JP2648045B2 - フォトレジスト現像装置 - Google Patents
フォトレジスト現像装置Info
- Publication number
- JP2648045B2 JP2648045B2 JP3144384A JP14438491A JP2648045B2 JP 2648045 B2 JP2648045 B2 JP 2648045B2 JP 3144384 A JP3144384 A JP 3144384A JP 14438491 A JP14438491 A JP 14438491A JP 2648045 B2 JP2648045 B2 JP 2648045B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- chuck
- photoresist
- photoresist developing
- developing device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板（以下ウェ
ーハと呼ぶ）におけるパターン露光されたレジストを現
像するフォトレジスト現像装置に関し、特に処理時にお
けるウェーハのチャックから離脱して起きる薬液汚染を
防止するための薬液飛散動作をもつフォトレジスト現像
装置に関する。
ーハと呼ぶ）におけるパターン露光されたレジストを現
像するフォトレジスト現像装置に関し、特に処理時にお
けるウェーハのチャックから離脱して起きる薬液汚染を
防止するための薬液飛散動作をもつフォトレジスト現像
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３は従来の一例を示すフォトレジスト
現像装置のブロック図、図４は薬液飛散動作を説明する
ためのフローチャートである。従来、この種のフォトレ
ジスト現像装置は、例えば、図３に示すように、感光さ
れたフォトレジスト膜が形成されたウェーハ１を吸着保
持するチャック２と、このチャック２を回転するモータ
３と、モータ３の回転動力源である電源部４と、ウェー
ハ１の吸着力を検出するセンサ７と、ウェーハ１とチャ
ック２との空間を真空排気して吸着力を生じさせる真空
ポンプ６と、ウェーハ１に薬液を滴下するノズル８と、
センサ７，真空ポンプ６，電源部４及びノズル８の動作
をシーケンス制御する制御部５とを備えている。
現像装置のブロック図、図４は薬液飛散動作を説明する
ためのフローチャートである。従来、この種のフォトレ
ジスト現像装置は、例えば、図３に示すように、感光さ
れたフォトレジスト膜が形成されたウェーハ１を吸着保
持するチャック２と、このチャック２を回転するモータ
３と、モータ３の回転動力源である電源部４と、ウェー
ハ１の吸着力を検出するセンサ７と、ウェーハ１とチャ
ック２との空間を真空排気して吸着力を生じさせる真空
ポンプ６と、ウェーハ１に薬液を滴下するノズル８と、
センサ７，真空ポンプ６，電源部４及びノズル８の動作
をシーケンス制御する制御部５とを備えている。
【０００３】このフォトレジスト現像装置の動作は、ま
ず、ウェーハ１をチャック２に載置し、真空ポンプ６を
動作させ、ウェーハ１をチャック２に吸着保持する。次
に、ノズル８より薬液を滴下すると同時にセンサ７で吸
着力を確認してから、電源部４を動作させ、モータ３を
回転させ、ウェーハ１を高速回転する。このことによ
り、遠心力で薬液はウェーハ１の外方に向かって伸ばさ
れ、一様に塗布された状態になり、薬液によりフォトレ
ジストが現像される。
ず、ウェーハ１をチャック２に載置し、真空ポンプ６を
動作させ、ウェーハ１をチャック２に吸着保持する。次
に、ノズル８より薬液を滴下すると同時にセンサ７で吸
着力を確認してから、電源部４を動作させ、モータ３を
回転させ、ウェーハ１を高速回転する。このことによ
り、遠心力で薬液はウェーハ１の外方に向かって伸ばさ
れ、一様に塗布された状態になり、薬液によりフォトレ
ジストが現像される。
【０００４】このような動作において、センサ７の検知
する吸着力が所定値（例えば４００ｍｍＨｇ）以下であ
った場合、ウェーハ１がチャック２から外れるのを防止
するために、チャックの回転を停止させる。この後の処
理として、薬液飛散動作がある。この動作は、図４に示
すように、まず、ステップＡでウェーハの存在を確認
し、薬液が滴下されたウェーハ１があれば、ステップＢ
で真空ポンプ６を動作させ、ウェーハ１をチャック２で
吸着する。次に、ステップＣでセンサ７で検知する吸着
力が例えば４００ｍｍＨｇ以下か否かを判定する。そし
