static electricity. A layout diagram of this resistance element in the semiconductor integrated circuit will be described.

【0009】図2は、プル・アップ抵抗もしくはプル・
ダウン抵抗に用いる抵抗素子の第一の例を示すレイアウ
ト図である。図2において1は外部入力端子であり、通
常ボンディングなどにより外部端子に接続される。9は
アルミ配線で次に静電気保護回路に接続していく。10
は半導体集積回路内のソースもしくはドレインと同じ高
濃度不純物拡散層で、この高濃度不純物拡散層10がプ
ル・アップ抵抗もしくはプル・ダウン抵抗となる。11
は高濃度不純物拡散層10と同極で低濃度不純物拡散層
を示す。高濃度不純物拡散層10は回りを低濃度不純物
拡散層11で覆われている。12は高濃度不純物拡散層
10とアルミ配線を電気的に導通させるコンタクト。1
3は電源配線のアルミであり、高濃度不純物拡散層10
をプル・アップ抵抗として使う場合は正極電源VDDを
示し、高濃度不純物拡散層10をプル・ダウン抵抗とし
て使う場合は負極電源VSSを示す。低濃度不純物拡散
層11は高濃度不純物拡散層10を基盤から分離する為
のもので、(高濃度不純物拡散層10と基盤のPNジャ
ンクションを作らない為のもの)基盤と高濃度不純物拡
散層10の間に静電気が印加した場合、基盤と高濃度拡
散層10とのPNジャンクション破壊を防止し、静電気
耐量を向上させるものである。
FIG. 2 shows a pull-up resistor or pull-up resistor.
FIG. 6 is a layout diagram showing a first example of a resistance element used for a down resistance. In FIG. 2, reference numeral 1 denotes an external input terminal, which is usually connected to the external terminal by bonding or the like. Reference numeral 9 is an aluminum wiring, which is then connected to an electrostatic protection circuit. 10
Is the same high-concentration impurity diffusion layer as the source or drain in the semiconductor integrated circuit, and this high-concentration impurity diffusion layer 10 serves as a pull-up resistance or a pull-down resistance. 11
Indicates a low concentration impurity diffusion layer having the same polarity as the high concentration impurity diffusion layer 10. The high-concentration impurity diffusion layer 10 is surrounded by the low-concentration impurity diffusion layer 11. A contact 12 electrically connects the high-concentration impurity diffusion layer 10 and the aluminum wiring. 1
3 is aluminum for the power supply wiring, which is a high-concentration impurity diffusion layer 10
Is used as the pull-up resistance, the positive power supply VDD is shown, and when the high-concentration impurity diffusion layer 10 is used as the pull-down resistance, the negative power supply VSS is shown. The low-concentration impurity diffusion layer 11 is for separating the high-concentration impurity diffusion layer 10 from the substrate, and is for preventing the PN junction between the high-concentration impurity diffusion layer 10 and the substrate from being formed. When static electricity is applied between the substrates, the PN junction breakdown between the substrate and the high-concentration diffusion layer 10 is prevented, and the electrostatic withstand capability is improved.

