JPH0538480A - 耐熱絶縁塗膜の形成方法 - Google Patents
耐熱絶縁塗膜の形成方法Info
- Publication number
- JPH0538480A JPH0538480A JP34868591A JP34868591A JPH0538480A JP H0538480 A JPH0538480 A JP H0538480A JP 34868591 A JP34868591 A JP 34868591A JP 34868591 A JP34868591 A JP 34868591A JP H0538480 A JPH0538480 A JP H0538480A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating film
- heat
- resistance
- baking
- layer coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/122—Inorganic polymers, e.g. silanes, polysilazanes, polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
- C23C18/1212—Zeolites, glasses
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
- C23C18/1275—Process of deposition of the inorganic material performed under inert atmosphere
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Organic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属又は非金属基材との密着性が良好で、且
つ、耐熱性、耐水性、耐溶剤性、耐食性、高温下での電
気絶縁性に優れた塗膜を形成する。 【構成】 基材上にまず有機珪素ポリマーとシラザン化
合物と無機フィラーとを含む耐熱塗料の第一層塗膜を形
成し、次いでこの第一層塗膜上に更に有機珪素ポリマー
を含む塗料の第二層塗膜を形成する。特に第二層塗膜の
形成をアンモニア及びアンモニアと不活性ガスとの混合
ガスのいずれかの雰囲気中で焼きつけて形成せしめる。 【効果】 ４００℃以上の高温に晒されても十分に耐え
得る耐熱性を有し、かつ上述した特性を有する塗膜を形
成でき、金属基材の耐食性、耐酸化防止塗料、更には、
耐熱絶縁電線等の被覆等の用途に利用することができ
る。
つ、耐熱性、耐水性、耐溶剤性、耐食性、高温下での電
気絶縁性に優れた塗膜を形成する。 【構成】 基材上にまず有機珪素ポリマーとシラザン化
合物と無機フィラーとを含む耐熱塗料の第一層塗膜を形
成し、次いでこの第一層塗膜上に更に有機珪素ポリマー
を含む塗料の第二層塗膜を形成する。特に第二層塗膜の
形成をアンモニア及びアンモニアと不活性ガスとの混合
ガスのいずれかの雰囲気中で焼きつけて形成せしめる。 【効果】 ４００℃以上の高温に晒されても十分に耐え
得る耐熱性を有し、かつ上述した特性を有する塗膜を形
成でき、金属基材の耐食性、耐酸化防止塗料、更には、
耐熱絶縁電線等の被覆等の用途に利用することができ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は接着性が良好で、且つ、
優れた耐熱性、絶縁性を有する塗膜を形成することがで
きる耐熱絶縁塗膜の形成方法に関する。
優れた耐熱性、絶縁性を有する塗膜を形成することがで
きる耐熱絶縁塗膜の形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
高温に晒される金属又は非金属基材の酸化、腐食等を防
止し得る塗料の要求が増加してきている。しかしなが
ら、ポリエステル，ポリイミド等の有機高分子系塗料に
比べ耐熱性に優れるポリオルガノシロキサン系塗料にお
いても、その塗膜は４００℃以上の高温の空気中雰囲気
下で長時間耐えることは困難で、剥離等が生じ易かっ
た。
高温に晒される金属又は非金属基材の酸化、腐食等を防
止し得る塗料の要求が増加してきている。しかしなが
ら、ポリエステル，ポリイミド等の有機高分子系塗料に
比べ耐熱性に優れるポリオルガノシロキサン系塗料にお
いても、その塗膜は４００℃以上の高温の空気中雰囲気
下で長時間耐えることは困難で、剥離等が生じ易かっ
た。
【０００３】そこで、耐熱塗料として、（１）特開昭６
２−５４７６８号公報にはポリチタノカルボシランとシ
リコーン樹脂及び無機充填剤からなる耐熱塗料、（２）
特開昭６２−２３５３７０号公報にはポリカルボシラ
ン、シリコーン樹脂及び無機充填剤からなるものが提案
され、また、（３）特開平２−９２９６９号公報には有
機金属ポリマーとＳｉＯ2を配合した耐熱塗料、（４）
特公昭５８−５０６５８号公報にはボロシロキサン樹脂
を用いた塗料がそれぞれ提案されている。
２−５４７６８号公報にはポリチタノカルボシランとシ
リコーン樹脂及び無機充填剤からなる耐熱塗料、（２）
特開昭６２−２３５３７０号公報にはポリカルボシラ
ン、シリコーン樹脂及び無機充填剤からなるものが提案
され、また、（３）特開平２−９２９６９号公報には有
機金属ポリマーとＳｉＯ2を配合した耐熱塗料、（４）