て吸着力が４００ｍｍＨｇ以上であれば、ステップＤ
で、チャック２を所定の回転数で一定時間回転させてウ
ェーハ上の薬液を飛散させる。飛散した薬液は、ウェー
ハ１及びチャック２の周囲にあるカバーに当り、収容さ
れる。次に、ステップＥで、カバーの外にある次段ユニ
ットに移載される。また、ステップＣで吸着力が４００
ｍｍＨｇ以下であれば、ステップＥで、直接次段ユニッ
トへウェーハ１を移載する。
する吸着力が所定値（例えば４００ｍｍＨｇ）以下であ
った場合、ウェーハ１がチャック２から外れるのを防止
するために、チャックの回転を停止させる。この後の処
理として、薬液飛散動作がある。この動作は、図４に示
すように、まず、ステップＡでウェーハの存在を確認
し、薬液が滴下されたウェーハ１があれば、ステップＢ
で真空ポンプ６を動作させ、ウェーハ１をチャック２で
吸着する。次に、ステップＣでセンサ７で検知する吸着
力が例えば４００ｍｍＨｇ以下か否かを判定する。そし
て吸着力が４００ｍｍＨｇ以上であれば、ステップＤ
で、チャック２を所定の回転数で一定時間回転させてウ
ェーハ上の薬液を飛散させる。飛散した薬液は、ウェー
ハ１及びチャック２の周囲にあるカバーに当り、収容さ
れる。次に、ステップＥで、カバーの外にある次段ユニ
ットに移載される。また、ステップＣで吸着力が４００
ｍｍＨｇ以下であれば、ステップＥで、直接次段ユニッ
トへウェーハ１を移載する。
【０００５】このようにして、ウェーハの保持力が一定
値以下であれば、ウェーハを回転させないで、他の保管
場所に移載して、ウェーハのチャックからの離脱によっ
て起きる他の構成品への薬液汚染を防止していた。
値以下であれば、ウェーハを回転させないで、他の保管
場所に移載して、ウェーハのチャックからの離脱によっ
て起きる他の構成品への薬液汚染を防止していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
フォトレジスト現像装置では、ウェーハの吸着力が規定
値以上に達していないと、薬液飛散動作を行わず他のユ
ニットに移載する動作を行うことになっているので、薬
液が溜められたウェーハを他のユニットに異彩すると
き、装置の周囲あるいは他のユニットに移載されている
ウェーハにウェーハに溜っている薬液が滴下され、その
薬液で汚染されるという問題がある。
フォトレジスト現像装置では、ウェーハの吸着力が規定
値以上に達していないと、薬液飛散動作を行わず他のユ
ニットに移載する動作を行うことになっているので、薬
液が溜められたウェーハを他のユニットに異彩すると
き、装置の周囲あるいは他のユニットに移載されている
ウェーハにウェーハに溜っている薬液が滴下され、その
薬液で汚染されるという問題がある。
【０００７】本発明の目的は、かかる問題を解消すべ
く、吸着力が小さくても許容し、薬液飛散動作を行なわ
せ、他の構成品及び現像済みのウェーハを薬液で汚染し
ないフォトレジスト現像装置を提供することである。
く、吸着力が小さくても許容し、薬液飛散動作を行なわ
せ、他の構成品及び現像済みのウェーハを薬液で汚染し
ないフォトレジスト現像装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明のフォトレジスト
装置は、一主面に感光されたフォトレジスト膜が形成さ
れる半導体基板を所定の吸着圧力で保持するチャック
と、このチャックを回転するモータと、このモータの回
転数を制御する制御部と、前記吸着圧力を検出する吸着
センサとを備え、前記吸着圧力の大小に応じて前記チャ
ックの回転数及び回転時間を選定して回転させ、前記半
導体基板に滴下される薬液をその回転遠心力で飛散させ
ることを特徴としている。
装置は、一主面に感光されたフォトレジスト膜が形成さ
れる半導体基板を所定の吸着圧力で保持するチャック
と、このチャックを回転するモータと、このモータの回
転数を制御する制御部と、前記吸着圧力を検出する吸着
センサとを備え、前記吸着圧力の大小に応じて前記チャ
ックの回転数及び回転時間を選定して回転させ、前記半
導体基板に滴下される薬液をその回転遠心力で飛散させ
ることを特徴としている。
【０００９】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【００１０】図１は本発明のフォトレジスト現像装置の
一実施例を示すブロック図、図２は図１のフォトレジス
ト現像装置の薬液飛散動作を説明するためのフローチャ
ートである。このフォトレジスト現像装置は、図１に示
