JPH05341542A - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真感光体の製造方法Info
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- JPH05341542A JPH05341542A JP17603892A JP17603892A JPH05341542A JP H05341542 A JPH05341542 A JP H05341542A JP 17603892 A JP17603892 A JP 17603892A JP 17603892 A JP17603892 A JP 17603892A JP H05341542 A JPH05341542 A JP H05341542A
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- Japan
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- coated
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 濃淡むらのない均一な塗膜を有する電子写真
感光体の製造方法およびそのための浸漬塗布装置を提供
する。 【構成】 被塗布物を粒子を分散してなる塗布液中に浸
漬し、次いで引き上げることにより被塗布物表面に該塗
布液を塗布する浸漬塗布工程により感光層を形成させる
電子写真感光体の製造方法であって、被塗布物を浸漬す
る際に、被塗布物と塗布液との接触状態を変動させて、
被塗布物に塗布液中の粒子が接触する回数を増加させる
ことを特徴とする。この電子写真感光体の製造に使用す
る浸漬塗布装置の具体例としては、上部に受皿を有する
塗布槽１、塗布液溜４及びポンプ６からなる塗布液循環
装置と、被塗布物昇降装置とを備えた浸漬塗布装置にお
ける塗布槽の底部に、超音波発振装置８または撹拌機１
４を設けたことを特徴としている。
感光体の製造方法およびそのための浸漬塗布装置を提供
する。 【構成】 被塗布物を粒子を分散してなる塗布液中に浸
漬し、次いで引き上げることにより被塗布物表面に該塗
布液を塗布する浸漬塗布工程により感光層を形成させる
電子写真感光体の製造方法であって、被塗布物を浸漬す
る際に、被塗布物と塗布液との接触状態を変動させて、
被塗布物に塗布液中の粒子が接触する回数を増加させる
ことを特徴とする。この電子写真感光体の製造に使用す
る浸漬塗布装置の具体例としては、上部に受皿を有する
塗布槽１、塗布液溜４及びポンプ６からなる塗布液循環
装置と、被塗布物昇降装置とを備えた浸漬塗布装置にお
ける塗布槽の底部に、超音波発振装置８または撹拌機１
４を設けたことを特徴としている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体の製造
方法およびその為の装置に関し、特に、浸漬塗布法によ
って塗膜を形成する電子写真感光体の製造方法に関す
る。
方法およびその為の装置に関し、特に、浸漬塗布法によ
って塗膜を形成する電子写真感光体の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来より、電子写真感光体の製造方法と
して、浸漬塗布法が広く実施されており、この方法は、
基本的に、塗布液中に被塗布物を下降させていき、塗布
したいところまで被塗布物を浸漬させた後、上昇させる
ことによって塗布を行う方法である。この浸漬塗布法
は、ドラム状の感光体の製造方法として、生産性、膜厚
の均一性などにおいて優れた方法である。しかしなが
ら、浸漬塗布法においては、種々の原因によって塗膜欠
陥が生じることがある。例えば、顔料分散型の塗布液に
おいては、塗布液に加わる力（例えば、液の流れ、攪
拌）に対して、異なる粘性を示すチキソトロピー性をも
っている場合があり、このような塗布液においては、塗
布槽内で不均一な粘度の存在部分が生じ、それに起因し
て塗膜欠陥が生じることが知られている。また、不均一
な塗布液の流れに起因して塗膜欠陥が発生したり、或い
は塗布槽からの溶剤蒸気の不均一な発散に起因して塗膜
