JPH11329319A - 電子ビーム装置 - Google Patents
電子ビーム装置Info
- Publication number
- JPH11329319A JPH11329319A JP10134985A JP13498598A JPH11329319A JP H11329319 A JPH11329319 A JP H11329319A JP 10134985 A JP10134985 A JP 10134985A JP 13498598 A JP13498598 A JP 13498598A JP H11329319 A JPH11329319 A JP H11329319A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- electron gun
- ultrasonic motor
- gun chamber
- electron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 140
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 8
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 108010083687 Ion Pumps Proteins 0.000 description 3
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
関し、装置の簡素化、小型化、低価格化を図る。 【解決手段】超音波モータ30を使用して電子銃室密閉
機構を構成する。
Description
などのような電子ビーム装置に関する。
時、電子銃室を構成するハウジングに設けられている電
子ビーム通過孔を、摺動機構を持つバルブで閉塞して電
子銃室を密閉し、電子銃室が大気により汚染されない状
態にした後に、試料室を大気開放して試料交換を行うよ
うにしており、バルブの開閉の駆動力は、ベローズを介
して試料室外から与えていた。電子ビーム絞り孔の変更
も同様な機構において行われていた。
ビーム装置では、バルブの移動範囲量の割にはベローズ
の占める体積が余りに大きくなってしまうと共に、ベロ
ーズの伸縮に要する力を補うために、より大きな駆動装
置が必要となってしまい、装置の簡素化、小型化、低価
格化を図ることができないという問題点があった。
化、小型化、低価格化を図ることができるようにした電
子ビーム装置を提供することを目的とする。
は、電子銃室密閉機構を備える電子ビーム装置におい
て、電子銃室密閉機構は、駆動部及び被駆動部で電子銃
室を密閉する超音波モータを備えて構成されているとい
うものである。
密閉機構は、駆動部及び被駆動部で電子銃室を密閉する
超音波モータを備えて構成するとしているので、電子銃
室密閉機構の簡素化、小型化、低価格化を図ることがで
きる。
孔機構を備える電子ビーム装置において、電子ビーム絞
り孔機構は、駆動部又は被駆動部に電子ビーム絞り孔を
有する超音波モータを備えて構成されているというもの
である。
ム絞り孔機構は、駆動部又は被駆動部に電子ビーム絞り
孔を有する超音波モータを備えて構成するとしているの
で、電子ビーム絞り孔機構の簡素化、小型化、低価格化
を図ることができる。
用バルブ機構を備える電子ビーム装置において、電子銃
室粗排気用バルブ機構は、駆動部及び被駆動部に、連通
させることができる電子銃室粗排気孔を有する超音波モ
ータを備えて構成されているというものである。
粗排気用バルブ機構は、駆動部及び被駆動部に、連通さ
せることができる電子銃室粗排気孔を有する超音波モー
タを備えているので、電子銃室粗排気用バルブ機構の簡
素化、小型化、低価格化を図ることができる。
いて、超音波モータの駆動部及び被駆動部は、駆動部と
被駆動部との相対位置を変えることにより、使用する電
子銃室粗排気孔の数を変化させることができるように複
数の電子銃室粗排気孔を有しているというものである。
明と同様の作用を得ることができると共に、駆動部と被
駆動部の相対位置を変化させることにより、使用する電
子銃室粗排気孔の数を変化させることができるので、電
子銃室と試料室との間のコンダクタンスを可変とするこ
とができる。
本発明の第1実施形態〜第3実施形態について、本発明
を走査型電子顕微鏡に適用した場合を例にして説明す
る。
1は装置本体、2は試料室、3は試料を保持するために
