JPH0543896A - 非ハロゲン系洗浄剤組成物 - Google Patents
非ハロゲン系洗浄剤組成物Info
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- JPH0543896A JPH0543896A JP22827291A JP22827291A JPH0543896A JP H0543896 A JPH0543896 A JP H0543896A JP 22827291 A JP22827291 A JP 22827291A JP 22827291 A JP22827291 A JP 22827291A JP H0543896 A JPH0543896 A JP H0543896A
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- detergent composition
- cleaning
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 洗浄性能に優れ、広範な被洗浄物に適当な新
規有用な非ハロゲン系洗浄剤組成物を提供する。 【構成】アセテート系化合物１００重量部に対し、シク
ロヘキサン環を有するアミン化合物を０．１〜３０重量
部配合する。
規有用な非ハロゲン系洗浄剤組成物を提供する。 【構成】アセテート系化合物１００重量部に対し、シク
ロヘキサン環を有するアミン化合物を０．１〜３０重量
部配合する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品や各種の金属
表面及びプラスチック等の表面及び繊維製品等に対して
有効な非ハロゲン系洗浄剤組成物に関する。
表面及びプラスチック等の表面及び繊維製品等に対して
有効な非ハロゲン系洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】フロンは、毒性が低く、不燃性で、化学
的にも安定であり、プラスチック等の被洗浄素材を侵さ
ず、強い浸透性を保持し、速乾性である等、多くの優れ
た性質を有しているため、これまでにクーラーや冷蔵庫
の冷媒、スプレーの噴射剤、ウレタンフォーム等の断熱
剤の発泡剤及び電気・電子部品、精密機械等の洗浄剤等
として幅広い分野で使用されてきた。
的にも安定であり、プラスチック等の被洗浄素材を侵さ
ず、強い浸透性を保持し、速乾性である等、多くの優れ
た性質を有しているため、これまでにクーラーや冷蔵庫
の冷媒、スプレーの噴射剤、ウレタンフォーム等の断熱
剤の発泡剤及び電気・電子部品、精密機械等の洗浄剤等
として幅広い分野で使用されてきた。
【０００３】しかしながら、近年、フロンによる成層圏
オゾン層の破壊が科学的に明らかにされ、フロン１１、
フロン１２、フロン１１３等５種類のフロンについて規
制されるようになった。フロン製品のうち約５０％の使
用量をもつフロン１１３は、そのほとんどが洗浄剤とし
て用いられており、現在、このものに代替する性能を有
する洗浄剤として、例えば、テルペン系組成物、炭化水
素系組成物、非イオン系界面活性剤を含有してなるエタ
ノール系組成物等が提案されているが、一般に引火点が
低いため、作業安全性の点で好ましくなく、洗浄力にお
いても、尚、改善の余地が認められる。
オゾン層の破壊が科学的に明らかにされ、フロン１１、
フロン１２、フロン１１３等５種類のフロンについて規
制されるようになった。フロン製品のうち約５０％の使
用量をもつフロン１１３は、そのほとんどが洗浄剤とし
て用いられており、現在、このものに代替する性能を有
する洗浄剤として、例えば、テルペン系組成物、炭化水
素系組成物、非イオン系界面活性剤を含有してなるエタ
ノール系組成物等が提案されているが、一般に引火点が
低いため、作業安全性の点で好ましくなく、洗浄力にお
いても、尚、改善の余地が認められる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、従来公
知のフロン系洗浄剤の有する優れた特性、即ち、洗浄力
に優れ、化学的に安定であり、しかも塩素やフッ素等の
ハロゲンを全く含まず、環境を破壊する恐れのない洗浄
剤組成物を開発すべく鋭意検討を進める中で、特定の構
造を有するアセテート系化合物を溶剤成分とし、これに