特公昭５８−５０６５８号公報にはボロシロキサン樹脂
を用いた塗料がそれぞれ提案されている。
【０００４】しかしながら、これらの提案は以下の点で
十分満足するものではない。即ち、（１）及び（２）の
耐熱塗料は高温下での基材との密着性及び塗膜のクラッ
クの生成、更に高温下での電気絶縁性という点で満足す
るものではない。
十分満足するものではない。即ち、（１）及び（２）の
耐熱塗料は高温下での基材との密着性及び塗膜のクラッ
クの生成、更に高温下での電気絶縁性という点で満足す
るものではない。
【０００５】（３）の耐熱塗料においても、高温下での
塗膜の剥離及びクラック、電気絶縁性に欠けるという問
題がある。また、（４）の耐熱塗料においては耐水性、
高温下での電気絶縁性という点で問題がある。このよう
に、今まで提案されている方法は高温下での密着性、耐
熱性、耐水性、電気絶縁性等の諸特性を全て満足するも
のではなく、従って、このような諸特性を満足する耐熱
塗料の開発が望まれている。
塗膜の剥離及びクラック、電気絶縁性に欠けるという問
題がある。また、（４）の耐熱塗料においては耐水性、
高温下での電気絶縁性という点で問題がある。このよう
に、今まで提案されている方法は高温下での密着性、耐
熱性、耐水性、電気絶縁性等の諸特性を全て満足するも
のではなく、従って、このような諸特性を満足する耐熱
塗料の開発が望まれている。
【０００６】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
金属又は非金属基材との密着性が良好で、且つ、耐熱
性、耐水性、耐溶剤性、耐食性、高温下での電気絶縁性
に優れた塗膜を形成する方法を提供することを目的とす
る。
金属又は非金属基材との密着性が良好で、且つ、耐熱
性、耐水性、耐溶剤性、耐食性、高温下での電気絶縁性
に優れた塗膜を形成する方法を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は上記
目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、基材上にま
ず有機珪素ポリマーとシラザン化合物と無機フィラーと
を含む耐熱塗料の第一層塗膜を形成し、次いでこの第一
層塗膜上に更に有機珪素ポリマーを含む塗料の第二層塗
膜を形成すること、特に第二層塗膜をアンモニア及びア
ンモニアと不活性ガスとの混合ガスのいずれかの雰囲気
中で焼きつけて形成せしめることにより、耐熱性、耐水
性、密着性、耐溶剤性、電気絶縁性等の性能が良好な塗
膜が得られることを知見し、本発明をなすに至ったもの
である。
目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、基材上にま
ず有機珪素ポリマーとシラザン化合物と無機フィラーと
を含む耐熱塗料の第一層塗膜を形成し、次いでこの第一
層塗膜上に更に有機珪素ポリマーを含む塗料の第二層塗
膜を形成すること、特に第二層塗膜をアンモニア及びア
ンモニアと不活性ガスとの混合ガスのいずれかの雰囲気
中で焼きつけて形成せしめることにより、耐熱性、耐水
性、密着性、耐溶剤性、電気絶縁性等の性能が良好な塗
膜が得られることを知見し、本発明をなすに至ったもの
である。
【０００８】従って、本発明は、有機珪素ポリマー、シ
ラザン化合物及び無機フィラーを含む耐熱塗料を基材上
に塗布した後、焼成を行なって第一塗膜を形成し、次い
で有機ポリマーを含む塗料を上記第一層塗膜に塗布した
後、焼成を行なって第二層塗膜を形成することを特徴と
する耐熱絶縁塗膜の形成方法を提供する。
ラザン化合物及び無機フィラーを含む耐熱塗料を基材上
に塗布した後、焼成を行なって第一塗膜を形成し、次い
で有機ポリマーを含む塗料を上記第一層塗膜に塗布した
後、焼成を行なって第二層塗膜を形成することを特徴と
する耐熱絶縁塗膜の形成方法を提供する。
【０００９】以下、本発明につき更に詳述すると、本発
明において、第一塗膜を形成する耐熱塗料は、有機珪素
ポリマー、シラザン化合物、無機フィラーを含有する。
明において、第一塗膜を形成する耐熱塗料は、有機珪素
ポリマー、シラザン化合物、無機フィラーを含有する。
【００１０】この場合、有機珪素ポリマーとしてはポリ
カルボシラン及びポリシラザンが好適に用いられる。こ
こで、ポリカルボシランとしては具体的には特公昭５７
−２６５２７号公報等で公知のものが挙げられ、これら
ポリカルボシランは例えばジメチルジクロロシランと金
属ナトリウムを反応させてポリシランを得た後、該ポリ
シランを熱分解重合する等の方法で合成することができ
る。
カルボシラン及びポリシラザンが好適に用いられる。こ
こで、ポリカルボシランとしては具体的には特公昭５７
−２６５２７号公報等で公知のものが挙げられ、これら
ポリカルボシランは例えばジメチルジクロロシランと金
属ナトリウムを反応させてポリシランを得た後、該ポリ
シランを熱分解重合する等の方法で合成することができ
る。
【００１１】また、ポリシラザンとしては、本出願人が
特開昭６２−２９０７３０号公報、特開昭６３−１１７
０３７号公報、特開昭６３−１９３９００号公報、特開
昭６３−２１０１３３号公報、特開平１−１５３７３０
号公報、特願平１−１８５７５６号、特願平１−２１６
０９３号、特願平１−３３０１０８号、特願平１−３３
０１０９号等に提案したポリシラザンが例示される。
特開昭６２−２９０７３０号公報、特開昭６３−１１７
０３７号公報、特開昭６３−１９３９００号公報、特開