欠陥が発生することも知られている。この様な問題点に
対処する目的で、従来種々の提案がなされている。例え
ば、塗布槽内の不均一な粘度の存在が原因で生じる塗膜
欠陥を改善する目的で、特開平３−６２０３５号公報に
記載のように、塗布液を循環させながら振動させた状態
で浸漬塗布する方法が知られている。また、不均一な塗
布液の流れが起因して塗膜欠陥が発生する系において
は、均一な塗布液の供給という観点から、塗布槽内に整
流コーンを設置する方法、或いは、塗布槽からの溶剤蒸
気の不均一な発散に起因して塗膜欠陥が発生する系にお
いては、塗布槽からの溶剤蒸気の蒸発を抑える方法を採
用することが提案されている。
して、浸漬塗布法が広く実施されており、この方法は、
基本的に、塗布液中に被塗布物を下降させていき、塗布
したいところまで被塗布物を浸漬させた後、上昇させる
ことによって塗布を行う方法である。この浸漬塗布法
は、ドラム状の感光体の製造方法として、生産性、膜厚
の均一性などにおいて優れた方法である。しかしなが
ら、浸漬塗布法においては、種々の原因によって塗膜欠
陥が生じることがある。例えば、顔料分散型の塗布液に
おいては、塗布液に加わる力（例えば、液の流れ、攪
拌）に対して、異なる粘性を示すチキソトロピー性をも
っている場合があり、このような塗布液においては、塗
布槽内で不均一な粘度の存在部分が生じ、それに起因し
て塗膜欠陥が生じることが知られている。また、不均一
な塗布液の流れに起因して塗膜欠陥が発生したり、或い
は塗布槽からの溶剤蒸気の不均一な発散に起因して塗膜
欠陥が発生することも知られている。この様な問題点に
対処する目的で、従来種々の提案がなされている。例え
ば、塗布槽内の不均一な粘度の存在が原因で生じる塗膜
欠陥を改善する目的で、特開平３−６２０３５号公報に
記載のように、塗布液を循環させながら振動させた状態
で浸漬塗布する方法が知られている。また、不均一な塗
布液の流れが起因して塗膜欠陥が発生する系において
は、均一な塗布液の供給という観点から、塗布槽内に整
流コーンを設置する方法、或いは、塗布槽からの溶剤蒸
気の不均一な発散に起因して塗膜欠陥が発生する系にお
いては、塗布槽からの溶剤蒸気の蒸発を抑える方法を採
用することが提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
従来の方法では、未だ十分に塗膜欠陥をなくすことがで
きないのが現状である。例えば、特開平３−６２０３５
号公報に記載のように、塗布液を循環させながら振動さ
せた状態で浸漬塗布を行う場合には、塗布液の液面の振
動のために塗膜の膜厚や粒子の分散むらを生じ、均一な
塗膜を形成する方法としては適切でない。また、その他
の方法においても、種々の原因によって生じる塗膜欠陥
を解消するには十分でない。本発明は、従来の技術にお
ける上記のような問題点を解決することを目的としたも
のである。すなわち、本発明の目的は、浸漬塗布法によ
る電子写真感光体の製造において、塗膜を均一に塗布す
る方法を提供することにあり、特に、塗膜における粒子
の分散むら（以下、濃淡むらという）を生じない電子写
真感光体の製造方法を提供することにある。
従来の方法では、未だ十分に塗膜欠陥をなくすことがで
きないのが現状である。例えば、特開平３−６２０３５
号公報に記載のように、塗布液を循環させながら振動さ
せた状態で浸漬塗布を行う場合には、塗布液の液面の振
動のために塗膜の膜厚や粒子の分散むらを生じ、均一な
塗膜を形成する方法としては適切でない。また、その他
の方法においても、種々の原因によって生じる塗膜欠陥
を解消するには十分でない。本発明は、従来の技術にお
ける上記のような問題点を解決することを目的としたも
のである。すなわち、本発明の目的は、浸漬塗布法によ
る電子写真感光体の製造において、塗膜を均一に塗布す
る方法を提供することにあり、特に、塗膜における粒子
の分散むら（以下、濃淡むらという）を生じない電子写
真感光体の製造方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】従来の浸漬塗布において