試料室2の床に設置された試料ステージ、4は試料ステ
ージ3に保持された試料である。
水平方向(X軸方向及びY軸方向)に移動可能とされた
XYステージ、6はXYステージ5の下側に垂直方向
(Z軸方向)に移動可能とされたZステージである。
ち式の電子ビーム照射装置保持部材、8は試料4に電子
ビーム9を照射するために電子ビーム照射装置保持部材
7の保持された電子ビーム照射装置である。
概略的断面図である。図2中、11は電子銃室、12は
鏡筒部であり、13は電子銃台座、14は電子銃台座と
ともに電子銃室11を構成するハウジング部材、15は
鏡筒部12を構成するハウジング部材である。
れて電子銃室11内に設置された電子銃であり、17は
ハウジング兼サプレッサ電極、18、19は電子銃16
の中空部を排気するためにハウジング兼サプレッサ電極
17に設けられた通気孔である。
のカソード、21は電子ビームを加速するためのアノー
ド、22〜25は電子銃16に必要な電圧を導入するた
めの導入端子であり、これら導入端子22〜25は、ハ
ーメチックシールで気密封止されている。
子ビームの軌道を確保するためにハウジング部材14の
下部の中央に形成された電子ビーム通過孔、27は電子
銃室11を排気して超高真空(1×10-5Pa以下)にす
るためのスパッタイオンポンプである。
16から射出されてハウジング部材14に形成された電
子ビーム通過孔26及び後述する超音波モータに形成さ
れた電子ビーム通過孔を通過した電子ビームの偏向を行
う偏向器、29は偏向器28を通過した電子ビームの絞
り込みを行う対物レンズである。
る電子銃室密閉機構を構成するためにハウジング部材1
4の下部の一部とハウジング部材15の上部の一部との
間に設置された回転型の超音波モータである。
構成上の駆動部、32はモータ構成上の被駆動部である
が、被駆動部32は、ハウジング部材14と一体とされ
ており、駆動部31が回転するようにされている。
た位置センサであり、駆動部31の回転位置を駆動部3
1に形成されているスリットを計数することにより検出
するものである。
的分解斜視図であり、図3中、駆動部31において、3
5はシャフト挿通孔、36は電子ビーム通過孔、37は
Oリングである。
フト挿通孔、39は駆動部31の電子ビーム通過孔36
と連通させることができるように形成された電子ビーム
通過孔である。
孔38及び駆動部31のシャフト挿通孔35に挿通させ
るシャフト、41はシャフト40を固定するための止め
輪である。
射装置8に対して必要な電圧を供給することにより試料
4に対する電子ビーム9の照射を制御する電子ビーム照
射制御部である。
対して必要な電圧を供給するスパッタイオンポンプ電
源、45は超音波モータ30を制御する超音波モータ制
御部である。
料4から発生する2次電子を検出する検出器、47は検
出器46を制御する検出器制御部である。
(1×10-3Pa以下)にするためのターボ分子ポン
プ、49はターボ分子ポンプ48の補助ポンプであるロ
ータリーポンプである。
態においては、電子銃室11の粗排気時には、図4に示
すように、電子ビーム通過孔39、36が連通する位置
に駆動部31の回転位置を制御する。このようにする
と、電子ビーム通過孔39、36を介して電子銃室11
の粗排気を行うことができる。
は、同じく図4に示すように、電子ビーム通過孔39、
36が連通する位置に駆動部31の回転位置を制御す
る。このようにすると、電子銃16から射出された電子
ビーム9を電子ビーム通過孔39、36を通過させて試
料4に照射することができる。
うに、電子ビーム通過孔39がOリング37の部分で完
全に閉塞されるように駆動部31の回転位置を制御す
る。このようにすると、電子銃室11を密閉することが
でき、試料室2を大気開放しても、電子銃室11を超高
真空状態に維持し、電子銃室11が大気により汚染され
ないようにすることができる。
ば、超音波モータ30を使用して電子銃室密閉機構を構
成するとしたことにより、試料室2の外部に電子銃室密
閉機構を構成するためのバルブ駆動手段を設ける必要が
なく、試料室2の壁に電子銃室密閉機構を構成するため
のベローズを設置する必要がないので、電子銃室密閉機
構の簡素化、小型化、低価格化を図り、装置の簡素化、
小型化、低価格化を図ることができる。
電子ビーム絞り孔機構を別個に設ける必要があるが、電
子ビーム絞り孔機構を別個に設けるとしても、電子銃室
密閉機構の簡素化、小型化、低価格化を図ることができ
るので、従来の電子ビーム装置では図ることができない
