JPH0536815A - ウエハ搬送装置 - Google Patents
ウエハ搬送装置Info
- Publication number
- JPH0536815A JPH0536815A JP3207270A JP20727091A JPH0536815A JP H0536815 A JPH0536815 A JP H0536815A JP 3207270 A JP3207270 A JP 3207270A JP 20727091 A JP20727091 A JP 20727091A JP H0536815 A JPH0536815 A JP H0536815A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- hand
- sensor
- vacuum
- absence
- Prior art date
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- Pending
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】異物挟持によるバキューム圧低下後の再動作時
等におけるウエハ保持状態を確実に検出してウエハ破損
を防止し安全性を高めたウエハ搬送装置を提供する。 【構成】 ウエハ５を真空吸着して保持するハンド１
と、該ハンド１のウエハ保持状態を検出する第１の検出
手段４と、前記ハンド１上のウエハ５の有無を検出する
第２の検出手段２とを具備する。
等におけるウエハ保持状態を確実に検出してウエハ破損
を防止し安全性を高めたウエハ搬送装置を提供する。 【構成】 ウエハ５を真空吸着して保持するハンド１
と、該ハンド１のウエハ保持状態を検出する第１の検出
手段４と、前記ハンド１上のウエハ５の有無を検出する
第２の検出手段２とを具備する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体露光装置やレジ
スト塗布現像装置等の半導体製造装置におけるウエハ搬
送装置に関する。
スト塗布現像装置等の半導体製造装置におけるウエハ搬
送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ウエハ搬送装置は、半導体を製造するた
めの薄く割れ易い金属ウエハをメカニカルなハンドによ
りバキューム圧を用いて吸着、保持して搬送する。この
場合ハンド上でのウエハ保持状態及びウエハ有無状態の
判定はバキューム圧のみにより行っている。
めの薄く割れ易い金属ウエハをメカニカルなハンドによ
りバキューム圧を用いて吸着、保持して搬送する。この
場合ハンド上でのウエハ保持状態及びウエハ有無状態の
判定はバキューム圧のみにより行っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、実際に
はバキューム圧のみではウエハ保持状態は判定できるが
ウエハ有無状態は判定できない。例えばウエハとハンド
の間に異物を挟んでバキューム圧が下がった場合、ハン
ドはウエハを保持していないがハンド上にはウエハが存
在する。このような時ハンドは一時的に動作を停止し、
そこからの再動作はオペレータがそのウエハを取り除い
た後に何らかのスイッチを押すことにより行われる。そ
してこれまではスイッチが押されたことをウエハが無い
こととしていた。よってウエハを取り除かずにスイッチ
を押してもハンドはウエハ有無状態の判定はできないた
め、無いものとして動作してしまい、その結果ウエハを
落として破損させてしまうという欠点があった。
はバキューム圧のみではウエハ保持状態は判定できるが
ウエハ有無状態は判定できない。例えばウエハとハンド
の間に異物を挟んでバキューム圧が下がった場合、ハン
ドはウエハを保持していないがハンド上にはウエハが存
在する。このような時ハンドは一時的に動作を停止し、
そこからの再動作はオペレータがそのウエハを取り除い
た後に何らかのスイッチを押すことにより行われる。そ
してこれまではスイッチが押されたことをウエハが無い
こととしていた。よってウエハを取り除かずにスイッチ
を押してもハンドはウエハ有無状態の判定はできないた
め、無いものとして動作してしまい、その結果ウエハを
落として破損させてしまうという欠点があった。
【０００４】本発明は、上記従来技術の欠点に鑑みなさ
れたものであって、異物挟持によるバキューム圧低下後
の再動作時等におけるウエハ保持状態を確実に検出して
ウエハ破損を防止し安全性を高めたウエハ搬送装置の提
供を目的とする。
れたものであって、異物挟持によるバキューム圧低下後
の再動作時等におけるウエハ保持状態を確実に検出して
ウエハ破損を防止し安全性を高めたウエハ搬送装置の提
供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段および作用】前記目的を達
成するため、本発明では、ハンドの先端に、ウエハ保持
状態を判定できるセンサとは別に、ウエハ有無状態を判
定できる第２のセンサを設けることにより、ウエハを保
持できなくなった時点からの再動作においてもウエハを
破損することがないような安全性の高いウエハ搬送を可
能にする。
成するため、本発明では、ハンドの先端に、ウエハ保持
状態を判定できるセンサとは別に、ウエハ有無状態を判
定できる第２のセンサを設けることにより、ウエハを保
持できなくなった時点からの再動作においてもウエハを
破損することがないような安全性の高いウエハ搬送を可
能にする。
【０００６】
【実施例】図１は、ウエハ搬送装置の、ある１つのウエ
ハ搬送ハンドがウエハを保持して搬送している様子を示
す。１はハンドでありＸＹＺ方向の移動及びθ1、θ2の
回転動作が可能である。ハンドはその先端のバキューム
穴３によるバキューム吸着によりウエハ５を保持しこれ
を搬送する。ハンド１には第１のセンサとしてバキュー
ム圧センサからなるウエハ保持状態センサ４が設けられ
る。バキューム穴３とバキューム圧センサ４とはバキュ
ーム配管により接続されており、これによってウエハ保
持状態を判定する。本実施例では図１のようにハンド１
の先端部に第２のセンサとして光学的反射型センサから
なるウエハ有無センサ２を埋め込む。ウエハを保持でき
なくなった時点でオペレータが誤った再動作を指示して
もウエハ有無センサ２によるウエハ有無状態判定により
ハンド上にウエハが存在した場合は再動作しない。
