JPH0546202Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0546202Y2 JPH0546202Y2 JP4056487U JP4056487U JPH0546202Y2 JP H0546202 Y2 JPH0546202 Y2 JP H0546202Y2 JP 4056487 U JP4056487 U JP 4056487U JP 4056487 U JP4056487 U JP 4056487U JP H0546202 Y2 JPH0546202 Y2 JP H0546202Y2
- Authority
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- Japan
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- anode
- electron beam
- electron gun
- chamber
- exhaust hole
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- Expired - Lifetime
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 27
- 108010083687 Ion Pumps Proteins 0.000 description 9
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
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- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔概要〕
本考案は、電子銃室と鏡筒室とを仕切るアノー
ドに、電子ビーム通過穴のほかに排気孔を設け、
その開口面積を電子銃室の外部から調整可能とす
ることによつて排気時間を短縮し処理能力の向上
を図つた電子ビーム装置である。
ドに、電子ビーム通過穴のほかに排気孔を設け、
その開口面積を電子銃室の外部から調整可能とす
ることによつて排気時間を短縮し処理能力の向上
を図つた電子ビーム装置である。
本考案は、高真空度に到達するまでの排気時間
を短縮した電子ビーム装置に関する。
を短縮した電子ビーム装置に関する。
集積回路等の試料の表面に電子ビームを照射
し、該照射面から出射する二次電子を検出するこ
とで電子ビーム照射面の電位を計測する電子ビー
ムプロービング装置等において、電子銃交換時や
鏡筒クリーニング時に、大気圧にある電子銃室を
所望の高真空度まで排気するための時間を短縮し
て測定作業を効率化することが望まれている。
し、該照射面から出射する二次電子を検出するこ
とで電子ビーム照射面の電位を計測する電子ビー
ムプロービング装置等において、電子銃交換時や
鏡筒クリーニング時に、大気圧にある電子銃室を
所望の高真空度まで排気するための時間を短縮し
て測定作業を効率化することが望まれている。
第３図は従来の電子ビーム装置の主要部の側断
面図である。
面図である。
最近の電子ビーム装置では、電子銃３が高性能
化し正常に動作させるために10-5Pa以上の高真
空が要求され、このため電子銃室１を、真空度の
低い鏡筒室２より２桁程度高い真空度に維持する
必要がある。このため電子銃室１にイオンポンプ
５等の高性能の排気ポンプを直結し、鏡筒室２と
結合した拡散ポンプ（図示せず）とは別に排気す
る差動排気システムを用いている。
化し正常に動作させるために10-5Pa以上の高真
空が要求され、このため電子銃室１を、真空度の
低い鏡筒室２より２桁程度高い真空度に維持する
必要がある。このため電子銃室１にイオンポンプ
５等の高性能の排気ポンプを直結し、鏡筒室２と
結合した拡散ポンプ（図示せず）とは別に排気す
る差動排気システムを用いている。
この際、低真空度の鏡筒室２からの影響を小さ
くするため両室を仕切るアノード４には直径１mm
程度の電子ビーム通過穴４ａが設けられているだ
けである。
くするため両室を仕切るアノード４には直径１mm
程度の電子ビーム通過穴４ａが設けられているだ
けである。
上記従来の電子ビーム装置では、試料交換等で
電子銃室１を大気圧に戻した後再度所要の高真空
度まで排気する場合に、イオンポンプ５は10-3
Pa以上の高真空度でないと作動しないため、鏡
筒室２側から拡散ポンプで粗引きを行う。この
際、電子銃室１の排気は開口面積の小さい電子ビ
ーム通過穴４ａを介してなされるので、イオンポ
ンプ５を作動させるまでの粗引きに長時間を要す
るという問題があつた。
電子銃室１を大気圧に戻した後再度所要の高真空
度まで排気する場合に、イオンポンプ５は10-3
Pa以上の高真空度でないと作動しないため、鏡
筒室２側から拡散ポンプで粗引きを行う。この
際、電子銃室１の排気は開口面積の小さい電子ビ
ーム通過穴４ａを介してなされるので、イオンポ
ンプ５を作動させるまでの粗引きに長時間を要す
るという問題があつた。
上記問題点を解決するため、本考案による電子
ビーム装置では、電子銃室と鏡筒室とを仕切るア
ノードに電子ビーム通過穴とは別に、開口面積が
調整可能な排気孔を設け、更にその調整を電子銃
室の外部から可能ならしめるような調整手段を設