特定のアミン化合物を所定量配合することにより、上記
溶剤成分単独の場合よりも洗浄性能が飛躍的に向上し、
且つ溶解洗浄し得る物質が拡大することから、より汎用
的な洗浄剤組成物となる等の優れた特性が認められ、そ
の結果、当該組成物は、所期の目的を十分に達成し得る
洗浄剤組成物であることを見い出し、斯かる知見に基づ
いて本発明を完成するに至った。
知のフロン系洗浄剤の有する優れた特性、即ち、洗浄力
に優れ、化学的に安定であり、しかも塩素やフッ素等の
ハロゲンを全く含まず、環境を破壊する恐れのない洗浄
剤組成物を開発すべく鋭意検討を進める中で、特定の構
造を有するアセテート系化合物を溶剤成分とし、これに
特定のアミン化合物を所定量配合することにより、上記
溶剤成分単独の場合よりも洗浄性能が飛躍的に向上し、
且つ溶解洗浄し得る物質が拡大することから、より汎用
的な洗浄剤組成物となる等の優れた特性が認められ、そ
の結果、当該組成物は、所期の目的を十分に達成し得る
洗浄剤組成物であることを見い出し、斯かる知見に基づ
いて本発明を完成するに至った。
【０００５】即ち、本発明は、フロン系洗浄剤に代替し
得る新規有用な非ハロゲン系洗浄剤組成物を提供するこ
とを目的とする。
得る新規有用な非ハロゲン系洗浄剤組成物を提供するこ
とを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係る非ハロゲン
系洗浄剤組成物は、一般式（Ｉ）で表わされるアセテー
ト系化合物１００重量部に対し、一般式（ＩＩ）で表わ
されるアミン系化合物０.１〜３０重量部を配合するこ
とを特徴とする。
系洗浄剤組成物は、一般式（Ｉ）で表わされるアセテー
ト系化合物１００重量部に対し、一般式（ＩＩ）で表わ
されるアミン系化合物０.１〜３０重量部を配合するこ
とを特徴とする。
【化１】［式中、Ｒ、Ｒ’は同一又は異なって、水素原
子又は炭素数１〜４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキ
ル基又はアセチル基から選ばれた基であり、Ｒ、Ｒ’の
少なくとも一方はアセチル基である。Ａは炭素数２〜３
のアルキレン基を、ｍは１〜４の整数を示す。］
子又は炭素数１〜４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキ
ル基又はアセチル基から選ばれた基であり、Ｒ、Ｒ’の
少なくとも一方はアセチル基である。Ａは炭素数２〜３
のアルキレン基を、ｍは１〜４の整数を示す。］
【化２】［式中、Ｘ、Ｙは同一又は異なって、水素原子
又は（ＡＯ）n Ｈを表わす。但し、Ｘ、Ｙのいずれもが
水素原子であることはない。Ａは一般式（Ｉ）と同じで
ある。ｎは１〜３の整数を示す。］
又は（ＡＯ）n Ｈを表わす。但し、Ｘ、Ｙのいずれもが
水素原子であることはない。Ａは一般式（Ｉ）と同じで
ある。ｎは１〜３の整数を示す。］
【０００７】一般式（Ｉ）におけるアルキレンオキシド
としては、エチレンオキシド（以下「ＥＯ」と略記す
る。）、プロピレンオキシド（以下「ＰＯ」と略記す
る。）の夫々単独及びそれらの共付加物が例示される。
としては、エチレンオキシド（以下「ＥＯ」と略記す
る。）、プロピレンオキシド（以下「ＰＯ」と略記す
る。）の夫々単独及びそれらの共付加物が例示される。
【０００８】アルキレンオキシドの付加モル数は１〜
４、好ましくは１〜２である。ＥＯ及びＰＯの共付加物
を適用した場合には、当該洗浄剤組成物の泡立ちを抑制
することができる。
４、好ましくは１〜２である。ＥＯ及びＰＯの共付加物
を適用した場合には、当該洗浄剤組成物の泡立ちを抑制
することができる。
【０００９】本発明に係るアセテート系化合物として、
具体的にはエチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテ
ート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールジアセテート、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレ
ングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、ジ
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ト
リエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジ
プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、
トリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート等が例示され、なかでもエチレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテ
ート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート等が好ましい。
具体的にはエチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテ
ート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールジアセテート、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレ
ングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、ジ
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ト
リエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジ
プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、
トリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート等が例示され、なかでもエチレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテ
ート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート等が好ましい。
【００１０】当該アセテート系化合物は、夫々単独で又
は２種以上を組み合せて用いられ、必要に応じてテトラ
ヒドロフルフリルアルコール等の脂環式アルコール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコール
エーテル類、第二ブタノール、２−エチルヘキサノール
等の脂肪族アルコール及びそれらのＥＯ付加物を溶剤成
分として併用することもできる。
は２種以上を組み合せて用いられ、必要に応じてテトラ
ヒドロフルフリルアルコール等の脂環式アルコール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコール
エーテル類、第二ブタノール、２−エチルヘキサノール
等の脂肪族アルコール及びそれらのＥＯ付加物を溶剤成
分として併用することもできる。
【００１１】アミン系化合物としては、シクロヘキシル
アミンのＥＯ付加物やＰＯ付加物等が例示され、夫々単
独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。なかでも
シクロヘキシルアミンのＥＯ付加物を適用した場合に
は、非常に優れた溶解力を有する洗浄剤組成物を得るこ
とができる。又、シクロヘキシルアミンにアルキレンオ
キサイドを付加することにより沸点を上昇せしめ、洗浄
剤組成物としての安全性を向上するとともに、シクロヘ
キシルアミン特有の臭気を低減することができ、作業環
境上の改善を図ることができる。この場合、アルキレン
オキサイドの付加モル数は１〜６モル程度が好適であ
る。特に、２モル付加物［Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキ
シエチル）−Ｎ−シクロヘキシルアミン、商品名「ワン
ダミンＣＨＥ−２０Ｐ」、新日本理化（株）製、以下
「ＣＨＥ」と略記する。］を適用した場合には、得られ
る洗浄剤組成物の洗浄力が大きく、又、低起泡性である
ためにより一層実用的である。
アミンのＥＯ付加物やＰＯ付加物等が例示され、夫々単
独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。なかでも
シクロヘキシルアミンのＥＯ付加物を適用した場合に
は、非常に優れた溶解力を有する洗浄剤組成物を得るこ