昭６３−２１０１３３号公報、特開平１−１５３７３０
号公報、特願平１−１８５７５６号、特願平１−２１６
０９３号、特願平１−３３０１０８号、特願平１−３３
０１０９号等に提案したポリシラザンが例示される。
【００１２】上記有機珪素ポリマーの重合度は塗膜性
能、特に塗膜クラック等の影響を及ぼすことがあるの
で、ポリカルボシランはその数平均分子量が５００〜５
０００、特に６００〜２０００、より好ましくは６５０
〜１２００となるような重合度をもつものが好ましい。
また、ポリシラザンの数平均分子量は４００〜３００
０、好ましくは５００〜２０００、より好ましくは５５
０〜１２００程度のものが好ましい。数平均分子量が上
記値に満たないと、塗料として使用する場合、基材との
密着性が悪くなることがあり、上記値を超えると塗膜に
クラックが生じ、その後の焼付けの段階で塗膜が剥離す
るという問題が生じる場合がある。
能、特に塗膜クラック等の影響を及ぼすことがあるの
で、ポリカルボシランはその数平均分子量が５００〜５
０００、特に６００〜２０００、より好ましくは６５０
〜１２００となるような重合度をもつものが好ましい。
また、ポリシラザンの数平均分子量は４００〜３００
０、好ましくは５００〜２０００、より好ましくは５５
０〜１２００程度のものが好ましい。数平均分子量が上
記値に満たないと、塗料として使用する場合、基材との
密着性が悪くなることがあり、上記値を超えると塗膜に
クラックが生じ、その後の焼付けの段階で塗膜が剥離す
るという問題が生じる場合がある。
【００１３】これら有機珪素ポリマーは１種類を単独で
使用しても、あるいは２種類以上を混合して使用しても
よく、また、その配合量は全結合剤成分（有機珪素ポリ
マー、シラザン化合物及び無機フィラー）全体の５〜５
０％（重量％、以下同様）、特に１５〜３０％とするこ
とが好ましい。配合量が５％に満たないと十分な密着
性、耐熱性、塗膜硬度が得られない場合があり、５０％
を超えると焼付け後の塗膜にクラックが生じる場合があ
る。
使用しても、あるいは２種類以上を混合して使用しても
よく、また、その配合量は全結合剤成分（有機珪素ポリ
マー、シラザン化合物及び無機フィラー）全体の５〜５
０％（重量％、以下同様）、特に１５〜３０％とするこ
とが好ましい。配合量が５％に満たないと十分な密着
性、耐熱性、塗膜硬度が得られない場合があり、５０％
を超えると焼付け後の塗膜にクラックが生じる場合があ
る。
【００１４】なお、上記有機珪素ポリマーは通常不活性
ガス（例えばＮ2，Ａｒ等）中で加熱焼成することによ
りＳｉＣ，Ｓｉ3Ｎ4等に変換されるものであるが、塗装
後に空気中で焼成した場合はＳｉＯ2質が主体で一部Ｓ
ｉＣ，Ｓｉ3Ｎ4のセラミックスとなる。それ故、かかる
雰囲気で焼成することにより、耐熱性に優れた塗膜を形
成することができる。
ガス（例えばＮ2，Ａｒ等）中で加熱焼成することによ
りＳｉＣ，Ｓｉ3Ｎ4等に変換されるものであるが、塗装
後に空気中で焼成した場合はＳｉＯ2質が主体で一部Ｓ
ｉＣ，Ｓｉ3Ｎ4のセラミックスとなる。それ故、かかる
雰囲気で焼成することにより、耐熱性に優れた塗膜を形
成することができる。
【００１５】次に、第２必須成分のシラザン化合物とし
ては、例えばテトラメチルジシラザン，ヘキサメチルシ
クロトリシラザン，オクタメチルシクロテトラシラザン
等が好適に使用され、これらのうちの１種類を単独で又
は２種類を併用して用いることができる。
ては、例えばテトラメチルジシラザン，ヘキサメチルシ
クロトリシラザン，オクタメチルシクロテトラシラザン
等が好適に使用され、これらのうちの１種類を単独で又
は２種類を併用して用いることができる。
【００１６】シラザン化合物の配合量は、全結合成分全
体の５〜４０％、特に１０〜３０％とすることが好まし
く、配合量が５％に満たないと電気絶縁性が悪くなる場
合があり、４０％より多いと塗膜硬度及び密着性が低下
することがある。
体の５〜４０％、特に１０〜３０％とすることが好まし
く、配合量が５％に満たないと電気絶縁性が悪くなる場
合があり、４０％より多いと塗膜硬度及び密着性が低下
することがある。
【００１７】更に、第３必須成分の無機フィラーとして
は、例えばＡｌ2Ｏ3，ＳｉＯ2，Ｆｅ2Ｏ3，ＴｉＯ2，Ｍ
ｇＯ，ＺｒＯ2−ＳｉＯ2，Ａｌ2Ｏ3・２ＳｉＯ2，Ｚｎ
Ｏ，Ｓｉ3Ｎ4，ＳｉＣ，ＢＮ等の１種類を単独で又は２
種以上を混合して用いることができる。これらの無機フ
ィラーの平均粒径は特に限定されないが、０．１〜３０
μｍ、特に１〜５μｍの粉末であることが好ましい。
は、例えばＡｌ2Ｏ3，ＳｉＯ2，Ｆｅ2Ｏ3，ＴｉＯ2，Ｍ
ｇＯ，ＺｒＯ2−ＳｉＯ2，Ａｌ2Ｏ3・２ＳｉＯ2，Ｚｎ
Ｏ，Ｓｉ3Ｎ4，ＳｉＣ，ＢＮ等の１種類を単独で又は２
種以上を混合して用いることができる。これらの無機フ
ィラーの平均粒径は特に限定されないが、０．１〜３０
μｍ、特に１〜５μｍの粉末であることが好ましい。
【００１８】上記無機フィラー配合割合は、全結合剤成
分全体の１０〜７０％、特に３０〜５０％とすることが
好ましく、配合量が１０％未満では塗膜性あるいは塗膜
のピンホール等の問題が生じる場合があり、７０％以上
では塗膜の密着性が低下する場合がある。
分全体の１０〜７０％、特に３０〜５０％とすることが
好ましく、配合量が１０％未満では塗膜性あるいは塗膜
のピンホール等の問題が生じる場合があり、７０％以上
では塗膜の密着性が低下する場合がある。