ハ搬送ハンドがウエハを保持して搬送している様子を示
す。１はハンドでありＸＹＺ方向の移動及びθ1、θ2の
回転動作が可能である。ハンドはその先端のバキューム
穴３によるバキューム吸着によりウエハ５を保持しこれ
を搬送する。ハンド１には第１のセンサとしてバキュー
ム圧センサからなるウエハ保持状態センサ４が設けられ
る。バキューム穴３とバキューム圧センサ４とはバキュ
ーム配管により接続されており、これによってウエハ保
持状態を判定する。本実施例では図１のようにハンド１
の先端部に第２のセンサとして光学的反射型センサから
なるウエハ有無センサ２を埋め込む。ウエハを保持でき
なくなった時点でオペレータが誤った再動作を指示して
もウエハ有無センサ２によるウエハ有無状態判定により
ハンド上にウエハが存在した場合は再動作しない。
【０００７】この動作フローを図２に示す。以下図２に
ついて説明する。ステップ１１にて動作を開始したハン
ド１は動作中常時ステップ１２においてウエハ保持状態
を判定する。この判定はハンド１のウエハ保持状態セン
サ４で行う。保持していないと判定されるとステップ１
３において動作を一時停止し、ステップ１４においてオ
ペレータに現在の状態と次の操作について指示を与え、
ステップ１５において再動作を指定するスイッチを点灯
する。ステップ１４では例えば「ウエハを保持できなく
なったのでウエハを取り除きスイッチにより再動作を指
示せよ」といったエラーメッセージを出力する。ステッ
プ１６において再動作が指示されたことを判定するとス
テップ１７においてハンド再動作の安全確認のためにハ
ンド上のウエハ有無状態を判定する。この判定をハンド
のウエハ有無センサ２により行う。ステップ１７におい
てウエハ無しと判定されると次の動作を開始する。ステ
ップ１７においてウエハ有りと判定された場合は次の動
作を開始せずにステップ１４へ戻る。
ついて説明する。ステップ１１にて動作を開始したハン
ド１は動作中常時ステップ１２においてウエハ保持状態
を判定する。この判定はハンド１のウエハ保持状態セン
サ４で行う。保持していないと判定されるとステップ１
３において動作を一時停止し、ステップ１４においてオ
ペレータに現在の状態と次の操作について指示を与え、
ステップ１５において再動作を指定するスイッチを点灯
する。ステップ１４では例えば「ウエハを保持できなく
なったのでウエハを取り除きスイッチにより再動作を指
示せよ」といったエラーメッセージを出力する。ステッ
プ１６において再動作が指示されたことを判定するとス
テップ１７においてハンド再動作の安全確認のためにハ
ンド上のウエハ有無状態を判定する。この判定をハンド
のウエハ有無センサ２により行う。ステップ１７におい
てウエハ無しと判定されると次の動作を開始する。ステ
ップ１７においてウエハ有りと判定された場合は次の動
作を開始せずにステップ１４へ戻る。
【０００８】なお、ウエハ有無センサとして電気的静電
容量センサまたはその他の方式のセンサを用いてもよ
い。
容量センサまたはその他の方式のセンサを用いてもよ
い。
【０００９】
【発明の効果】以上説明したように異物を挟んだことに
よるバキューム圧低下等何らかの要因でウエハを保持で
きなくなった場合、オペレータの誤操作があったとして
もその再動作においてウエハ及びウエハ搬送装置に対し
て安全を確保でき、安全性の高いウエハ搬送が実現でき
る。
よるバキューム圧低下等何らかの要因でウエハを保持で
きなくなった場合、オペレータの誤操作があったとして
もその再動作においてウエハ及びウエハ搬送装置に対し
て安全を確保でき、安全性の高いウエハ搬送が実現でき
る。
【００１０】又ウエハに限らずレチクル搬送装置でも同
様な効果がある。
様な効果がある。
【図１】 本発明の実施例に係わるウエハ搬送装置にお
けるウエハ搬送ハンドがウエハを保持し、搬送している
様子を示す斜視図である。
けるウエハ搬送ハンドがウエハを保持し、搬送している
様子を示す斜視図である。
【図２】 本発明の実施例に係わるウエハ搬送ハンドの
動作フローチャートである。
動作フローチャートである。
１；ウエハ搬送ハンド、２；ウエハ有無センサ、３；ウ
エハを吸着保持するためのバキューム穴、４；ウエハ保
持状態センサ、５；ウエハ。
エハを吸着保持するためのバキューム穴、４；ウエハ保
持状態センサ、５；ウエハ。
Claims (2)
- 【請求項１】 ウエハを真空吸着して保持するハンド
と、該ハンドのウエハ保持状態を検出する第１の検出手
段と、前記ハンド上のウエハの有無を検出する第２の検
出手段とを具備したウエハ搬送装置。 - 【請求項２】 前記第１の検出手段は、ウエハの真空吸
着穴の圧力を検出する圧力センサからなる請求項１のウ
エハ搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3207270A JPH0536815A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | ウエハ搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3207270A JPH0536815A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | ウエハ搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0536815A true JPH0536815A (ja) | 1993-02-12 |
Family
ID=16537017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3207270A Pending JPH0536815A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | ウエハ搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0536815A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0734056A2 (en) * | 1993-07-15 | 1996-09-25 | Applied Materials, Inc. | Ceramic blades for semiconductor processing apparatus |