【0010】プル・アップ抵抗もしくはプル・ダウン抵
抗に用いる抵抗素子の第二の例を図3に示す。図2と同
じ構成要素のものは、図2と同じ番号を付けてある。図
3の例は半導体集積回路内のソースもしくはドレインよ
りも低濃度不純物拡散層をプル・アップ抵抗もしくはプ
ル・ダウン抵抗として使用した例である。11は前記半
導体集積回路内のソースもしくはドレインよりも低濃度
不純物拡散層であり、プル・アップ抵抗もしくはプル・
ダウン抵抗として用いている。10は半導体集積回路内
のソースもしくはドレインと同じ高濃度不純物拡散層
で、低濃度不純物拡散層11と同極の拡散層である。従
って、高濃度不純物拡散層10と低濃度不純物拡散層1
1とは電気的に導通状態となる。12は高濃度不純物拡
散層10とアルミ配線を電気的に導通させるコンタク
ト。1は外部入力端子、9はアルミ配線、13は電源用
のアルミ配線である。アルミ配線と低濃度不純物拡散層
11を直接電気的に導通をとろうとすると、アルミ配線
と低濃度不純物拡散層11との接合面の抵抗が著しく高
くなるので、アルミ配線から高濃度不純物拡散層10を
経て低濃度不純物拡散層11へ電気的に導通させてい
る。この図3の実施例においても高濃度不純物拡散層1
0は低濃度不純物拡散層11に覆われており、上述の図
2の説明と同様に静電気耐量を向上させている。また、
低濃度不純物拡散層を抵抗とするので比較的高抵抗が得
られる。
FIG. 3 shows a second example of the resistance element used for the pull-up resistance or pull-down resistance. 2 that are the same as those in FIG. 2 are given the same numbers as in FIG. The example of FIG. 3 is an example in which a low-concentration impurity diffusion layer is used as a pull-up resistor or a pull-down resistor rather than a source or a drain in a semiconductor integrated circuit. Reference numeral 11 denotes a lower concentration impurity diffusion layer than the source or drain in the semiconductor integrated circuit, which is a pull-up resistor or a pull-up resistor.
Used as a down resistor. A high-concentration impurity diffusion layer 10 is the same as the source or drain in the semiconductor integrated circuit and is a diffusion layer having the same polarity as the low-concentration impurity diffusion layer 11. Therefore, the high concentration impurity diffusion layer 10 and the low concentration impurity diffusion layer 1
1 is electrically connected. A contact 12 electrically connects the high-concentration impurity diffusion layer 10 and the aluminum wiring. Reference numeral 1 is an external input terminal, 9 is an aluminum wiring, and 13 is an aluminum wiring for a power source. If an attempt is made to electrically connect the aluminum wiring and the low-concentration impurity diffusion layer 11 directly, the resistance of the joint surface between the aluminum wiring and the low-concentration impurity diffusion layer 11 becomes extremely high, so that the aluminum wiring and the high-concentration impurity diffusion layer 10 are connected. And electrically connects to the low-concentration impurity diffusion layer 11. Also in the embodiment of FIG. 3, the high-concentration impurity diffusion layer 1
0 is covered with the low-concentration impurity diffusion layer 11 and improves the electrostatic withstand capability as in the description of FIG. 2 above. Also,
Since the low-concentration impurity diffusion layer is used as the resistance, a relatively high resistance can be obtained.

【0011】[0011]

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば外部
入力レベルがプル・アップ抵抗もしくはプル・ダウン抵
抗と静電気保護回路内の抵抗とによって分圧されないの
で、広範囲の電源電圧の状況下でも外部入力レベルを誤
入力する事がない。そして、プル・アップ抵抗もしくは
プル・ダウン抵抗の低抵抗化も可能である。通常静電気
保護回路内の抵抗は数KΩ程度なので、従来の技術では
プル・アップ抵抗もしくはプル・ダウン抵抗は少なくと
も数十KΩ以上必要であった。しかし本発明では外部入
力レベルがプル・アップ抵抗もしくはプル・ダウン抵抗
と静電気保護回路内の抵抗と分圧されないので、低抵抗
値には制限がない。従って、プル・アップ抵抗もしくは
プル・ダウン抵抗を数KΩ以下にして、外部入力端子に
入るノイズの影響を極めて受けにくいといった高信頼性
の半導体集積回路を得る事も可能である。
As described above, according to the present invention, the external input level is not divided by the pull-up resistance or pull-down resistance and the resistance in the electrostatic protection circuit, so that it is possible to operate under a wide range of power supply voltage conditions. However, there is no mistaken input of the external input level. It is also possible to reduce the pull-up resistance or pull-down resistance. Normally, the resistance in the electrostatic protection circuit is about several KΩ, so that in the conventional technique, at least several tens KΩ or more is required for the pull-up resistance or the pull-down resistance. However, in the present invention, the external input level is not divided between the pull-up resistance or the pull-down resistance and the resistance in the electrostatic protection circuit, so that the low resistance value is not limited. Therefore, it is possible to obtain a highly reliable semiconductor integrated circuit in which the pull-up resistance or the pull-down resistance is set to several KΩ or less and which is extremely unlikely to be affected by noise entering the external input terminal.