【００１９】更に、本発明の第一層を形成する塗料は、
上述した有機珪素ポリマー、シラザン化合物、無機フィ
ラーを必須成分とするが、これらは有機溶剤に溶解・分
散させて使用することができる。有機溶剤としては、例
えばヘキサン，ベンゼン，トルエン，キシレン，Ｎ−メ
チルピロリドン等が挙げられる。その濃度は特に制限さ
れないが、全結合剤成分１００重量部に対して有機溶剤
５０〜５００重量部とすることができる。
上述した有機珪素ポリマー、シラザン化合物、無機フィ
ラーを必須成分とするが、これらは有機溶剤に溶解・分
散させて使用することができる。有機溶剤としては、例
えばヘキサン，ベンゼン，トルエン，キシレン，Ｎ−メ
チルピロリドン等が挙げられる。その濃度は特に制限さ
れないが、全結合剤成分１００重量部に対して有機溶剤
５０〜５００重量部とすることができる。
【００２０】本発明の耐熱塗料で第一層を形成する場合
は、公知の方法で処理した金属部材、非金属部材等の基
材表面に刷毛，スプレーコート，フローコート，ディッ
プコート，ロールコート等の方法で塗布した後、焼付け
を行なうことで塗膜を形成することができる。
は、公知の方法で処理した金属部材、非金属部材等の基
材表面に刷毛，スプレーコート，フローコート，ディッ
プコート，ロールコート等の方法で塗布した後、焼付け
を行なうことで塗膜を形成することができる。
【００２１】この場合、塗膜の厚さは一般に２０〜１５
０μｍ、特に３０〜１００μｍの範囲であることが好ま
しく、厚さが２０μｍ未満ではピンホールが発生し、防
食性が低下する場合があり、１５０μｍより厚いと焼付
け終了時に塗膜が一部剥離する場合がある。
０μｍ、特に３０〜１００μｍの範囲であることが好ま
しく、厚さが２０μｍ未満ではピンホールが発生し、防
食性が低下する場合があり、１５０μｍより厚いと焼付
け終了時に塗膜が一部剥離する場合がある。
【００２２】焼付けは空気中で２００℃以上の温度で１
５〜６０分程度行なうことが望ましく、温度が２００℃
より低いと塗膜の強度が低く、硬度が十分でなくなる場
合がある。なお、焼付け条件としては、特に２５０℃以
下で１５〜３０分間予備焼付け後、更に４００〜７００
℃で１５〜６０分間本焼付けを行なうことが好ましい。
また、必要により不活性ガス雰囲気や他の雰囲気で焼付
けを行なうこともできる。
５〜６０分程度行なうことが望ましく、温度が２００℃
より低いと塗膜の強度が低く、硬度が十分でなくなる場
合がある。なお、焼付け条件としては、特に２５０℃以
下で１５〜３０分間予備焼付け後、更に４００〜７００
℃で１５〜６０分間本焼付けを行なうことが好ましい。
また、必要により不活性ガス雰囲気や他の雰囲気で焼付
けを行なうこともできる。
【００２３】このようにして、第一層の塗膜を形成でき
るが、この第一層の塗膜のみでは高温下での電気絶縁性
が満足でない場合があり、このため本発明はこのように
して形成した第一層の塗膜に更に高温下での電気絶縁性
の良好な塗膜を形成するため第二層の有機珪素ポリマー
の塗膜を形成する。
るが、この第一層の塗膜のみでは高温下での電気絶縁性
が満足でない場合があり、このため本発明はこのように
して形成した第一層の塗膜に更に高温下での電気絶縁性
の良好な塗膜を形成するため第二層の有機珪素ポリマー
の塗膜を形成する。
【００２４】第二層の塗膜の形成方法は、有機珪素ポリ
マー、好ましくは有機溶剤に溶解した溶液を第一層の塗
膜上に塗布するものである。ここで、有機珪素ポリマー
としては前述したポリカルボシラン，ポリシラザンを使
用する。ポリカルボシランとしては前述したように特公
昭５７−２６５２７号公報記載の方法で合成したもの等
を用いればよい。また、ポリシラザンも前述した如く本
出願人らが先に提案した方法により合成したもの等を用
いればよい。
マー、好ましくは有機溶剤に溶解した溶液を第一層の塗
膜上に塗布するものである。ここで、有機珪素ポリマー
としては前述したポリカルボシラン，ポリシラザンを使
用する。ポリカルボシランとしては前述したように特公
昭５７−２６５２７号公報記載の方法で合成したもの等
を用いればよい。また、ポリシラザンも前述した如く本
出願人らが先に提案した方法により合成したもの等を用
いればよい。
【００２５】また、用いる有機珪素ポリマーの重合度は
塗膜のクラック等の点から、ポリカルボシランの場合は
数平均分子量５００〜５０００、特に６００〜２００
０、より好ましくは６５０〜１２００のもの、ポリシラ
ザンの場合は数平均分子量４００〜３０００、特に５０
０〜２０００、より好ましくは５５０〜１２００のもの
を用いるのがよい。これら有機珪素ポリマーは有機溶剤
に溶解して使用することが好ましいが、この場合、有機
溶剤はヘキサン，トルエン，ベンゼン，キシレン等が使
用可能である。更に、溶剤の使用量は用いる有機珪素ポ
リマー及び塗膜の膜厚によっても異なるが、およそ１０
〜７０％、好ましくは３０〜６０％程度に希釈して使用
するのがよい。ここで、塗布方法はディプコート，スプ
レーコート等で実施すればよい。
塗膜のクラック等の点から、ポリカルボシランの場合は
数平均分子量５００〜５０００、特に６００〜２００
０、より好ましくは６５０〜１２００のもの、ポリシラ
ザンの場合は数平均分子量４００〜３０００、特に５０
０〜２０００、より好ましくは５５０〜１２００のもの
を用いるのがよい。これら有機珪素ポリマーは有機溶剤
に溶解して使用することが好ましいが、この場合、有機