は、被塗布物の塗布槽内に浸漬する際に、被塗布物がそ
の表面で受ける塗布液との接触について考慮されたもの
はなかったが、本発明者等は、鋭意研究を重ねた結果、
浸漬する際に、塗布液中の粒子と被塗布物との接触によ
る影響がそのまま塗膜を形成する際まで保持され、浸漬
時に被塗布物が塗布液との接触によって受けた履歴によ
って塗膜欠陥が生じるという現象を発見した。そして、
浸漬時に被塗布物が粒子との間に受ける接触を均一にす
ることによって、この種の塗膜欠陥が撲滅できることを
見出だし、本発明を完成するに至った。
は、被塗布物の塗布槽内に浸漬する際に、被塗布物がそ
の表面で受ける塗布液との接触について考慮されたもの
はなかったが、本発明者等は、鋭意研究を重ねた結果、
浸漬する際に、塗布液中の粒子と被塗布物との接触によ
る影響がそのまま塗膜を形成する際まで保持され、浸漬
時に被塗布物が塗布液との接触によって受けた履歴によ
って塗膜欠陥が生じるという現象を発見した。そして、
浸漬時に被塗布物が粒子との間に受ける接触を均一にす
ることによって、この種の塗膜欠陥が撲滅できることを
見出だし、本発明を完成するに至った。
【０００５】すなわち、本発明の電子写真感光体の製造
方法は、被塗布物を粒子を分散してなる塗布液中に浸漬
し、次いで引き上げることにより被塗布物表面に該塗布
液を塗布する浸漬塗布工程により感光層を形成させるも
のであって、被塗布物を浸漬する際に、被塗布物と塗布
液との接触状態を変動させて、被塗布物に塗布液中の粒
子が接触する回数を増加させることを特徴とする。本発
明において、被塗布物を浸漬する際に、被塗布物と塗布
液との接触状態を変動させるためには、被塗布物を振動
させて塗布液に導入する方法、被塗布物の下降および上
昇を繰り返しながら塗布液に導入する方法、塗布槽への
塗布液の供給を停止して超音波発振を行う方法、およ
び、塗布槽への塗布液の供給を停止して塗布液を物理的
に攪拌する方法等が採用できる。
方法は、被塗布物を粒子を分散してなる塗布液中に浸漬
し、次いで引き上げることにより被塗布物表面に該塗布
液を塗布する浸漬塗布工程により感光層を形成させるも
のであって、被塗布物を浸漬する際に、被塗布物と塗布
液との接触状態を変動させて、被塗布物に塗布液中の粒
子が接触する回数を増加させることを特徴とする。本発
明において、被塗布物を浸漬する際に、被塗布物と塗布
液との接触状態を変動させるためには、被塗布物を振動
させて塗布液に導入する方法、被塗布物の下降および上
昇を繰り返しながら塗布液に導入する方法、塗布槽への
塗布液の供給を停止して超音波発振を行う方法、およ
び、塗布槽への塗布液の供給を停止して塗布液を物理的
に攪拌する方法等が採用できる。
【０００６】本発明の電子写真感光体の製造に使用され
る浸漬塗布装置は、上部に受皿を有する塗布槽、塗布液
溜及びポンプからなる塗布液循環装置と、被塗布物の昇
降装置とを備え、塗布液を循環し、オーバーフローさせ
ながら浸漬塗布を行うものであって、塗布槽の底部に超
音波発振装置または攪拌機を設けたものである。本発明
において、感光層を形成させるための粒子を分散してな
る塗布液としては、光導電性材料の微粉末が結着樹脂の
有機溶剤溶液中に分散した分散液であって、光導電性材
料としては、公知の有機顔料および無機顔料であれば何
如なるものでも使用することができる。
る浸漬塗布装置は、上部に受皿を有する塗布槽、塗布液
溜及びポンプからなる塗布液循環装置と、被塗布物の昇
降装置とを備え、塗布液を循環し、オーバーフローさせ
ながら浸漬塗布を行うものであって、塗布槽の底部に超
音波発振装置または攪拌機を設けたものである。本発明
において、感光層を形成させるための粒子を分散してな
る塗布液としては、光導電性材料の微粉末が結着樹脂の
有機溶剤溶液中に分散した分散液であって、光導電性材
料としては、公知の有機顔料および無機顔料であれば何
如なるものでも使用することができる。
【０００７】
【作用】本発明において、浸漬塗布によって感光層を形
成させる場合、被塗布物を塗布液中に浸漬する際に、被
塗布物を振動させたり、或いは被塗布物の下降および上
昇を繰り返しながら塗布液中に導入することにより、或