とができる。又、シクロヘキシルアミンにアルキレンオ
キサイドを付加することにより沸点を上昇せしめ、洗浄
剤組成物としての安全性を向上するとともに、シクロヘ
キシルアミン特有の臭気を低減することができ、作業環
境上の改善を図ることができる。この場合、アルキレン
オキサイドの付加モル数は１〜６モル程度が好適であ
る。特に、２モル付加物［Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキ
シエチル）−Ｎ−シクロヘキシルアミン、商品名「ワン
ダミンＣＨＥ−２０Ｐ」、新日本理化（株）製、以下
「ＣＨＥ」と略記する。］を適用した場合には、得られ
る洗浄剤組成物の洗浄力が大きく、又、低起泡性である
ためにより一層実用的である。
【００１２】本発明に係るアセテート系化合物１００重
量部に対するアミン系化合物の配合比率は、０.５〜３
０重量部、好ましくは１〜１５重量部である。アミン系
化合物の配合量が０.５重量部に満たない場合には、被
洗浄素材に対する溶解力が低下して好ましくなく、３０
重量部を越えて配合したとしても効果上、顕著な差異は
認められず、経済上不利である。
量部に対するアミン系化合物の配合比率は、０.５〜３
０重量部、好ましくは１〜１５重量部である。アミン系
化合物の配合量が０.５重量部に満たない場合には、被
洗浄素材に対する溶解力が低下して好ましくなく、３０
重量部を越えて配合したとしても効果上、顕著な差異は
認められず、経済上不利である。
【００１３】このように、アセテート系化合物に対して
所定量のアミン系化合物を併用することにより初めて各
成分が相乗的に作用し、夫々単独で使用した場合と比較
して浸透性及び被洗浄物に対する溶解性が向上し、洗浄
性能の飛躍的な改善を図ることができる。
所定量のアミン系化合物を併用することにより初めて各
成分が相乗的に作用し、夫々単独で使用した場合と比較
して浸透性及び被洗浄物に対する溶解性が向上し、洗浄
性能の飛躍的な改善を図ることができる。
【００１４】又、酸化防止剤、防黴剤、防錆剤、消泡剤
等の添加剤を適宜配合することができる。
等の添加剤を適宜配合することができる。
【００１５】かくして得られた洗浄剤組成物を適用して
電子部品に付着した汚れを除去する方法の具体例を以下
に示す。但し、下記の処方に限定されるものではない。 (1)必要に応じて、室温〜８０℃程度の温度に調整した
洗浄剤組成物中に被洗浄物を浸漬し（１分〜数時間程
度）、汚れ成分を膨潤する。 (2)上記温度条件下で洗浄液を攪拌したり、揺動した
り、又は超音波（１０秒〜１時間程度）をかけ、又はこ
れらを併用して汚れ成分を洗浄する。 (3)洗浄後、必要に応じて水洗や炭素数１〜４の低級ア
ルコールによるすすぎ処理を施して洗浄剤成分を除去
し、乾燥する。
電子部品に付着した汚れを除去する方法の具体例を以下
に示す。但し、下記の処方に限定されるものではない。 (1)必要に応じて、室温〜８０℃程度の温度に調整した
洗浄剤組成物中に被洗浄物を浸漬し（１分〜数時間程
度）、汚れ成分を膨潤する。 (2)上記温度条件下で洗浄液を攪拌したり、揺動した
り、又は超音波（１０秒〜１時間程度）をかけ、又はこ
れらを併用して汚れ成分を洗浄する。 (3)洗浄後、必要に応じて水洗や炭素数１〜４の低級ア
ルコールによるすすぎ処理を施して洗浄剤成分を除去
し、乾燥する。
【００１６】本発明にかかる洗浄剤組成物は、油脂、鉱
油、シリコーンオイル、ワックス類、ロジン系フラック
ス、パラフィン系接着剤、ロジン系接着剤等を良く溶解
し、イオン残渣も少ない。そのため、従来、フロン系洗
浄剤が用いられてきた分野、例えば、プリント配線基
板、セラミック素子、コンデンサー、液晶表示素子等の
電子部品、ブラシ、ロータ等の電機部品、ベアリング、
チップ等の精密機械部品、カメラ、眼鏡等に使用される
光学機器部品、自動車関連部品等に付着する有機系油分
の洗浄に最適である。この場合、被洗浄物の素材は問わ
ず、金属、プラスチック、エラストマー及びそれらの複
合物等が例示される。更には、フロン系洗浄剤の代替の
みならず、他のハロゲン系洗浄剤が用いられてきた各種
分野（例えば、クリーニング用洗浄剤等）においても幅
広く適用することができる。
油、シリコーンオイル、ワックス類、ロジン系フラック
ス、パラフィン系接着剤、ロジン系接着剤等を良く溶解