装置の簡素化、小型化、低価格化を図ることができる。
被駆動部32が上側、駆動部31が下側となるように、
超音波モータ30を電子ビーム照射装置8に設置するよ
うにした場合について説明したが、この代わりに、駆動
部31が上側、被駆動部32が下側となるようにし、か
つ、駆動部31を不動とし、被駆動部32を回転させる
ように、超音波モータ30を電子ビーム照射装置8に設
置するようにしても良い。
第2実施形態は、図1に示す本発明の第1実施形態が備
える電子ビーム照射装置8と構成の異なる電子ビーム照
射装置50を備えるようにし、その他については、本発
明の第1実施形態と同様に構成したものである。
ビーム照射装置50の構成を示す概略的断面図であり、
電子ビーム照射装置50は、本発明の第1実施形態が備
える電子ビーム照射装置8が備える回転型の超音波モー
タ30と構成の異なる回転型の超音波モータ51を備え
るようにし、その他については、電子ビーム照射装置8
と同様に構成したものである。
は駆動部、53は被駆動部であり、超音波モータ50
は、駆動部52を不動とし、被駆動部53が回転するよ
うに設置されている。
た位置センサであり、被駆動部53の回転位置を駆動部
52に形成されているスリットを計数することにより検
出するものである。
的分解斜視図、図9は駆動部52の概略的平面図、図1
0は被駆動部53の概略的平面図である。
4はシャフト挿通孔、55は電子銃室粗排気孔としても
使用される電子ビーム通過孔、56、57は電子銃室粗
排気孔である。
て、58はシャフト挿通孔、59は電子ビーム絞り孔、
60は径を電子ビーム絞り孔59よりも大とする電子ビ
ーム絞り孔、61は電子ビーム通過孔、62、63、6
4は電子銃室粗排気孔である。
孔54及び被駆動部53のシャフト挿通孔58に挿通さ
せるシャフト、66はシャフト65を固定するための止
め輪である。
態においては、電子銃室11の粗排気時には、図11に
示すように、電子銃室粗排気孔56と電子銃室粗排気孔
62、電子ビーム通過孔55と電子銃室粗排気孔63、
電子銃室粗排気孔57と電子銃室粗排気孔64とが、そ
れぞれ、連通するように被駆動部53の回転位置を制御
する。このようにすると、電子銃室11と試料室2との
間のコンダクタンスを大きくし、電子銃室11の粗排気
を高速に行うことができる。
に、電子ビーム通過孔61を使用する場合には、図12
に示すように、電子ビーム通過孔55と電子ビーム通過
孔61とが連通するように被駆動部53の回転位置を制
御する。このようにすると、電子銃16から射出された
電子ビーム9を電子ビーム通過孔55、61を通過させ
て試料4に照射することができる。
に、電子ビーム絞り孔59を使用する場合には、図13
に示すように、電子ビーム通過孔55と電子ビーム絞り
孔59とが連通するように被駆動部53の回転位置を制
御する。このようにすると、電子銃16から射出された
電子ビーム9を電子ビーム絞り孔59で絞り、試料4に
照射することができる。
に、電子ビーム絞り孔60を使用する場合には、図14
に示すように、電子ビーム通過孔55と電子ビーム絞り
孔60とが連通するように被駆動部53の回転位置を制
御する。このようにすると、電子銃16から射出された
電子ビーム9を電子ビーム絞り孔60で絞り、試料4に
照射することができる。
ように、電子ビーム通過孔55及び電子銃室粗排気孔5
6、57が被駆動部53により完全に閉塞されるように
被駆動部53の回転位置を制御する。このようにする
と、電子銃室11を密閉することができ、試料室2を大
気開放しても、電子銃室11を超高真空状態に維持する
ことができ、電子銃室11が大気により汚染されないよ
うにすることができる。
ば、超音波モータ51を使用して電子銃室密閉機構を構
成するとしたことにより、試料室2の外部に電子銃室密
閉機構を構成するためのバルブ駆動手段を設ける必要が
なく、試料室2の壁に電子銃室密閉機構を構成するため
のベローズを設置する必要がないので、電子銃室密閉機
構の簡素化、小型化、低価格化を図ることができると共
に、超音波モータ51の被駆動部53に径の異なる電子
ビーム絞り孔59、60を設け、超音波モータ51に電
子ビーム絞り孔機構を併せ持たせるようにし、別個に電
子ビーム絞り孔機構を設ける必要がないようにしている
ので、本発明の第1実施形態以上に装置の簡素化、小型
化、低価格化を図ることができる。
子ビーム通過孔55及び電子銃室粗排気孔56、57を
設け、被駆動部53に電子ビーム通過孔55及び電子銃