すように、センサ７で検出される吸着力を基準値と比較
し、その差をアナログ信号で出力する比較判定回路９
と、この比較判定回路９のアナログ信号をディジタル信
号に変換するＡ／Ｄ変換器１０と、ディジタル信号の計
数値により回転数及び回転時間を設定するとともに制御
部５ａに内蔵される設定部とを設けたことである。それ
以外は従来と同じである。
一実施例を示すブロック図、図２は図１のフォトレジス
ト現像装置の薬液飛散動作を説明するためのフローチャ
ートである。このフォトレジスト現像装置は、図１に示
すように、センサ７で検出される吸着力を基準値と比較
し、その差をアナログ信号で出力する比較判定回路９
と、この比較判定回路９のアナログ信号をディジタル信
号に変換するＡ／Ｄ変換器１０と、ディジタル信号の計
数値により回転数及び回転時間を設定するとともに制御
部５ａに内蔵される設定部とを設けたことである。それ
以外は従来と同じである。
【００１１】すなわち、センサ７で検出される吸着力が
４００ｍｍＨｇより小さくとも、薬液飛散動作を行える
ようにしたことである。この吸着力の設定には、回転に
よりウェーハ１がチャック２より離脱しない程度の力に
設定することを考慮して実験したところ、例えば、６イ
ンチのウェーハで、吸着力４００ｍｍＨｇのとき、回転
数を４０００ｒｐｍ，回転時間１５秒のとき、薬液が完
全に飛散することが判明した。
４００ｍｍＨｇより小さくとも、薬液飛散動作を行える
ようにしたことである。この吸着力の設定には、回転に
よりウェーハ１がチャック２より離脱しない程度の力に
設定することを考慮して実験したところ、例えば、６イ
ンチのウェーハで、吸着力４００ｍｍＨｇのとき、回転
数を４０００ｒｐｍ，回転時間１５秒のとき、薬液が完
全に飛散することが判明した。
【００１２】また、同様に実験により、吸着力３５０〜
４００ｍｍＨｇでは回転数３０００ｒｐｍ，回転時間２
０秒，吸着力３００〜３５０ｍｍＨｇのとき、回転数２
０００ｒｐｍ，回転時間２５秒，吸着力２５０〜３００
ｍｍＨｇのとき、回転数１０００ｒｐｍ，回転時間３０
秒といった吸着力に応じた最適回転数及び回転時間を得
ることができた。さらに、センサ７は従来の非線形圧力
センサでなく、線形圧力センサを採用した。
４００ｍｍＨｇでは回転数３０００ｒｐｍ，回転時間２
０秒，吸着力３００〜３５０ｍｍＨｇのとき、回転数２
０００ｒｐｍ，回転時間２５秒，吸着力２５０〜３００
ｍｍＨｇのとき、回転数１０００ｒｐｍ，回転時間３０
秒といった吸着力に応じた最適回転数及び回転時間を得
ることができた。さらに、センサ７は従来の非線形圧力
センサでなく、線形圧力センサを採用した。
【００１３】次に、このフォトレジスト現像装置の動作
を説明する。まず、図２に示すように、従来と同じよう
に、ステップＡでウェーハ１があるか否かを判定する。
次に、ステップＢで真空ポンプ６を動作し、チャック２
でウェーハ１を吸着する。次に、ステップＣで、吸着力
が規格値（４００ｍｍＨｇ）以下であれば、ステップＦ
で、下限規格値と比較する。そして、下限規格値以上で
あれば、ステップＧで、吸着力に応じた回転数及び回転
時間を設定し、ステップＤでモータ３を設定回転で設定
時間回転させ、ウェーハ１を回転させ、ウェーハ１に滴
下された薬液を飛散させる。また、ステップＣで規格値
以上の吸着力があれば、ステップＤで従来と同様にウェ
ーハを４０００ｒｐｍ，１５秒間回転させ、薬液の飛散
処理を行う。さらに、ステップＦで、規格値（２５０ｍ
ｍＨｇ）以下であれば、吸着機構部の故障と判定し、ス
テップＨで警報を発し、装置を止める。そして、ステッ
プ１でウェーハ１をチャック２より取外す。
を説明する。まず、図２に示すように、従来と同じよう
に、ステップＡでウェーハ１があるか否かを判定する。
次に、ステップＢで真空ポンプ６を動作し、チャック２
でウェーハ１を吸着する。次に、ステップＣで、吸着力
が規格値（４００ｍｍＨｇ）以下であれば、ステップＦ
で、下限規格値と比較する。そして、下限規格値以上で
あれば、ステップＧで、吸着力に応じた回転数及び回転
時間を設定し、ステップＤでモータ３を設定回転で設定
時間回転させ、ウェーハ１を回転させ、ウェーハ１に滴
下された薬液を飛散させる。また、ステップＣで規格値
以上の吸着力があれば、ステップＤで従来と同様にウェ
ーハを４０００ｒｐｍ，１５秒間回転させ、薬液の飛散
処理を行う。さらに、ステップＦで、規格値（２５０ｍ
ｍＨｇ）以下であれば、吸着機構部の故障と判定し、ス
テップＨで警報を発し、装置を止める。そして、ステッ