し、イオン残渣も少ない。そのため、従来、フロン系洗
浄剤が用いられてきた分野、例えば、プリント配線基
板、セラミック素子、コンデンサー、液晶表示素子等の
電子部品、ブラシ、ロータ等の電機部品、ベアリング、
チップ等の精密機械部品、カメラ、眼鏡等に使用される
光学機器部品、自動車関連部品等に付着する有機系油分
の洗浄に最適である。この場合、被洗浄物の素材は問わ
ず、金属、プラスチック、エラストマー及びそれらの複
合物等が例示される。更には、フロン系洗浄剤の代替の
みならず、他のハロゲン系洗浄剤が用いられてきた各種
分野（例えば、クリーニング用洗浄剤等）においても幅
広く適用することができる。
【００１７】
【実施例】以下に実施例を掲げ、本発明を詳しく説明す
る。尚、各実施例において用いた溶剤成分は、以下のと
おりに略記する。 ＰＧＭＥＡ ：プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート ＤＧＢＥＡ ：ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート
る。尚、各実施例において用いた溶剤成分は、以下のと
おりに略記する。 ＰＧＭＥＡ ：プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート ＤＧＢＥＡ ：ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート
【００１８】実施例１ ２００mlのビーカーに下記の組成を有する洗浄剤組成物
１５０mlを入れて、これを攪拌しながら６０℃に保持
し、この中に鉱油が付着した銅板（５０×１５mm）を１
５分間攪拌洗浄した。次いで、洗浄処理後のテストピー
スを５分間水洗した後、１０５℃で３０分間乾燥した。
処理後におけるテストピース上の鉱油の残存の程度を目
視にて観察した。 ＰＧＭＥＡ １００重量部 ＣＨＥ ５ その結果、銅板の表面は清浄であり、すすぎ性も良好で
あった。
１５０mlを入れて、これを攪拌しながら６０℃に保持
し、この中に鉱油が付着した銅板（５０×１５mm）を１
５分間攪拌洗浄した。次いで、洗浄処理後のテストピー
スを５分間水洗した後、１０５℃で３０分間乾燥した。
処理後におけるテストピース上の鉱油の残存の程度を目
視にて観察した。 ＰＧＭＥＡ １００重量部 ＣＨＥ ５ その結果、銅板の表面は清浄であり、すすぎ性も良好で
あった。
【００１９】実施例２ 下記の組成を有する洗浄剤組成物を入れた超音波洗浄器
（商品名「THREE WAVEULTRASONIC CLEANER SUS-103」、
島津理化器（株）製）の水槽（６０℃）にパラフィン系
接着剤が付着したガラス製電子部品（チップの積層物）
を入れて１０分間マルチ超音波（２８、４５及び１００
KHzの３０秒間繰り返し使用、以下同様）を用いて洗浄
した。その後５分間水洗し、エタノールですすぎ処理し
た後、８０℃で１時間乾燥した。処理後のチップの剥離
状態及び付着物の残存の有無を目視にて観察した。 ＤＧＢＥＡ １００重量部 ＣＨＥ ５ その結果、被洗浄物の表面は清浄でチップの剥離状態も
良好であった。更に、すすぎ性も良好であった。
（商品名「THREE WAVEULTRASONIC CLEANER SUS-103」、
島津理化器（株）製）の水槽（６０℃）にパラフィン系
接着剤が付着したガラス製電子部品（チップの積層物）
を入れて１０分間マルチ超音波（２８、４５及び１００
KHzの３０秒間繰り返し使用、以下同様）を用いて洗浄
した。その後５分間水洗し、エタノールですすぎ処理し
た後、８０℃で１時間乾燥した。処理後のチップの剥離
状態及び付着物の残存の有無を目視にて観察した。 ＤＧＢＥＡ １００重量部 ＣＨＥ ５ その結果、被洗浄物の表面は清浄でチップの剥離状態も
良好であった。更に、すすぎ性も良好であった。
【００２０】実施例３ 実施例２と同様の洗浄器に下記の組成を有する洗浄剤組
成物を入れ、この水槽を６０℃に保ち、これにロジン系
ハンダフラックスが付着した電子素子を入れてマルチ周
波数を用いて５分間超音波洗浄した。その後水洗し、エ
タノールですすぎ処理した後、８０℃で１時間乾燥し
た。処理後の電子部品の状態を目視にて観察した。 ＰＧＭＥＡ １００重量部 ＣＨＥ ５ その結果、被洗浄物の表面は清浄で、すすぎ性も良好で