室粗排気孔56、57に連通させることができる電子銃
室粗排気孔63、62、64を設けているので、電子銃
室11の粗排気時に、電子銃室11と試料室2との間の
コンダクタンスを大きくし、電子銃室11の粗排気を高
速に行うことができる。
部53の駆動部52に対する位置の取り方によっては、
電子ビーム通過孔55及び電子銃室粗排気孔56、57
のうち、1個又は2個の孔を使用することができる。即
ち、本発明の第2実施形態においては、電子銃室11と
試料室2との間のコンダクタンスを可変とすることがで
きるように構成されている。
駆動部52が上側、被駆動部53が下側となるように、
超音波モータ51を電子ビーム照射装置8に設置するよ
うにした場合について説明したが、この代わりに、被駆
動部53に電子ビーム通過孔及び電子銃室粗排気孔を形
成すると共に、駆動部52に電子銃室粗排気孔、電子ビ
ーム絞り孔及び電子ビーム通過孔を形成し、被駆動部5
3が上側、駆動部52が下側となるように、かつ、駆動
部52が回転するように超音波モータ51を電子ビーム
照射装置50に設置するようにしても良い。
形態が備える回転型の超音波モータ30の代わりに、図
16及び図17にそれぞれ概略的斜視図及び概略的分解
斜視図を示すような直動型の超音波モータ67を備える
ようにし、その他については、本発明の第1実施形態と
同様に構成するというものである。
構成上の駆動部であり、69は電子ビーム通過孔、70
は電子ビーム絞り孔、71は径を電子ビーム絞り孔70
よりも大とする電子ビーム絞り孔、72はフラットロー
ラである。
り、74は電子ビーム通過孔である。なお、被駆動部7
3は、ハウジング部材14と一体とされており、駆動部
68がスライドするように設置される。
発明の第3実施形態においては、電子銃室11の粗排気
時には、図18に示すように、電子ビーム通過孔74、
69が連通する位置に駆動部68のスライド位置を制御
する。このようにすると、電子ビーム通過孔74、69
を介して電子銃室11の粗排気を行うことができる。
に、電子ビーム通過孔69を使用する場合には、同じく
図18に示すように、電子ビーム通過孔74、69が連
通する位置に駆動部68のスライド位置を制御する。こ
のようにすると、電子銃16から射出された電子ビーム
9を電子ビーム通過孔74、69を通過させて試料4に
照射することができる。
に、電子ビーム絞り孔70を使用する場合には、図19
に示すように、電子ビーム通過孔74と電子ビーム絞り
孔70とが連通するように駆動部68のスライド位置を
制御する。このようにすると、電子銃16から射出され
た電子ビーム9を電子ビーム絞り孔70で絞り、試料4
に照射することができる。
に、電子ビーム絞り孔71を使用する場合には、図20
に示すように、電子ビーム通過孔74と電子ビーム絞り
孔71とが連通するように駆動部68のスライド位置を
制御する。このようにすると、電子銃16から射出され
た電子ビーム9を電子ビーム絞り孔71で絞り、試料4
に照射することができる。
ように、電子ビーム通過孔74が駆動部68により完全
に閉塞されるように駆動部68のスライド位置を制御す
る。このようにすると、電子銃室11を密閉することが
でき、試料室2を大気開放しても、電子銃室11を超高
真空状態に維持し、電子銃室11が大気により汚染され
ないようにすることができる。
ば、超音波モータ67を使用して電子銃室密閉機構を構
成するとしたことにより、試料室2の外部に電子銃室密
閉機構を構成するためのバルブ駆動手段を設ける必要が
なく、試料室2の壁に電子銃室密閉機構を構成するため
のベローズを設置する必要がないので、電子銃室密閉機
構の簡素化、小型化、低価格化を図ることができると共
に、超音波モータ67の駆動部68に径の異なる電子ビ
ーム絞り孔70、71を形成し、超音波モータ67に電
子ビーム絞り孔機構を併せ持たせるようにし、別個に電
子ビーム絞り孔機構を設ける必要がないようにしている
ので、本発明の第1実施形態以上に装置の簡素化、小型
化、低価格化を図ることができる。
被駆動部73が上側、駆動部68が下側となるように超
音波モータ67を電子ビーム照射装置に設置するように
した場合について説明したが、この代わりに、被駆動部
73に電子ビーム通過孔及び電子ビーム絞り孔を形成す
ると共に、駆動部68に電子ビーム通過孔を形成し、駆
動部68が上側、被駆動部73が下側となるように、か
つ、被駆動部73がスライドするように超音波モータ6
7を電子ビーム照射装置に設置するようにしても良い。