けたものである。
ビーム装置では、電子銃室と鏡筒室とを仕切るア
ノードに電子ビーム通過穴とは別に、開口面積が
調整可能な排気孔を設け、更にその調整を電子銃
室の外部から可能ならしめるような調整手段を設
けたものである。
電子銃室のイオンポンプが作動可能となる真空
度まで排気する（粗引き）段階では、当該調整手
段によりアノードの排気孔を全開することによつ
て、電子銃室と鏡筒室との間のコンダクタンスを
大きくし電子銃室に対する粗引きポンプ（拡散ポ
ンプ）の作用を大ならしめ排気時間を短縮する。
度まで排気する（粗引き）段階では、当該調整手
段によりアノードの排気孔を全開することによつ
て、電子銃室と鏡筒室との間のコンダクタンスを
大きくし電子銃室に対する粗引きポンプ（拡散ポ
ンプ）の作用を大ならしめ排気時間を短縮する。
次いで、イオンポンプを作動させて、電子銃室
を鏡筒室より高い真空度まで排気し、更にその状
態を保持する段階では、当該調整手段によりアノ
ードの排気孔を全閉することによつてコンダクタ
ンスを小とし、低真空度の鏡筒室からの悪影響を
防止するものである。
を鏡筒室より高い真空度まで排気し、更にその状
態を保持する段階では、当該調整手段によりアノ
ードの排気孔を全閉することによつてコンダクタ
ンスを小とし、低真空度の鏡筒室からの悪影響を
防止するものである。
以下添付図により本考案の一実施例について説
明する。第１図は本考案に係る電子ビーム装置の
主要部の模式図で第１図ａは側断面図、第１図ｂ
はアノード部の平面図、第２図は本考案に係る電
子ビーム装置のアノードの水平断面図である。全
図を通じて同一符号は相当する対象物を示す。
明する。第１図は本考案に係る電子ビーム装置の
主要部の模式図で第１図ａは側断面図、第１図ｂ
はアノード部の平面図、第２図は本考案に係る電
子ビーム装置のアノードの水平断面図である。全
図を通じて同一符号は相当する対象物を示す。
第１図ａにおいて、電子銃室１は、内部に電子
銃３とその直下に円筒状のアノード４１が設置さ
れており、専用のイオンポンプ５に直結してい
る。アノード４１は、上面中央に直径１mm程度の
電子ビーム通過穴４１ａと側周部に複数個の排気
孔４１ｂとを備えており、当該排気孔に対応する
位置に固定排気孔４２ａを備え隔壁７に固定され
た円筒状のアノードホルダ４２と、回動自在に嵌
合し且つその外周下部でアノード押さえ４３によ
り保持されている。
銃３とその直下に円筒状のアノード４１が設置さ
れており、専用のイオンポンプ５に直結してい
る。アノード４１は、上面中央に直径１mm程度の
電子ビーム通過穴４１ａと側周部に複数個の排気
孔４１ｂとを備えており、当該排気孔に対応する
位置に固定排気孔４２ａを備え隔壁７に固定され
た円筒状のアノードホルダ４２と、回動自在に嵌
合し且つその外周下部でアノード押さえ４３によ
り保持されている。
調整手段６は、電子銃室１の外部に設けられた
アクチユエータ６１と、先端がアノード押さえ４
３と回転自在に係合し且つ中間に回転可能な結合
部を備えた作動シヤフト６２とからなり、該アク
チユエータ６１を動作させると該作動シヤフト６
２は矢印Ａの方向に動き、アノード押さえ４３を
介してアノード４１を矢印Ｂの如く回動させるこ
とができる。
アクチユエータ６１と、先端がアノード押さえ４
３と回転自在に係合し且つ中間に回転可能な結合
部を備えた作動シヤフト６２とからなり、該アク
チユエータ６１を動作させると該作動シヤフト６
２は矢印Ａの方向に動き、アノード押さえ４３を
介してアノード４１を矢印Ｂの如く回動させるこ
とができる。
２は鏡筒室の上部を表し、内部に電子レンズ系
（図示せず）を備え、下部の試料室や拡散ポンプ
（いずれも図示せず）と結合している。
（図示せず）を備え、下部の試料室や拡散ポンプ
（いずれも図示せず）と結合している。
次に図を用いてその動作を説明する。
第１図ａ，ｂはアノード４１の排気孔が全開し
ている状態を示し、拡散ポンプのみを作動させて
鏡筒室２側から電子銃室１を排気している粗引き
の段階を表している。この段階ではアノードの水
平断面図を示す第２図において、粗引き時を示す
同図ａのように、アノード４１の側周面に設けて
ある多数の大面積の排気孔４１ｂは、アノードホ
ルダ４２の固定排気孔４２ａと完全に一致して開
口しているため、排気通路が電子ビーム通過穴４
１ａのみの従来の装置に比べると、電子銃室１と
鏡筒室２とのコンダクタンスが極めて大きく、従
つて排気速度が速いので、短時間で電子銃室１を
所望の真空度まで排気できる。
ている状態を示し、拡散ポンプのみを作動させて
鏡筒室２側から電子銃室１を排気している粗引き
の段階を表している。この段階ではアノードの水
平断面図を示す第２図において、粗引き時を示す
同図ａのように、アノード４１の側周面に設けて
ある多数の大面積の排気孔４１ｂは、アノードホ
ルダ４２の固定排気孔４２ａと完全に一致して開
口しているため、排気通路が電子ビーム通過穴４
１ａのみの従来の装置に比べると、電子銃室１と
鏡筒室２とのコンダクタンスが極めて大きく、従
つて排気速度が速いので、短時間で電子銃室１を
所望の真空度まで排気できる。
次いで、電子銃室１に直結したイオンポンプ５
の作動可能な真空度に到達した時点で、イオンポ
ンプ５を作動させ、しかる後にアクチユエータ６
１によりアノード４１を回動させ、第２図のｂで
