JPH0543097Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0543097Y2 JPH0543097Y2 JP19148987U JP19148987U JPH0543097Y2 JP H0543097 Y2 JPH0543097 Y2 JP H0543097Y2 JP 19148987 U JP19148987 U JP 19148987U JP 19148987 U JP19148987 U JP 19148987U JP H0543097 Y2 JPH0543097 Y2 JP H0543097Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dielectric
- reaction vessel
- line
- plasma
- sample stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19148987U JPH0543097Y2 (OSRAM) | 1987-12-16 | 1987-12-16 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19148987U JPH0543097Y2 (OSRAM) | 1987-12-16 | 1987-12-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0194461U JPH0194461U (OSRAM) | 1989-06-21 |
| JPH0543097Y2 true JPH0543097Y2 (OSRAM) | 1993-10-29 |
Family
ID=31482396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19148987U Expired - Lifetime JPH0543097Y2 (OSRAM) | 1987-12-16 | 1987-12-16 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0543097Y2 (OSRAM) |
-
1987
- 1987-12-16 JP JP19148987U patent/JPH0543097Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0194461U (OSRAM) | 1989-06-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5036092B2 (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置 | |
| CN106835070A (zh) | 微波等离子体化学气相沉积金刚石反应装置 | |
| JPH0543097Y2 (OSRAM) | ||
| JPH0544798B2 (OSRAM) | ||
| JPH0644558B2 (ja) | マイクロ波プラズマ発生装置 | |
| JPH024976A (ja) | 薄膜形成方法 | |
| JPH0638400Y2 (ja) | マイクロ波プラズマ発生装置 | |
| JPH0673320B2 (ja) | マイクロ波プラズマ発生装置 | |
| JPH079837B2 (ja) | マイクロ波プラズマ発生装置 | |
| JP3621730B2 (ja) | マイクロ波プラズマ化学蒸着装置 | |
| JPH08165194A (ja) | マイクロ波プラズマcvdによる薄膜形成方法及び装置 | |
| JP4165944B2 (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置 | |
| JP2833044B2 (ja) | 薄膜形成方法 | |
| JPS6312377B2 (OSRAM) | ||
| JPH06101442B2 (ja) | Ecrプラズマ反応装置 | |
| JPH06299357A (ja) | 電子サイクロトロン共鳴プラズマの科学蒸着装置 | |
| JPH08199362A (ja) | マイクロ波プラズマcvd装置 | |
| JP4514291B2 (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
| JPH064898Y2 (ja) | プラズマ装置 | |
| JP2000173799A (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置 | |
| JPH0686665B2 (ja) | マイクロ波プラズマcvd法による機能性堆積膜形成装置 | |
| JPH01222060A (ja) | 薄膜形成方法および感光体 | |
| JPS62243775A (ja) | マイクロ波プラズマ発生装置 | |
| JPS6357779A (ja) | マイクロ波プラズマcvd法による機能性堆積膜形成装置 | |
| JPH05117866A (ja) | マイクロ波プラズマcvd装置 |