溶剤はヘキサン，トルエン，ベンゼン，キシレン等が使
用可能である。更に、溶剤の使用量は用いる有機珪素ポ
リマー及び塗膜の膜厚によっても異なるが、およそ１０
〜７０％、好ましくは３０〜６０％程度に希釈して使用
するのがよい。ここで、塗布方法はディプコート，スプ
レーコート等で実施すればよい。
【００２６】なお、この有機珪素ポリマーの塗膜の厚さ
は５０〜１５０μｍ、特に１０〜５０μｍである。
は５０〜１５０μｍ、特に１０〜５０μｍである。
【００２７】このようにして塗布した後、塗膜を乾燥さ
せ、次いで焼付けを行なう。焼付けの雰囲気はアンモニ
アガス及びアンモニアガスと不活性ガスとの混合ガス中
のいずれかで実施することが好ましい。なお、焼付け時
のアンモニアガス濃度は１０〜１００％、より好ましく
は５０〜１００％とするのがよい。アンモニアガス中で
焼付けを行なうことによりポリカルボシラン及びポリシ
ラザンはＳｉ3Ｎ4質に変換できるため、高温下でも電気
絶縁性の低下しない塗膜が形成可能となる。一方、焼付
け雰囲気を上記雰囲気以外、例えば不活性ガス中で実施
した場合は、ポリカルボシランの場合はＳｉＣと余剰の
カーボン質となり、ポリシラザンを使用した場合はＳｉ
Ｃ，Ｓｉ3Ｎ4の混合系となるため、高温下での電気絶縁
性が十分なものが得られず、空気中で焼きつけた場合は
塗膜はＳｉＯ2となるが、高温下での電気絶縁性が十分
でないことと、更には密着性及び塗膜の硬度が十分なも
のが得られない場合があるので、上記雰囲気下とするこ
とが好ましい。
せ、次いで焼付けを行なう。焼付けの雰囲気はアンモニ
アガス及びアンモニアガスと不活性ガスとの混合ガス中
のいずれかで実施することが好ましい。なお、焼付け時
のアンモニアガス濃度は１０〜１００％、より好ましく
は５０〜１００％とするのがよい。アンモニアガス中で
焼付けを行なうことによりポリカルボシラン及びポリシ
ラザンはＳｉ3Ｎ4質に変換できるため、高温下でも電気
絶縁性の低下しない塗膜が形成可能となる。一方、焼付
け雰囲気を上記雰囲気以外、例えば不活性ガス中で実施
した場合は、ポリカルボシランの場合はＳｉＣと余剰の
カーボン質となり、ポリシラザンを使用した場合はＳｉ
Ｃ，Ｓｉ3Ｎ4の混合系となるため、高温下での電気絶縁
性が十分なものが得られず、空気中で焼きつけた場合は
塗膜はＳｉＯ2となるが、高温下での電気絶縁性が十分
でないことと、更には密着性及び塗膜の硬度が十分なも
のが得られない場合があるので、上記雰囲気下とするこ
とが好ましい。
【００２８】なお、焼付け時の温度は一般に４００〜８
００℃の範囲、好ましくは６００〜７００℃で実施する
のがよい。４００℃より低いと窒化反応が進まないこと
と、十分な塗膜硬度の塗膜が形成できないので好ましく
ない。一方、８００℃より高い温度では金属基材がアン
モニアガスで浸されるので好ましくない。
００℃の範囲、好ましくは６００〜７００℃で実施する
のがよい。４００℃より低いと窒化反応が進まないこと
と、十分な塗膜硬度の塗膜が形成できないので好ましく
ない。一方、８００℃より高い温度では金属基材がアン
モニアガスで浸されるので好ましくない。
【００２９】このようにして得られた塗膜は耐熱性、密
着性、電気絶縁性等、諸特性が優れたものである。
着性、電気絶縁性等、諸特性が優れたものである。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の方法によ
れば、金属又は非金属基材との密着性が良好で、且つ、
耐熱性に優れ、４００℃以上の高温に晒されても十分に
耐え得る上、塗膜硬度、高温下での電気絶縁性、耐水
性、耐薬品性、耐溶剤性等の特性に優れた塗膜を形成で
きるもので、例えば金属基材の耐食性、耐酸化防止塗
料、更には、耐熱絶縁電線等の被覆等の用途に利用する
ことができる。
れば、金属又は非金属基材との密着性が良好で、且つ、
耐熱性に優れ、４００℃以上の高温に晒されても十分に
耐え得る上、塗膜硬度、高温下での電気絶縁性、耐水
性、耐薬品性、耐溶剤性等の特性に優れた塗膜を形成で
きるもので、例えば金属基材の耐食性、耐酸化防止塗
料、更には、耐熱絶縁電線等の被覆等の用途に利用する
ことができる。
【００３１】
【実施例】以下、実施例と比較例を示して本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるもの
ではない。
的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるもの
ではない。
【００３２】［実施例，比較例］表１に示したような配
合で塗料を調製した。次に、これらの塗料を予め＃２４
０サンドペーパーで研磨後、油分を除去洗浄した大きさ
５０ｍｍ×５０ｍｍ×３ｍｍのステンレス板にバーコー
ターにて厚さが７０μｍになるように塗布し、室温にて
乾燥させた。次いで、表１に示した雰囲気で各々の温度
で焼きつけた。続いて、表１に示す配合の第二層塗料を
調製し、バーコーターにて厚さが１０μｍになるように
塗布し、乾燥させた後、表１に示した雰囲気で各々の温
度で焼きつけた。このようにして得られた塗装鋼板に対
して下記の（１）〜（８）の性能試験を実施した。結果
を表１に併記する。
合で塗料を調製した。次に、これらの塗料を予め＃２４
０サンドペーパーで研磨後、油分を除去洗浄した大きさ
５０ｍｍ×５０ｍｍ×３ｍｍのステンレス板にバーコー
ターにて厚さが７０μｍになるように塗布し、室温にて
乾燥させた。次いで、表１に示した雰囲気で各々の温度
