JPH05339431A - 滅菌用放射線に対するポリオレフィン組成物の色安定性を向上する方法 - Google Patents
滅菌用放射線に対するポリオレフィン組成物の色安定性を向上する方法Info
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- JPH05339431A JPH05339431A JP5043110A JP4311093A JPH05339431A JP H05339431 A JPH05339431 A JP H05339431A JP 5043110 A JP5043110 A JP 5043110A JP 4311093 A JP4311093 A JP 4311093A JP H05339431 A JPH05339431 A JP H05339431A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 滅菌用放射線に対するポリオレフィン組成物
の抵抗性を高める方法が提供される。 【構成】 この方法は、ポリオレフィン樹脂とビス（ト
リ−ｔ−アルキルフェノキシ）ジホスファスピロウンデ
カンを含んで成るポリオレフィン組成物を、それから作
られた医療用物品を含めて、滅菌用放射線に暴露する方
法を含む。この方法は、そのポリオレフィン組成物から
作られた滅菌された耐変色性医療用物品を提供する。
の抵抗性を高める方法が提供される。 【構成】 この方法は、ポリオレフィン樹脂とビス（ト
リ−ｔ−アルキルフェノキシ）ジホスファスピロウンデ
カンを含んで成るポリオレフィン組成物を、それから作
られた医療用物品を含めて、滅菌用放射線に暴露する方
法を含む。この方法は、そのポリオレフィン組成物から
作られた滅菌された耐変色性医療用物品を提供する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、滅菌用放射線に対する
ポリオレフィン組成物の抵抗性を高める方法に関し、特
に、滅菌用放射線に暴露された場合のポリオレフィン組
成物の変色に対する抵抗性を高める方法に関する。
ポリオレフィン組成物の抵抗性を高める方法に関し、特
に、滅菌用放射線に暴露された場合のポリオレフィン組
成物の変色に対する抵抗性を高める方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリオレフィン樹脂は周知の熱可塑性材
料であり、その特性の故に医療産業で使用されている。
しかし、ポリオレフィンは、放射線滅菌処理に暴露され
ると変色する傾向があり、その最も顕著な例はガンマ線
の場合である。従って、滅菌用放射線に暴露された場合
のポリオレフィン組成物の抵抗性を高める方法を提供す
ることが要望されている。
料であり、その特性の故に医療産業で使用されている。
しかし、ポリオレフィンは、放射線滅菌処理に暴露され
ると変色する傾向があり、その最も顕著な例はガンマ線
の場合である。従って、滅菌用放射線に暴露された場合
のポリオレフィン組成物の抵抗性を高める方法を提供す
ることが要望されている。
【０００３】
【発明の目的】本発明は滅菌用放射線に対するポリオレ
フィン組成物の抵抗性を高める方法を提供し、その方法
は、ポリオレフィン樹脂とビス（トリ−ｔ−アルキルフ
ェノキシ）ジホスファスピロウンデカン、好ましくはビ
ス（２，４，６−トリ−ｔ−アルキルフェノキシ）ジホ
スファスピロウンデカンを含んで成るポリオレフィン組
成物を、それから作られた医療用物品を含めて、滅菌用
放射線に暴露する方法から構成される。本発明はまた、
そのポリオレフィン組成物から作られた耐変色性医療用
物品を提供する。
フィン組成物の抵抗性を高める方法を提供し、その方法
は、ポリオレフィン樹脂とビス（トリ−ｔ−アルキルフ
ェノキシ）ジホスファスピロウンデカン、好ましくはビ
ス（２，４，６−トリ−ｔ−アルキルフェノキシ）ジホ
スファスピロウンデカンを含んで成るポリオレフィン組
成物を、それから作られた医療用物品を含めて、滅菌用
放射線に暴露する方法から構成される。本発明はまた、
そのポリオレフィン組成物から作られた耐変色性医療用
物品を提供する。
【０００４】
【発明の概要】本発明に使用されるポリマー組成物は、
本明細書中に参考文献として取り入れられている、１９
８８年７月２５日に出願された米国出願番号０７／２２
３，３１８で発明者ウイリアム・イー・ホーン（Ｗｉｌ
ｌｉａｍ Ｅ． Ｈｏｒｎ）の、１９９１年６月１１日
に発行された、米国特許第５，０２３，２８５号に記載
されている。そのポリマー組成物はポリオレフィン樹脂
とビス（トリ−ｔ−アルキルフェノキシ）ジホスファス
ピロウンデカンを含んで成る。
本明細書中に参考文献として取り入れられている、１９
８８年７月２５日に出願された米国出願番号０７／２２
３，３１８で発明者ウイリアム・イー・ホーン（Ｗｉｌ
ｌｉａｍ Ｅ． Ｈｏｒｎ）の、１９９１年６月１１日
に発行された、米国特許第５，０２３，２８５号に記載