いは、被塗布物の浸漬に際し、塗布槽への塗布液の供給
を停止して、超音波発振または塗布液の物理的攪拌によ
り、被塗布物と塗布液との接触状態を変動させて被塗布
物に塗布液中の粒子が接触する回数を増加させることに
より、被塗布物と塗布液中の粒子との接触状態を均一に
させる。これにより、被塗布物の引上げ後も維持される
浸漬時に被塗布物が塗布液との接触によって受けた上記
履歴が均一になるため、被塗布物上に形成された塗膜
は、塗膜欠陥や濃淡むらのない良好な品質の塗膜が形成
されるようになる。
成させる場合、被塗布物を塗布液中に浸漬する際に、被
塗布物を振動させたり、或いは被塗布物の下降および上
昇を繰り返しながら塗布液中に導入することにより、或
いは、被塗布物の浸漬に際し、塗布槽への塗布液の供給
を停止して、超音波発振または塗布液の物理的攪拌によ
り、被塗布物と塗布液との接触状態を変動させて被塗布
物に塗布液中の粒子が接触する回数を増加させることに
より、被塗布物と塗布液中の粒子との接触状態を均一に
させる。これにより、被塗布物の引上げ後も維持される
浸漬時に被塗布物が塗布液との接触によって受けた上記
履歴が均一になるため、被塗布物上に形成された塗膜
は、塗膜欠陥や濃淡むらのない良好な品質の塗膜が形成
されるようになる。
【０００８】
【実施例】次に、本発明を実施例によって説明する。図
１および図２は、本発明を実施するための浸漬塗布装置
の一例の概略構成図である。図１は、超音波振動によっ
て塗布液を振動させる浸漬塗布装置の実施例である。図
中、１は基体であるアルミニウムパイプを浸漬塗布する
ための塗布槽であって、内部に塗布液２が満たされてい
る。塗布槽１の上部にはオーバーフローした塗布液を集
液する受皿３が設けられており、受皿の下部には、塗布
液溜４に連通する配管５が設けられている。塗布槽１の
下部と、塗布液溜４の下部とは配管によって連通し、塗
布液は、ポンプ６によってフィルター７を経由して塗布
槽１に循環されるようになっている。また、塗布槽１の
底部には、超音波発振器８が配設されている。被塗布物
であるアルミニウムパイプ９は、昇降装置によって昇降
可能に支持されている。すなわち、その上部が支持装置
１０によって支持され、ボールネジ１１によって昇降可
能になっている。なお１２はボールネジを駆動するため
のモーターである。図２は、塗布液を物理的に攪拌する
型の浸漬塗布装置の概略構成図である。図２において
は、塗布槽１の底部に回転子１３によって回転するスタ
ーラー１４が設けられており、それ以外は、図１のもの
と同様の構造を有している。
１および図２は、本発明を実施するための浸漬塗布装置
の一例の概略構成図である。図１は、超音波振動によっ
て塗布液を振動させる浸漬塗布装置の実施例である。図
中、１は基体であるアルミニウムパイプを浸漬塗布する
ための塗布槽であって、内部に塗布液２が満たされてい
る。塗布槽１の上部にはオーバーフローした塗布液を集
液する受皿３が設けられており、受皿の下部には、塗布
液溜４に連通する配管５が設けられている。塗布槽１の
下部と、塗布液溜４の下部とは配管によって連通し、塗
布液は、ポンプ６によってフィルター７を経由して塗布
槽１に循環されるようになっている。また、塗布槽１の
底部には、超音波発振器８が配設されている。被塗布物
であるアルミニウムパイプ９は、昇降装置によって昇降
可能に支持されている。すなわち、その上部が支持装置
１０によって支持され、ボールネジ１１によって昇降可
能になっている。なお１２はボールネジを駆動するため
のモーターである。図２は、塗布液を物理的に攪拌する
型の浸漬塗布装置の概略構成図である。図２において
は、塗布槽１の底部に回転子１３によって回転するスタ
ーラー１４が設けられており、それ以外は、図１のもの
と同様の構造を有している。
【０００９】実施例１および２ 下記のようにして調製した塗布液Ａおよび塗布液Ｂを使
用し、基体であるアルミニウムパイプ（φ８０ｍｍ×長
さ３６０ｍｍ）上に、図１に示す浸漬塗布装置によって
塗膜を形成した。なお、超音波発振器としては、出力６
００Ｗ、周波数２５±２ＫＨｚのものを使用した。超音
波発振器は、浸漬が行われている間のみ作動して塗布液