で焼きつけた。続いて、表１に示す配合の第二層塗料を
調製し、バーコーターにて厚さが１０μｍになるように
塗布し、乾燥させた後、表１に示した雰囲気で各々の温
度で焼きつけた。このようにして得られた塗装鋼板に対
して下記の（１）〜（８）の性能試験を実施した。結果
を表１に併記する。
【００３３】（１）塗膜硬度 ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準じ、鉛筆ひっかき試験法によ
り塗膜に傷がつく鉛筆硬度で評価した。
り塗膜に傷がつく鉛筆硬度で評価した。
【００３４】（２）密着性 ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準じ、試験片の表面に１ｍｍ間
隔のゴバン目（ます目）を刻み、その上に粘着テープを
接着した後、引き剥し、塗膜の残っているゴバン目の数
を調べた。
隔のゴバン目（ます目）を刻み、その上に粘着テープを
接着した後、引き剥し、塗膜の残っているゴバン目の数
を調べた。
【００３５】（３）電気絶縁性 ＪＩＳ−Ｃ−１３０３に準じ、直流５００Ｖで測定し
た。
た。
【００３６】（４）耐熱性 空気中７００℃で１０００時間加熱した後、冷却し、塗
膜のクラックの有無及び塗膜の剥離の有無を調べた。
膜のクラックの有無及び塗膜の剥離の有無を調べた。
【００３７】（５）耐水性 ８０℃温水下に浸漬し、１０００時間処理した後の塗膜
のクラックの有無及び剥離の有無を調べた。
のクラックの有無及び剥離の有無を調べた。
【００３８】（６）耐アルカリ性 １０％ＮａＯＨ水溶液に浸漬し、１０００時間処理した
後の塗膜のクラックの有無及び剥離の有無を調べた。
後の塗膜のクラックの有無及び剥離の有無を調べた。
【００３９】（７）耐食性 １０％ＨＣｌ水溶液に浸漬し、１０００時間処理した後
の塗膜のクラックの有無及び剥離の有無を調べた。
の塗膜のクラックの有無及び剥離の有無を調べた。
【００４０】（８）耐溶剤性 キシレンに浸漬し、１０００時間処理した後の塗膜のク
ラックの有無及び剥離の状態を調べた。
ラックの有無及び剥離の状態を調べた。
【００４１】なお、有機珪素ポリマーは下記参考例に示
した方法で合成したものを用いた。
した方法で合成したものを用いた。
【００４２】［ポリカルボシランの合成］ （参考例１）５リットルの三口フラスコに無水キシレン
２．５リットルと金属ナトリウム４００ｇを入れ、窒素
ガス気流下でキシレンの沸点まで加熱して金属ナトリウ
ムを溶解、分散させた後、ジメチルジクロロシラン１リ
ットルを１時間かけて滴下した。滴下終了後、加熱還流
して反応を完結させた。次に、生成した沈殿物を濾過
し、その後メタノールにて洗浄し、更に水洗いして白色
粉末のポリシラン４００ｇを得た。次いで、得られたポ
リシラン４００ｇをガス導入管、撹拌機、冷却器及び留
出管を装備したオートクレーブに仕込み、５ｋｇ／ｃｍ
2Ｇの加圧下、４５０℃にて重合してポリカルボシラン
を得た。このものの数平均分子量は１２５０であった。
（重合体Ａ）
２．５リットルと金属ナトリウム４００ｇを入れ、窒素
ガス気流下でキシレンの沸点まで加熱して金属ナトリウ
ムを溶解、分散させた後、ジメチルジクロロシラン１リ
ットルを１時間かけて滴下した。滴下終了後、加熱還流
して反応を完結させた。次に、生成した沈殿物を濾過
し、その後メタノールにて洗浄し、更に水洗いして白色
粉末のポリシラン４００ｇを得た。次いで、得られたポ
リシラン４００ｇをガス導入管、撹拌機、冷却器及び留
出管を装備したオートクレーブに仕込み、５ｋｇ／ｃｍ
2Ｇの加圧下、４５０℃にて重合してポリカルボシラン
を得た。このものの数平均分子量は１２５０であった。
（重合体Ａ）
【００４３】（参考例２）上記と同様な方法でオートク
レーブ中５ｋｇ／ｃｍ2Ｇ加圧下で４３０℃にて重合し
て、数平均分子量９００のポリカルボシランを得た。
（重合体Ｂ）
レーブ中５ｋｇ／ｃｍ2Ｇ加圧下で４３０℃にて重合し
て、数平均分子量９００のポリカルボシランを得た。
（重合体Ｂ）
【００４４】［ポリシラザンの合成］ （参考例３）撹拌機、温度計、ＮＨ3導入管、深冷コン
デンサーを装備し、乾燥した１リットルの４つ口フラス
コにヘキサン８５０ｍｌを仕込んだ後、メチルジクロロ
シラン４０．３ｇ、メチルトリクロロシラン７．５ｇ、
ジメチルジクロロシラン１２．９ｇを加え、−２０℃に
冷却した。過剰の気体状アンモニアを１２リットル／Ｈ
ｒの速度で４時間この溶液に加えて反応させた。次い
で、反応混合物を室温まで温め、その際未反応のアンモ
ニアが逃げられるように冷却器を室冷凝縮器に変えた。
次に、副生した塩化アンモニウムを濾過により除去し、
更に溶媒のヘキサンをストリップして液体シラザン２
７．３ｇを得た。
デンサーを装備し、乾燥した１リットルの４つ口フラス
コにヘキサン８５０ｍｌを仕込んだ後、メチルジクロロ
シラン４０．３ｇ、メチルトリクロロシラン７．５ｇ、
ジメチルジクロロシラン１２．９ｇを加え、−２０℃に
冷却した。過剰の気体状アンモニアを１２リットル／Ｈ
ｒの速度で４時間この溶液に加えて反応させた。次い
で、反応混合物を室温まで温め、その際未反応のアンモ
ニアが逃げられるように冷却器を室冷凝縮器に変えた。
次に、副生した塩化アンモニウムを濾過により除去し、
更に溶媒のヘキサンをストリップして液体シラザン２
７．３ｇを得た。
【００４５】次いで、３００ｍｌフラスコに撹拌機、温