| US5626675A (en) * | 1993-11-18 | 1997-05-06 | Tokyo Electron Limited | Resist processing apparatus, substrate processing apparatus and method of transferring a processed article |
| US6059891A (en) * | 1997-07-23 | 2000-05-09 | Tokyo Electron Limited | Apparatus and method for washing substrate |
| US6115867A (en) * | 1997-08-18 | 2000-09-12 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for cleaning both sides of substrate |
| JP2002062105A (ja) * | 2000-08-23 | 2002-02-28 | Sunx Ltd | ヘッド分離型センサ、静電容量式センサ及びウエハ検出装置 |
| US6431184B1 (en) | 1997-08-05 | 2002-08-13 | Tokyo Electron Limited | Apparatus and method for washing substrate |
| JP2011009345A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Hitachi High-Tech Control Systems Corp | エンドエフェクタ、ウェーハ搬送ロボット及びウェーハ搬送装置 |
| CN111128796A (zh) * | 2018-10-30 | 2020-05-08 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 用于搬运半导体部件承载器的设备及方法 |
| CN112216633A (zh) * | 2020-09-27 | 2021-01-12 | 北京京仪自动化装备技术有限公司 | 用于传送机械手的晶圆检测系统及方法 |
-
1991
- 1991-07-25 JP JP3207270A patent/JPH0536815A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0734056A2 (en) * | 1993-07-15 | 1996-09-25 | Applied Materials, Inc. | Ceramic blades for semiconductor processing apparatus |
| EP0734056A3 (en) * | 1993-07-15 | 1996-11-20 | Applied Materials, Inc. | Ceramic blades for semiconductor processing apparatus |
| US5697748A (en) * | 1993-07-15 | 1997-12-16 | Applied Materials, Inc. | Wafer tray and ceramic blade for semiconductor processing apparatus |
| US5626675A (en) * | 1993-11-18 | 1997-05-06 | Tokyo Electron Limited | Resist processing apparatus, substrate processing apparatus and method of transferring a processed article |
| US6059891A (en) * | 1997-07-23 | 2000-05-09 | Tokyo Electron Limited | Apparatus and method for washing substrate |
| US6431184B1 (en) | 1997-08-05 | 2002-08-13 | Tokyo Electron Limited | Apparatus and method for washing substrate |
| US6276378B1 (en) | 1997-08-18 | 2001-08-21 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for cleaning both sides of substrate |
| US6115867A (en) * | 1997-08-18 | 2000-09-12 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for cleaning both sides of substrate |
| JP2002062105A (ja) * | 2000-08-23 | 2002-02-28 | Sunx Ltd | ヘッド分離型センサ、静電容量式センサ及びウエハ検出装置 |
| JP2011009345A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Hitachi High-Tech Control Systems Corp | エンドエフェクタ、ウェーハ搬送ロボット及びウェーハ搬送装置 |
| CN111128796A (zh) * | 2018-10-30 | 2020-05-08 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 用于搬运半导体部件承载器的设备及方法 |
| CN111128796B (zh) * | 2018-10-30 | 2023-10-20 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 用于搬运半导体部件承载器的设备及方法 |
| CN112216633A (zh) * | 2020-09-27 | 2021-01-12 | 北京京仪自动化装备技术有限公司 | 用于传送机械手的晶圆检测系统及方法 |
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