を振動させ、引上げ時には超音波発振器の作動を停止し
た。さらに、浸漬が行われている間は、塗布槽への塗布
液の供給を停止するようにコンピューターで制御をかけ
た。また、浸漬塗布条件は次の通りであった。 アルミニウムパイプの浸漬時の速度：８００ｍｍ／ｍｉ
ｎ アルミニウムパイプの引き上げ時（塗布時）の速度：２
００ｍｍ／ｍｉｎ 塗布液の供給量：４０００ｃｍ3 ／ｍｉｎ 塗布槽のサイズ：内径１２０ｍｍ（塗布槽内の塗布液の
深さ：５００ｍｍ）
用し、基体であるアルミニウムパイプ（φ８０ｍｍ×長
さ３６０ｍｍ）上に、図１に示す浸漬塗布装置によって
塗膜を形成した。なお、超音波発振器としては、出力６
００Ｗ、周波数２５±２ＫＨｚのものを使用した。超音
波発振器は、浸漬が行われている間のみ作動して塗布液
を振動させ、引上げ時には超音波発振器の作動を停止し
た。さらに、浸漬が行われている間は、塗布槽への塗布
液の供給を停止するようにコンピューターで制御をかけ
た。また、浸漬塗布条件は次の通りであった。 アルミニウムパイプの浸漬時の速度：８００ｍｍ／ｍｉ
ｎ アルミニウムパイプの引き上げ時（塗布時）の速度：２
００ｍｍ／ｍｉｎ 塗布液の供給量：４０００ｃｍ3 ／ｍｉｎ 塗布槽のサイズ：内径１２０ｍｍ（塗布槽内の塗布液の
深さ：５００ｍｍ）
【００１０】塗布液Ａ：ジブロモアントアントロン１０
重量部を、ポリビニルブチラール１重量部、トリフルオ
ロ酢酸０．０２重量部、塩酸０．０６重量部およびシク
ロヘキサノン９０重量部よりなる溶液に分散させ、浸漬
塗布液を作製した。 塗布液Ｂ：粒状三方晶系セレン８７重量部と、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体（商品名：ソリューション・ビ
ニル・ＶＭＣＨ、ユニオン・カーバイド社製）１３重量
部を酢酸ｎ−ブチル２００重量部に溶解した溶液とを、
アトライターで２４時間分散処理した。次いで、得られ
た分散液３０重量部に対して、酢酸ｎ−ブチル５７重量
部を加えて希釈し、浸漬塗布液を形成した。その結果、
塗膜欠陥の全くない非常に緻密で美しい塗膜が得られ
た。それらの塗布条件および結果を表１に示す。
重量部を、ポリビニルブチラール１重量部、トリフルオ
ロ酢酸０．０２重量部、塩酸０．０６重量部およびシク
ロヘキサノン９０重量部よりなる溶液に分散させ、浸漬
塗布液を作製した。 塗布液Ｂ：粒状三方晶系セレン８７重量部と、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体（商品名：ソリューション・ビ
ニル・ＶＭＣＨ、ユニオン・カーバイド社製）１３重量
部を酢酸ｎ−ブチル２００重量部に溶解した溶液とを、
アトライターで２４時間分散処理した。次いで、得られ
た分散液３０重量部に対して、酢酸ｎ−ブチル５７重量
部を加えて希釈し、浸漬塗布液を形成した。その結果、
塗膜欠陥の全くない非常に緻密で美しい塗膜が得られ
た。それらの塗布条件および結果を表１に示す。
【００１１】比較例１および２ 実施例１および２において、アルミニウムパイプを浸漬
し、次いで引き上げて塗膜を形成する際の全てにわたっ
て、超音波振動器を作動させて塗布液を振動させた以外
は、実施例１および２と同様にして塗膜を形成した。そ
の結果、形成された塗膜には塗膜欠陥、特に円周方向に
濃淡むらが多発していた。それらの塗布条件および結果
を表１にまとめて示す。 比較例３および４ 実施例１および２において、超音波振動器を作動させな
い以外は、同様にして塗膜を形成した。その結果、形成
された塗膜には塗膜欠陥、特に軸方向に不規則なパター
ンで濃淡むらが多発していた。それらの塗布条件および
結果を表１にまとめて示す。
し、次いで引き上げて塗膜を形成する際の全てにわたっ
て、超音波振動器を作動させて塗布液を振動させた以外
は、実施例１および２と同様にして塗膜を形成した。そ
の結果、形成された塗膜には塗膜欠陥、特に円周方向に
濃淡むらが多発していた。それらの塗布条件および結果
を表１にまとめて示す。 比較例３および４ 実施例１および２において、超音波振動器を作動させな
い以外は、同様にして塗膜を形成した。その結果、形成
された塗膜には塗膜欠陥、特に軸方向に不規則なパター