あった。
成物を入れ、この水槽を６０℃に保ち、これにロジン系
ハンダフラックスが付着した電子素子を入れてマルチ周
波数を用いて５分間超音波洗浄した。その後水洗し、エ
タノールですすぎ処理した後、８０℃で１時間乾燥し
た。処理後の電子部品の状態を目視にて観察した。 ＰＧＭＥＡ １００重量部 ＣＨＥ ５ その結果、被洗浄物の表面は清浄で、すすぎ性も良好で
あった。
【００２１】実施例４ ＰＧＭＥＡに代えてＤＧＢＥＡを用いた他は実施例３と
同様にして電子素子を洗浄した。その結果、被洗浄物の
表面は清浄で、すすぎ性も良好であった。
同様にして電子素子を洗浄した。その結果、被洗浄物の
表面は清浄で、すすぎ性も良好であった。
【００２２】実施例５ 実施例２と同様の洗浄器に下記の組成を有する洗浄剤組
成物を入れ、この水槽を２５℃に保ち、これにシリコー
ンオイルが付着した電子素子を入れてマルチ周波数を用
いて１０秒間超音波洗浄した。その後水洗し、エタノー
ルですすぎ処理した後、８０℃で１時間乾燥した。処理
後の電子部品の状態を目視にて観察した。 ＰＧＭＥＡ １００重量部 ＣＨＥ ５ その結果、被洗浄物の表面は清浄で、すすぎ性は良好で
あった。
成物を入れ、この水槽を２５℃に保ち、これにシリコー
ンオイルが付着した電子素子を入れてマルチ周波数を用
いて１０秒間超音波洗浄した。その後水洗し、エタノー
ルですすぎ処理した後、８０℃で１時間乾燥した。処理
後の電子部品の状態を目視にて観察した。 ＰＧＭＥＡ １００重量部 ＣＨＥ ５ その結果、被洗浄物の表面は清浄で、すすぎ性は良好で
あった。
【００２３】実施例６ ＰＧＭＥＡに代えてＤＧＢＥＡを用いた他は実施例５と
同様にして電子素子を洗浄した。その結果、被洗浄物の
表面は清浄で、すすぎ性も良好であった。
同様にして電子素子を洗浄した。その結果、被洗浄物の
表面は清浄で、すすぎ性も良好であった。
【００２４】比較例１ ＣＨＥを配合しない他は実施例１と同様の組成を有する
洗浄剤組成物を用いて鉱油の洗浄試験を行った。その結
果、すすぎ性は良好であったものの被洗浄物表面に鉱油
が少し残存していた。
洗浄剤組成物を用いて鉱油の洗浄試験を行った。その結
果、すすぎ性は良好であったものの被洗浄物表面に鉱油
が少し残存していた。
【００２５】比較例２ ＣＨＥを配合しない他は実施例２と同様の組成を有する
洗浄剤組成物を用いてパラフィン系接着剤の洗浄試験を
行った。その結果、すすぎ性は良好であったものの被洗
浄物表面に洗浄むらがあり、充分に剥離していないチッ
プが認められた。
洗浄剤組成物を用いてパラフィン系接着剤の洗浄試験を
行った。その結果、すすぎ性は良好であったものの被洗
浄物表面に洗浄むらがあり、充分に剥離していないチッ
プが認められた。
【００２６】比較例３ ＣＨＥを配合しない他は実施例３と同様の組成を有する
洗浄剤組成物を用いてロジン系ハンダフラックスの洗浄
試験を行った。その結果、すすぎ性は良好であったもの
の被洗浄物表面にフラックスが少し残存していた。
洗浄剤組成物を用いてロジン系ハンダフラックスの洗浄
試験を行った。その結果、すすぎ性は良好であったもの
の被洗浄物表面にフラックスが少し残存していた。
【００２７】比較例４ ＣＨＥを配合しない他は実施例７と同様の組成を有する
洗浄剤組成物を用いてシリコーンオイルの洗浄試験を行
った。その結果、すすぎ性は良好であったものの被洗浄
物表面にかなりのシリコーンオイルが残存していた。
洗浄剤組成物を用いてシリコーンオイルの洗浄試験を行
った。その結果、すすぎ性は良好であったものの被洗浄
物表面にかなりのシリコーンオイルが残存していた。
【００２８】
【発明の効果】本発明に係る非ハロゲン系洗浄剤組成物
は、下記の優れた特性を有しており、従来のフロン系洗
浄剤と代替し得るものである。即ち、 (1) 各種の被洗浄物に対して高い溶解性を示し、対象分
野が広範である。 (2) 安全性が高い。 (3) 低起泡性であるために作業性が良好である。 (4) フロンや他の塩素系洗浄剤とは異なり、全くハロゲ
ン分を含まないため、環境面での問題点がない。 (5) フロン系洗浄剤と比較して揮発逃散しにくく、回収
再使用が可能であるため、コスト的に有利である。
は、下記の優れた特性を有しており、従来のフロン系洗
浄剤と代替し得るものである。即ち、 (1) 各種の被洗浄物に対して高い溶解性を示し、対象分