密閉機構は、駆動部及び被駆動部で電子銃室を密閉する
超音波モータを備えて構成するとしたことにより、電子
銃室密閉機構の簡素化、小型化、低価格化を図ることが
できるので、装置の簡素化、小型化、低価格化を図るこ
とができる。
ム絞り孔機構は、駆動部又は被駆動部に電子ビーム絞り
孔を有する超音波モータを備えて構成するとしたことに
より、電子ビーム絞り孔機構の簡素化、小型化、低価格
化を図ることができるので、装置の簡素化、小型化、低
価格化を図ることができる。
粗排気用バルブ機構は、駆動部及び被駆動部に、連通さ
せることができる電子銃室粗排気孔を有する超音波モー
タを備えて構成するとしたことにより、電子銃室粗排気
用バルブ機構の簡素化、小型化、低価格化を図ることが
できるので、装置の簡素化、小型化、低価格化を図るこ
とができる。
明と同様の効果を得ることができると共に、電子銃室と
試料室との間のコンダクタンスを可変とすることがで
き、利便性を高めることができる。
装置の構成を示す概略的断面図である。
構成を示す概略的分解斜視図である。
制御例を説明するための概略的断端面図である。
制御例を説明するための概略的断端面図である。
装置の構成を示す概略的断面図である。
構成を示す概略的分解斜視図である。
構成する駆動部の概略的平面図である。
を構成する被駆動部の概略的平面図である。
の制御例を説明するための概略的断端面図である。
の制御例を説明するための概略的断端面図である。
の制御例を説明するための概略的断端面図である。
の制御例を説明するための概略的断端面図である。
の制御例を説明するための概略的断端面図である。
の構成を示す概略的斜視図である。
の構成を示す概略的分解斜視図である。
の制御例を説明するための概略的断端面図である。
の制御例を説明するための概略的断端面図である。
の制御例を説明するための概略的断端面図である。
の制御例を説明するための概略的断端面図である。
Claims (6)
- 【請求項1】電子銃室密閉機構を備える電子ビーム装置
において、 前記電子銃室密閉機構は、駆動部及び被駆動部で前記電
子銃室を密閉する超音波モータを備えて構成されている
ことを特徴とする電子ビーム装置。 - 【請求項2】電子ビーム絞り孔機構を備える電子ビーム
装置において、 前記電子ビーム絞り孔機構は、駆動部又は被駆動部に電
子ビーム絞り孔を有する超音波モータを備えて構成され
ていることを特徴とする電子ビーム装置。 - 【請求項3】電子銃室粗排気用バルブ機構を備える電子
ビーム装置において、 前記電子銃室粗排気用バルブ機構は、駆動部及び被駆動
部に、連通させることができる電子銃室粗排気孔を有す
る超音波モータを備えて構成されていることを特徴とす
る電子ビーム装置。 - 【請求項4】前記超音波モータの駆動部及び被駆動部
は、駆動部と被駆動部との相対位置を変えることによ
り、使用する電子銃室粗排気孔の数を変化させることが
できるように複数の電子銃室粗排気孔を有していること
を特徴とする請求項3記載の電子ビーム装置。 - 【請求項5】前記超音波モータとして、回転型の超音波
モータを備えていることを特徴とする請求項1、2、3
又は4記載の電子ビーム装置。 - 【請求項6】前記超音波モータとして、直動型の超音波
モータを備えていることを特徴とする請求項1、2、3
又は4記載の電子ビーム装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10134985A JPH11329319A (ja) | 1998-05-18 | 1998-05-18 | 電子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10134985A JPH11329319A (ja) | 1998-05-18 | 1998-05-18 | 電子ビーム装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11329319A true JPH11329319A (ja) | 1999-11-30 |
Family
ID=15141238