ンで濃淡むらが多発していた。それらの塗布条件および
結果を表１にまとめて示す。
【００１２】実施例３および４ 実施例１および２で用いたと同様の塗布液Ａまたは塗布
液Ｂを用いて、アルミニウムパイプ（φ８０ｍｍ×長さ
３６０ｍｍ）上に、図２で示す浸漬塗布装置によって塗
膜を形成した。なお、塗布液は、浸漬が行われている間
のみ、回転子を１５００ｒｐｍの速度で回転させてスタ
ーラーを作動させることによって攪拌し、引上げ時には
攪拌を中止した。さらに、浸漬が行われている間は、塗
布層への塗布液の供給を停止するようにコンピューター
で制御をかけた。その結果、塗膜欠陥の全くない非常に
緻密で美しい塗膜が得られた。それらの塗布条件および
結果を表１に示す。
液Ｂを用いて、アルミニウムパイプ（φ８０ｍｍ×長さ
３６０ｍｍ）上に、図２で示す浸漬塗布装置によって塗
膜を形成した。なお、塗布液は、浸漬が行われている間
のみ、回転子を１５００ｒｐｍの速度で回転させてスタ
ーラーを作動させることによって攪拌し、引上げ時には
攪拌を中止した。さらに、浸漬が行われている間は、塗
布層への塗布液の供給を停止するようにコンピューター
で制御をかけた。その結果、塗膜欠陥の全くない非常に
緻密で美しい塗膜が得られた。それらの塗布条件および
結果を表１に示す。
【００１３】
【表１】
【００１４】実施例５および６ 実施例１および２において、超音波発振器を全く作動さ
せないで同様にして浸漬塗布を行った。ただし、アルミ
ニウムパイプが下降する際に微振動するように、昇降装
置におけるボールネジに加工を施した浸漬塗布装置を使
用した。その結果、塗膜欠陥の全くない非常に緻密で美
しい塗膜が得られた。
せないで同様にして浸漬塗布を行った。ただし、アルミ
ニウムパイプが下降する際に微振動するように、昇降装
置におけるボールネジに加工を施した浸漬塗布装置を使
用した。その結果、塗膜欠陥の全くない非常に緻密で美
しい塗膜が得られた。
【００１５】実施例７〜１２ 実施例１および２において、超音波発振器をまったく作
動させないで同様にして浸漬塗布を行った。ただし、ア
ルミニウムパイプを、下降、上昇を繰り返しながらが塗
布液中に導入するようにコントロールした。下降速度、
上昇速度、下降時間、上昇時間を表２の条件で行い、浸
漬塗布を行った。その結果、塗膜欠陥の全くない非常に
緻密で美しい塗膜が得られた。それらの塗布条件および
結果をまとめて表２に示す。
動させないで同様にして浸漬塗布を行った。ただし、ア
ルミニウムパイプを、下降、上昇を繰り返しながらが塗
布液中に導入するようにコントロールした。下降速度、
上昇速度、下降時間、上昇時間を表２の条件で行い、浸
漬塗布を行った。その結果、塗膜欠陥の全くない非常に
緻密で美しい塗膜が得られた。それらの塗布条件および
結果をまとめて表２に示す。
【００１６】
【表２】
【００１７】
【発明の効果】本発明は、上記のように被塗布物を塗布
液中に浸漬する際に、被塗布物と塗布液との接触状態を
変動させて被塗布物に塗布液中の粒子が接触する回数を
増加させるから、被塗布物と塗布液中の粒子との接触状
態が均一になり、そして、浸漬時に被塗布物が塗布液と
の接触によって受けた履歴が、被塗布物上に形成された
塗膜に維持されて、塗膜欠陥や濃淡むらのない良好な品
質の塗膜が形成される。
液中に浸漬する際に、被塗布物と塗布液との接触状態を
変動させて被塗布物に塗布液中の粒子が接触する回数を
増加させるから、被塗布物と塗布液中の粒子との接触状
態が均一になり、そして、浸漬時に被塗布物が塗布液と
の接触によって受けた履歴が、被塗布物上に形成された
塗膜に維持されて、塗膜欠陥や濃淡むらのない良好な品
質の塗膜が形成される。
【図１】 本発明を実施するための浸漬塗布装置の一例
の概略構成図。
の概略構成図。
【図２】 本発明を実施するための浸漬塗布装置の他の
一例の概略構成図。
一例の概略構成図。
１…塗布槽、２…塗布液、３…受皿、４…塗布液溜、５
配管、６…ポンプ、７…フィルター、８…超音波発振
器、９…アルミニウムパイプ、１０…支持装置、１１…
ボールネジ、１２…モーター、１３…回転子、１４…ス
ターラー。