度計、滴下ロート、ガス導入管を装備した。これに水素
化カリウム０．２ｇ及びテトラヒドロフラン１２５ｍｌ
を注入し、室温にて滴下ロートよりテトラヒドロフラン
７５ｍｌに溶解した上記液体状シラザン２７．３ｇを加
えた。この添加の間に大量のガスの発生が認められた。
更に温度を上げ、６０℃にて２時間反応させ、反応を完
結させた。次いで、反応液を冷却した後、ヨウ化メチル
２．５ｇを、加えるとＫＩの白色沈殿が生成した。大部
分のテトラヒドロフランを除去し、残留する白色スラリ
ーにヘキサン８０ｍｌを加えた。この混合物を濾過し、
濾液を減圧下（１ｍｍＨｇ）、７０℃にてヘキサンを除
去すると、固体状のシラザン重合体２５．３ｇが得られ
た。このものは数平均分子量１２００であった。（重合
体Ｃ）
度計、滴下ロート、ガス導入管を装備した。これに水素
化カリウム０．２ｇ及びテトラヒドロフラン１２５ｍｌ
を注入し、室温にて滴下ロートよりテトラヒドロフラン
７５ｍｌに溶解した上記液体状シラザン２７．３ｇを加
えた。この添加の間に大量のガスの発生が認められた。
更に温度を上げ、６０℃にて２時間反応させ、反応を完
結させた。次いで、反応液を冷却した後、ヨウ化メチル
２．５ｇを、加えるとＫＩの白色沈殿が生成した。大部
分のテトラヒドロフランを除去し、残留する白色スラリ
ーにヘキサン８０ｍｌを加えた。この混合物を濾過し、
濾液を減圧下（１ｍｍＨｇ）、７０℃にてヘキサンを除
去すると、固体状のシラザン重合体２５．３ｇが得られ
た。このものは数平均分子量１２００であった。（重合
体Ｃ）
【００４６】（参考例４）撹拌機、温度計、ガス導入
管、コンデンサーを装備し、乾燥した２リットルの４つ
口フラスコにトルエン１．５リットルを仕込み、更にメ
チルトリクロロシラン１４９．５ｇ（１モル）及びトリ
メチルクロロシラン２６１ｇ（２．４モル）を仕込ん
だ。次いで、室温下でアンモニアガスを９０リットル／
分の速度で３時間この溶液に加えた（ＮＨ3全添加量１
２モル）。更に、撹拌しながら１時間室温下で熟成して
反応を完結させた。副生した塩化アンモニウムを濾過に
より除去するとともに、塩化アンモニウムをトルエン２
リットルで洗浄し、得られた濾液を１２０℃，３０Ｔｏ
ｒｒ下でトルエンをストリップして無色透明のシラザン
化合物８９ｇを得た。このものは分子量４３６であっ
た。
管、コンデンサーを装備し、乾燥した２リットルの４つ
口フラスコにトルエン１．５リットルを仕込み、更にメ
チルトリクロロシラン１４９．５ｇ（１モル）及びトリ
メチルクロロシラン２６１ｇ（２．４モル）を仕込ん
だ。次いで、室温下でアンモニアガスを９０リットル／
分の速度で３時間この溶液に加えた（ＮＨ3全添加量１
２モル）。更に、撹拌しながら１時間室温下で熟成して
反応を完結させた。副生した塩化アンモニウムを濾過に
より除去するとともに、塩化アンモニウムをトルエン２
リットルで洗浄し、得られた濾液を１２０℃，３０Ｔｏ
ｒｒ下でトルエンをストリップして無色透明のシラザン
化合物８９ｇを得た。このものは分子量４３６であっ
た。
【００４７】次いで、得られたシラザン化合物８９ｇを
温度計、撹拌機、コンデンサーを装備した３００ｍｌフ
ラスコに仕込んだ後、Ｎ2ガス気流下にて反応器内を置
換し、温度をゆっくりと上げた。２７０℃になったとこ
ろで低分子量物が留出した。更に温度を３００℃まで上
げ、この温度で２時間保持した後、フラスコを冷却する
と薄黄色の固体５５ｇが得られた。このものの数平均分
子量は１０７０であった。（重合体Ｄ）
温度計、撹拌機、コンデンサーを装備した３００ｍｌフ
ラスコに仕込んだ後、Ｎ2ガス気流下にて反応器内を置
換し、温度をゆっくりと上げた。２７０℃になったとこ
ろで低分子量物が留出した。更に温度を３００℃まで上
げ、この温度で２時間保持した後、フラスコを冷却する
と薄黄色の固体５５ｇが得られた。このものの数平均分
子量は１０７０であった。（重合体Ｄ）
【００４８】
【表１】 表中、成分の数値は重量％である。
【００４９】表に示した結果から明らかなように、本発
明の方法で得られた塗膜は基材との密着性、硬度、絶縁
性、耐熱性、耐水性、耐薬品性等の諸性能に優れたもの
であった。
明の方法で得られた塗膜は基材との密着性、硬度、絶縁
性、耐熱性、耐水性、耐薬品性等の諸性能に優れたもの
であった。
フロントページの続き (72)発明者 伊藤 健一 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の １ 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内
Claims (2)
- 【請求項１】 有機珪素ポリマー、シラザン化合物及び
無機フィラーを含む耐熱塗料を基材上に塗布した後、焼
成を行なって第一層塗膜を形成し、次いで有機珪素ポリ
マーを含む塗料を上記第一層塗膜に塗布した後、焼成を
行なって第二層塗膜を形成することを特徴とする耐熱絶
縁塗膜の形成方法。 - 【請求項２】 第二層の塗膜の焼成をアンモニアガス又
はアンモニアガスと不活性ガスとの混合ガス中で行なう
ようにした請求項１記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-405378 | 1990-12-05 | ||
| JP40537890 | 1990-12-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0538480A true JPH0538480A (ja) | 1993-02-19 |