【0012】また、プル・アップ抵抗もしくはプル・ダ
ウン抵抗をMOSトランジスタではなく抵抗素子でつく
るので、電源電圧の変動に対しても安定した高精度のプ
ル・アップ抵抗もしくはプル・ダウン抵抗が得られる。
Since the pull-up resistor or pull-down resistor is made of a resistance element instead of a MOS transistor, a stable and highly accurate pull-up resistor or pull-down resistor can be obtained even when the power supply voltage fluctuates. ..

【0013】また、プル・アップ抵抗もしくはプル・ダ
ウン抵抗は、静電気保護回路内の静電気吸収用のクラン
プ・ダイオードとともに外部入力端子と電源間に並列に
配置されるので、静電気吸収経路が増える事となり静電
気耐量を向上させるという効果もある。
Further, since the pull-up resistor or pull-down resistor is arranged in parallel between the external input terminal and the power source together with the electrostatic absorption clamp diode in the electrostatic protection circuit, the electrostatic absorption path is increased. It also has the effect of improving the electrostatic resistance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を示す回路図。FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の抵抗素子の実施例を示すレイアウト
図。
FIG. 2 is a layout diagram showing an embodiment of a resistance element of the present invention.

【図3】本発明の抵抗素子の他の実施例を示すレイアウ
ト図。
FIG. 3 is a layout diagram showing another embodiment of the resistance element of the present invention.

【図4】従来の技術の一実施例を示す回路図。FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a conventional technique.

【図5】従来の技術の課題例を示す回路図。FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a problem of the conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 外部入力端子 2、3 クランプ・ダイオード 4、5 抵抗 6 P型MOSトランジスタ 7 相補型MOSインバータ 8 プル・アップ抵抗 9 アルミ配線 10 高濃度不純物拡散層 11 低濃度不純物拡散層 12 アルミ配線と高濃度不純物拡散層を電気的に導
通させるコンタクト 13 電源のアルミ配線
1 External input terminal 2, 3 Clamp diode 4, 5 Resistance 6 P-type MOS transistor 7 Complementary MOS inverter 8 Pull-up resistance 9 Aluminum wiring 10 High concentration impurity diffusion layer 11 Low concentration impurity diffusion layer 12 Aluminum wiring and high concentration Contact that electrically connects the impurity diffusion layer 13 Aluminum wiring for power supply

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】外部入力端子と、プル・アップ抵抗もしく
はプル・ダウン抵抗と、静電気保護回路より構成される
半導体集積回路の入力回路において、前記プル・アップ
抵抗もしくはプル・ダウン抵抗を、前記外部入力端子と
前記静電気保護回路の間に配置した事を特徴とする入力
回路。
1. An input circuit of a semiconductor integrated circuit comprising an external input terminal, a pull-up resistor or pull-down resistor, and an electrostatic protection circuit, wherein the pull-up resistor or pull-down resistor is the external device. An input circuit characterized by being arranged between an input terminal and the electrostatic protection circuit.
【請求項2】請求項1において、プル・アップ抵抗もし
くはプル・ダウン抵抗は半導体集積回路内のソースもし
くはドレインと同じ高濃度不純物拡散層で形成され、前
記高濃度不純物拡散層は前記高濃度不純物拡散層と同極
の低濃度不純物拡散層で覆われている事を特徴とする入
力回路。
2. The pull-up resistor or pull-down resistor according to claim 1, which is formed of the same high-concentration impurity diffusion layer as a source or a drain in a semiconductor integrated circuit, and the high-concentration impurity diffusion layer is formed of the high-concentration impurity diffusion layer. An input circuit characterized by being covered with a low-concentration impurity diffusion layer of the same polarity as the diffusion layer.
【請求項3】請求項1において、プル・アップ抵抗もし
くはプル・ダウン抵抗は半導体集積回路内のソースもし
くはドレインよりも低濃度不純物拡散層で形成された事
を特徴とする入力回路。
3. The input circuit according to claim 1, wherein the pull-up resistor or pull-down resistor is formed of a lower concentration impurity diffusion layer than a source or a drain in the semiconductor integrated circuit.
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