プ１でウェーハ１をチャック２より取外す。
【００１４】このように吸着力の下限値を下げ、ウェー
ハ１が離脱しない程度に回転させ、溜る薬液を飛散させ
ることによって、他のユニットに薬液が溜るウェーハを
移載する確率がなくなり、他のユニットの汚染すること
が殆ど皆無になった。
ハ１が離脱しない程度に回転させ、溜る薬液を飛散させ
ることによって、他のユニットに薬液が溜るウェーハを
移載する確率がなくなり、他のユニットの汚染すること
が殆ど皆無になった。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ウェーハ
をチャックで保持する吸着力によって、ウェーハの回転
数及び回転時間をウェーハがチャックから離脱しない程
度に設定し、設定された回転数及び回転時間でウェーハ
を回転し、ウェーハに溜る薬液を飛散させるので、他ユ
ニットにある構成品及び現像済みのウェーハを汚染しな
いフォトレジスト現像装置が得られるという効果があ
る。
をチャックで保持する吸着力によって、ウェーハの回転
数及び回転時間をウェーハがチャックから離脱しない程
度に設定し、設定された回転数及び回転時間でウェーハ
を回転し、ウェーハに溜る薬液を飛散させるので、他ユ
ニットにある構成品及び現像済みのウェーハを汚染しな
いフォトレジスト現像装置が得られるという効果があ
る。
【図１】本発明のフォトレジスト現像装置の一実施例を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図２】図１のフォトレジスト現像装置の薬液飛散動作
を説明するためのフローチャートである。
を説明するためのフローチャートである。
【図３】従来のフォトレジスト現像装置の一例を示すブ
ロック図である。
ロック図である。
【図４】図３のフォトレジスト現像装置の薬液飛散動作
を説明するためのフローチャートである。
を説明するためのフローチャートである。
１ ウェーハ ２ チャック ３ モータ ４ 電源部 ５，５ａ 制御部 ６ 真空ポンプ ７ センサ ８ ノズル ９ 比較判定回路 １０ Ａ／Ｄ変換器
Claims (1)
- 【請求項１】 一主面に感光されたフォトレジスト膜が
形成される半導体基板を所定の吸着圧力で保持するチャ
ックと、このチャックを回転するモータと、このモータ
の回転数を制御する制御部と、前記吸着圧力を検出する
吸着センサとを備え、前記吸着圧力の大小に応じて前記
チャックの回転数及び回転時間を選定して回転させ、前
記半導体基板に滴下される薬液をその回転遠心力で飛散
させることを特徴とするフォトレジスト現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3144384A JP2648045B2 (ja) | 1991-06-17 | 1991-06-17 | フォトレジスト現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3144384A JP2648045B2 (ja) | 1991-06-17 | 1991-06-17 | フォトレジスト現像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04368116A JPH04368116A (ja) | 1992-12-21 |
| JP2648045B2 true JP2648045B2 (ja) | 1997-08-27 |
Family
ID=15360883
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3144384A Expired - Fee Related JP2648045B2 (ja) | 1991-06-17 | 1991-06-17 | フォトレジスト現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2648045B2 (ja) |
-
1991
- 1991-06-17 JP JP3144384A patent/JP2648045B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04368116A (ja) | 1992-12-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970401 |
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