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10134985A Pending JPH11329319A (ja) | 1998-05-18 | 1998-05-18 | 電子ビーム装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11329319A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022033941A1 (en) * | 2020-08-14 | 2022-02-17 | Asml Netherlands B.V. | Actuator arrangement and electron-optical column |
-
1998
- 1998-05-18 JP JP10134985A patent/JPH11329319A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022033941A1 (en) * | 2020-08-14 | 2022-02-17 | Asml Netherlands B.V. | Actuator arrangement and electron-optical column |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8096744B2 (en) | Wafer processing system, wafer processing method, and ion implantation system | |
JP2732961B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2851213B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP2012094531A (ja) | X線源 | |
JP2005108806A (ja) | 小型電子銃 | |
JP3886777B2 (ja) | 電子線照射装置および方法 | |
KR20010022850A (ko) | 선형 가스 베어링과 액티브 카운터-밸런싱 옵션을 갖는 스캐닝 시스템 | |
JPH11329319A (ja) | 電子ビーム装置 | |
JP4774007B2 (ja) | X線発生装置及びx線分析装置 | |
KR102660692B1 (ko) | 전자선 장치 및 전자선 장치의 제어 방법 | |
JPH0817709A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
US10651005B2 (en) | Innovative source assembly for ion beam production | |
JP2821313B2 (ja) | 電子線照射装置 | |
KR101055225B1 (ko) | 마그넷 셔터 및 이를 이용한 기판처리장치 | |
JP2002358920A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
US12020893B2 (en) | Ion milling device | |
JP4847900B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
JP2000340153A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP5338022B2 (ja) | 照射方向可変イオン照射装置および二次イオン質量分析装置 | |
JP2007019045A (ja) | 小型電子銃 | |
JP2001332204A (ja) | 電子顕微鏡の排気装置 | |
JP2005203123A (ja) | 荷電粒子ビーム装置。 | |
JP4148864B2 (ja) | 試料分析装置 | |
JPH0546202Y2 (ja) | ||
WO2023074104A1 (ja) | 電子ビーム処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050318 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060613 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060814 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061017 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070403 |