示すように排気孔４１ｂと固定排気孔４２ａとの
位置関係を変化させて、アノード４１の側周面の
排気孔４１ｂを全閉する。
の作動可能な真空度に到達した時点で、イオンポ
ンプ５を作動させ、しかる後にアクチユエータ６
１によりアノード４１を回動させ、第２図のｂで
示すように排気孔４１ｂと固定排気孔４２ａとの
位置関係を変化させて、アノード４１の側周面の
排気孔４１ｂを全閉する。
これにより電子銃室１のみを所望の真空度まで
排気し且つその状態を保持する。この際、電子銃
室１と鏡筒室２とは電子ビーム通過穴４１ａのみ
で連結されているので、コンダクタンスは小さ
く、真空度のより低い鏡筒室２から電子銃室１へ
の悪影響がなく良好な測定条件が維持できる。
排気し且つその状態を保持する。この際、電子銃
室１と鏡筒室２とは電子ビーム通過穴４１ａのみ
で連結されているので、コンダクタンスは小さ
く、真空度のより低い鏡筒室２から電子銃室１へ
の悪影響がなく良好な測定条件が維持できる。
上述の如く本考案によれば、アノードに調整可
能な排気孔を設け、電子銃室外部から調整手段に
より、試料交換等の際の粗引き段階では排気孔を
全開して排気時間を短縮でき、その後の測定段階
では全閉して低真空度の鏡筒室からの悪影響を排
除できるので、電子ビーム装置による測定などの
効率化を実現できその効果が顕著である。
能な排気孔を設け、電子銃室外部から調整手段に
より、試料交換等の際の粗引き段階では排気孔を
全開して排気時間を短縮でき、その後の測定段階
では全閉して低真空度の鏡筒室からの悪影響を排
除できるので、電子ビーム装置による測定などの
効率化を実現できその効果が顕著である。
第１図は、本考案に係る電子ビーム装置の主要
部の模式図、第２図は、本考案に係る電子ビーム
装置のアノードの水平断面図、第３図は、従来の
電子ビーム装置の主要部の側断面図、である。 図において、１……電子銃室、２……鏡筒室、
３……電子銃、４……アノード、４１……アノー
ド、４２……アノードホルダ、４１ａ……電子ビ
ーム通過孔、４１ｂ……排気孔、４２ａ……固定
排気孔、４３……アノード押さえ、５……イオン
ポンプ、６……調整手段、６１……アクチユエー
タ、６２……作動シヤフト、７……隔壁、をそれ
ぞれ表す。
部の模式図、第２図は、本考案に係る電子ビーム
装置のアノードの水平断面図、第３図は、従来の
電子ビーム装置の主要部の側断面図、である。 図において、１……電子銃室、２……鏡筒室、
３……電子銃、４……アノード、４１……アノー
ド、４２……アノードホルダ、４１ａ……電子ビ
ーム通過孔、４１ｂ……排気孔、４２ａ……固定
排気孔、４３……アノード押さえ、５……イオン
ポンプ、６……調整手段、６１……アクチユエー
タ、６２……作動シヤフト、７……隔壁、をそれ
ぞれ表す。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 電子銃室１と鏡筒室２との間が、電子ビーム通
過穴４１ａを備えたアノード４１により仕切られ
ている電子ビーム装置において、 円周部に前記電子ビーム通過穴４１ａより大面
積の固定排気孔４２ａを備えた略円筒状のアノー
ドホルダ４２と、 円周側面上の前記固定排気孔４２ａに対応する
位置に排気孔４１ｂを備え、前記アノードホルダ
４２と回動自在に嵌合し、且つアノード押さえ４
３により保持されるアノード４１と、 前記アノード押さえ４３を介して前記アノード
４１に回動動作を伝達する作動シヤフト６２と、
前記電子銃室１の外部に設けたアクチユエータ６
１とからなる調整手段６とを設けたことを特徴と
する電子ビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4056487U JPH0546202Y2 (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4056487U JPH0546202Y2 (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63149057U JPS63149057U (ja) | 1988-09-30 |
| JPH0546202Y2 true JPH0546202Y2 (ja) | 1993-12-02 |
Family
ID=30854762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4056487U Expired - Lifetime JPH0546202Y2 (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0546202Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002358920A (ja) * | 2001-06-01 | 2002-12-13 | Ulvac Japan Ltd | 荷電粒子線装置 |
-
1987
- 1987-03-19 JP JP4056487U patent/JPH0546202Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63149057U (ja) | 1988-09-30 |
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