配管、６…ポンプ、７…フィルター、８…超音波発振
器、９…アルミニウムパイプ、１０…支持装置、１１…
ボールネジ、１２…モーター、１３…回転子、１４…ス
ターラー。
Claims (5)
- 【請求項１】 被塗布物を粒子を分散してなる塗布液中
に浸漬し、次いで引き上げることにより被塗布物表面に
該塗布液を塗布する浸漬塗布工程により感光層を形成す
る電子写真感光体の製造方法において、被塗布物を浸漬
する際に、被塗布物と塗布液との接触状態を変動させ
て、被塗布物に塗布液中の粒子が接触する回数を増加さ
せることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。 - 【請求項２】 被塗布物を浸漬する際に、被塗布物を振
動させながら塗布液中に導入することを特徴とする請求
項１記載の電子写真感光体の製造方法。 - 【請求項３】 被塗布物を浸漬する際に、被塗布物の下
降および上昇を繰り返しながら、塗布液中に導入するこ
とを特徴とする請求項１記載の電子写真感光体の製造方
法。 - 【請求項４】 被塗布物を浸漬する際に、塗布槽への塗
布液の供給を停止し、超音波発振を行うことを特徴とす
る請求項１記載の電子写真感光体の製造方法。 - 【請求項５】 被塗布物を浸漬する際に、塗布槽への塗
布液の供給を停止し、塗布液を攪拌することを特徴とす
る請求項１記載の電子写真感光体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17603892A JPH05341542A (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | 電子写真感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17603892A JPH05341542A (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | 電子写真感光体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05341542A true JPH05341542A (ja) | 1993-12-24 |
Family
ID=16006639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17603892A Pending JPH05341542A (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | 電子写真感光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05341542A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008009196A (ja) * | 2006-06-29 | 2008-01-17 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、その製造方法および製造装置、電子写真画像形成装置 |
| KR100854350B1 (ko) * | 2002-06-14 | 2008-08-26 | 주식회사 케이아트텍 | 단추의 초음파 염색기 |
-
1992
- 1992-06-11 JP JP17603892A patent/JPH05341542A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100854350B1 (ko) * | 2002-06-14 | 2008-08-26 | 주식회사 케이아트텍 | 단추의 초음파 염색기 |
| JP2008009196A (ja) * | 2006-06-29 | 2008-01-17 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、その製造方法および製造装置、電子写真画像形成装置 |
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