野が広範である。 (2) 安全性が高い。 (3) 低起泡性であるために作業性が良好である。 (4) フロンや他の塩素系洗浄剤とは異なり、全くハロゲ
ン分を含まないため、環境面での問題点がない。 (5) フロン系洗浄剤と比較して揮発逃散しにくく、回収
再使用が可能であるため、コスト的に有利である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 7:26 7:32）
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）で表わされるアセテート系
化合物１００重量部に対し、一般式（ＩＩ）で表わされ
るアミン系化合物０.１〜３０重量部を配合することを
特徴とする非ハロゲン系洗浄剤組成物。 【化１】 ［式中、Ｒ、Ｒ’は同一又は異なって、水素原子又は炭
素数１〜４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は
アセチル基から選ばれた基であり、Ｒ、Ｒ’の少なくと
も一方はアセチル基である。Ａは炭素数２〜３のアルキ
レン基を、ｍは１〜４の整数を示す。］ 【化２】 ［式中、Ｘ、Ｙは同一又は異なって、水素原子又は（Ａ
Ｏ）n Ｈを表わす。但し、Ｘ、Ｙのいずれもが水素原子
であることはない。Ａは一般式（Ｉ）と同じである。ｎ
は１〜３の整数を示す。］ - 【請求項２】 アミン系化合物が、シクロヘキシルアミ
ンのエチレンオキシド付加物であることを特徴とする請
求項１記載の非ハロゲン系洗浄剤組成物。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22827291A JPH0543896A (ja) | 1991-08-12 | 1991-08-12 | 非ハロゲン系洗浄剤組成物 |
| PCT/JP1991/001144 WO1992004436A1 (en) | 1990-08-31 | 1991-08-28 | Halogen-free detergent composition |
| KR1019920701021A KR927003781A (ko) | 1990-08-31 | 1991-08-28 | 비할로겐 세정 조성물 |
| EP91915268A EP0500951A1 (en) | 1990-08-31 | 1991-08-28 | Halogen-free detergent composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22827291A JPH0543896A (ja) | 1991-08-12 | 1991-08-12 | 非ハロゲン系洗浄剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0543896A true JPH0543896A (ja) | 1993-02-23 |
Family
ID=16873879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22827291A Pending JPH0543896A (ja) | 1990-08-31 | 1991-08-12 | 非ハロゲン系洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0543896A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008138072A (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | The Inctec Inc | 接着剤用洗浄剤 |
-
1991
- 1991-08-12 JP JP22827291A patent/JPH0543896A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008138072A (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | The Inctec Inc | 接着剤用洗浄剤 |
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