Family
ID=18514981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34868591A Pending JPH0538480A (ja) | 1990-12-05 | 1991-12-05 | 耐熱絶縁塗膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0538480A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014188981A1 (ja) * | 2013-05-21 | 2014-11-27 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム |
| WO2015020011A1 (ja) * | 2013-08-07 | 2015-02-12 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム |
| CN104529373A (zh) * | 2014-12-15 | 2015-04-22 | 河南勃达微波设备有限责任公司 | 一种耐高温防腐蚀坩埚 |
-
1991
- 1991-12-05 JP JP34868591A patent/JPH0538480A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014188981A1 (ja) * | 2013-05-21 | 2014-11-27 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム |
| WO2015020011A1 (ja) * | 2013-08-07 | 2015-02-12 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム |
| US20160186009A1 (en) * | 2013-08-07 | 2016-06-30 | Konica Minolta, Inc. | Gas barrier film |
| JPWO2015020011A1 (ja) * | 2013-08-07 | 2017-03-02 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム |
| CN104529373A (zh) * | 2014-12-15 | 2015-04-22 | 河南勃达微波设备有限责任公司 | 一种耐高温防腐蚀坩埚 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2844896B2 (ja) | 耐熱性絶縁塗料 | |
| US7649071B2 (en) | Branched polysiloxane composition | |
| US5254411A (en) | Formation of heat-resistant dielectric coatings | |
| US3455732A (en) | Heat-resistant silicone resin coating | |
| EP0217129B1 (en) | Heat-resistant paint comprising polymetallocarbosilane | |
| JPH11116815A (ja) | ポリシラザン含有組成物及びシリカ質膜の形成方法 | |
| JPH07278497A (ja) | 被覆用塗料組成物 | |
| JPH0538480A (ja) | 耐熱絶縁塗膜の形成方法 | |
| JPH0422190B2 (ja) | ||
| EP0994158B1 (en) | Process for forming fired film using an organopolysiloxane composition | |
| JPH10152561A (ja) | ポリボロシロキサンの製造方法、ポリボロシロキサン塗膜及び該塗膜を有する無機絶縁電線 | |
| JP2953152B2 (ja) | 耐熱防汚性塗料及び耐熱防汚性塗膜 | |
| JPH0581926A (ja) | セラミツク耐熱絶縁塗膜の形成方法 | |
| JPH07116582B2 (ja) | 溶射被膜の封孔処理方法 | |
| JPS6248773A (ja) | 耐熱性塗料 | |
| JP3821214B2 (ja) | スクラッチ可能な隠蔽性コーティング用シリコーン組成物 | |
| JPS6312672A (ja) | 被覆用組成物 | |
| JPH04100875A (ja) | 耐熱性塗料 | |
| JPH04100873A (ja) | 耐熱性塗料 | |
| JPH01104670A (ja) | 耐熱塗料 | |
| JPS63297469A (ja) | サイアロン系耐熱塗料 | |
| JP4248609B2 (ja) | シリカ系被膜形成用コーティング組成物およびシリカ系被膜付基材 | |
| JP3041787B2 (ja) | 複合材料組成物、同組成物で形成した被膜を有する物品、同組成物で成型した物品 | |
| JPH0643267B2 (ja) | 赤外線輻射被膜 | |
| JPH0580957B2 (ja) |