されている。そのポリマー組成物はポリオレフィン樹脂
とビス（トリ−ｔ−アルキルフェノキシ）ジホスファス
ピロウンデカンを含んで成る。
【０００５】そのビス（トリ−ｔ−アルキルフェノキ
シ）ジホスファスピロウンデカンは、好ましくは、ビス
（２，４，６−トリ−ｔ−アルキルフェノキシ）ペンタ
エリスリトールジホスファイトとしても知られる３，９
−ビス（２，４，６−トリ−ｔ−アルキルフェノキシ）
−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスフ
ァスピロウンデカンであり、それは次式
シ）ジホスファスピロウンデカンは、好ましくは、ビス
（２，４，６−トリ−ｔ−アルキルフェノキシ）ペンタ
エリスリトールジホスファイトとしても知られる３，９
−ビス（２，４，６−トリ−ｔ−アルキルフェノキシ）
−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスフ
ァスピロウンデカンであり、それは次式
【０００６】
【化１】
【０００７】で示すことができ、式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ
3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 及びＲ6 の各々はターシャリー（”
ｔ”）アルキル部分である。このような部分は、ｔ−ブ
チル、ｔ−ペンチル、１，１，４，４−テトラメチルブ
チル、ｔ−オクチル、１−メチルシクロヘキシル、ｔ−
ドデシル及び２−フェニル−２−プロピルを含む。
3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 及びＲ6 の各々はターシャリー（”
ｔ”）アルキル部分である。このような部分は、ｔ−ブ
チル、ｔ−ペンチル、１，１，４，４−テトラメチルブ
チル、ｔ−オクチル、１−メチルシクロヘキシル、ｔ−
ドデシル及び２−フェニル−２−プロピルを含む。
【０００８】しかし、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、ｔ−
オクチル及びｔ−ドデシルのような炭素原子数４乃至１
２の部分が好まれる。ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、１−
メチルシクロヘキシル及び１，１，４，４−テトラメチ
ルブチルのような比較的小さな基がより好まれる。ｔ−
ブチル部分が最も好まれる。２，４−ジ−ｔ−ブチル−
５−ｔ−ペンチルに於けるように、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，
Ｒ4 ，Ｒ5 及びＲ6 のいずれか或いは全てが異なるよう
に選んでもよいが、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 及び
Ｒ6 が各々同一であることが好ましい。
オクチル及びｔ−ドデシルのような炭素原子数４乃至１
２の部分が好まれる。ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、１−
メチルシクロヘキシル及び１，１，４，４−テトラメチ
ルブチルのような比較的小さな基がより好まれる。ｔ−
ブチル部分が最も好まれる。２，４−ジ−ｔ−ブチル−
５−ｔ−ペンチルに於けるように、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，
Ｒ4 ，Ｒ5 及びＲ6 のいずれか或いは全てが異なるよう
に選んでもよいが、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 及び
Ｒ6 が各々同一であることが好ましい。
【０００９】本発明のジホスファスピロウンデカン類
は、トリ−ｔ−アルキルフェノールと３，９−ジクロロ
−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスフ
ァスピロ（５．５）ウンデカン（これはペンタエリスリ
トールと三塩化リンを当業界で知られた方法で反応させ
て製造してよい）の反応のような当業界で知られた方法
で製造してよい。例えば、３，９−ビス（２，４，６−
トリ−ｔ−ブチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テ
トラオキサ−３，９−ジホスファスピロ（５．５）ウン
デカンは、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノールを
３，９−ジクロロ−２，４，８，１０−テトラオキサ−
３，９−ジホスファスピロ（５．５）ウンデカン（ジク
ロロペンタイト）と反応させて製造してよい。同様に、
３，９−ビス（２，４，６−トリ−ｔ−ペンチルフェノ
キシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジ
ホスファスピロ（５．５）ウンデカンは、２，４，６−
トリ−ｔ−ペンチルフェノールをジクロロペンタイトと
反応させて製造してよい。他のビス（トリ−ｔ−アルキ
ルフェノキシ）−テトラオキサジホスファスピロウンデ
カン類は、所望のトリ−ｔ−アルキルフェノキシ基に相
当するトリ−ｔ−アルキルフェノールとジクロロペンタ
イトを反応させて製造してよい。
は、トリ−ｔ−アルキルフェノールと３，９−ジクロロ
−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスフ
ァスピロ（５．５）ウンデカン（これはペンタエリスリ
トールと三塩化リンを当業界で知られた方法で反応させ
て製造してよい）の反応のような当業界で知られた方法
で製造してよい。例えば、３，９−ビス（２，４，６−
トリ−ｔ−ブチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テ
トラオキサ−３，９−ジホスファスピロ（５．５）ウン
デカンは、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノールを
３，９−ジクロロ−２，４，８，１０−テトラオキサ−
３，９−ジホスファスピロ（５．５）ウンデカン（ジク
ロロペンタイト）と反応させて製造してよい。同様に、
３，９−ビス（２，４，６−トリ−ｔ−ペンチルフェノ
キシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジ
ホスファスピロ（５．５）ウンデカンは、２，４，６−
トリ−ｔ−ペンチルフェノールをジクロロペンタイトと
反応させて製造してよい。他のビス（トリ−ｔ−アルキ
ルフェノキシ）−テトラオキサジホスファスピロウンデ
カン類は、所望のトリ−ｔ−アルキルフェノキシ基に相
当するトリ−ｔ−アルキルフェノールとジクロロペンタ
イトを反応させて製造してよい。
【００１０】本発明のジホスファスピロウンデカン類は
また、所望のトリ−ｔ−アルキルフェノキシ基に相当す
るフェノールを三塩化リンと反応させてトリ−ｔ−アル
キルフェノキシホスフォロジクロリダイトを形成し、そ
のホスフォロジクロリダイトをペンタエリスリトールと
反応させてビス（トリ−ｔ−アルキルフェノキシ）−テ
トラオキサジホスファスピロウンデカンを形成してもよ
い。例えば、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール
を三塩化リンと反応させ、次いでペンタエリスリトール
を反応させてビス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェ
ノキシ）−テトラオキサジホスファスピロウンデカンを
形成してよい。同様に、２，４，６−トリ−ｔ−ドデシ
ルフェノールを三塩化リンと反応させ、次いでペンタエ
リスリトールを反応させてビス（２，４，６−トリ−ｔ
−ドデシルフェノキシ）−テトラオキサジホスファスピ
ロウンデカンを形成してよい。
また、所望のトリ−ｔ−アルキルフェノキシ基に相当す
るフェノールを三塩化リンと反応させてトリ−ｔ−アル
キルフェノキシホスフォロジクロリダイトを形成し、そ
のホスフォロジクロリダイトをペンタエリスリトールと
反応させてビス（トリ−ｔ−アルキルフェノキシ）−テ
トラオキサジホスファスピロウンデカンを形成してもよ
い。例えば、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール
を三塩化リンと反応させ、次いでペンタエリスリトール
を反応させてビス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェ
ノキシ）−テトラオキサジホスファスピロウンデカンを
形成してよい。同様に、２，４，６−トリ−ｔ−ドデシ
ルフェノールを三塩化リンと反応させ、次いでペンタエ
リスリトールを反応させてビス（２，４，６−トリ−ｔ
−ドデシルフェノキシ）−テトラオキサジホスファスピ
ロウンデカンを形成してよい。
【００１１】ジクロロペンタイトおよびホスフォロジク
ロリダイトの経路によるジホスファスピロウンデカン類
の形成手順は、当業界で知られている。しかし、先行技
術で、ジホスファスピロウンデカンが、不溶性塩酸塩を
形成することにより酸受容体として作用するトリエチル
アミンのようなアミンの存在下で、溶液として形成され
ることを教示しているが、ジホスファスピロウンデカン
が、トリ−ｎ−ブチルアミンのような各々のｎ−アルキ
ル基が炭素原子数が３以上のｎ−アルキル部であるトリ
−ｎ−アルキルアミンの存在下で形成され、その場合に
塩酸塩が溶液中に止まり、ジホスファスピロウンデカン
生成物が実質的に不溶性である方が好ましい。好ましい
方法は、いずれも本明細書中に参考文献として取り入れ
られている「３，９−ジホスファスピロウンデカンおよ
び３，９−ジホスファスピロウンデカンの製法」という
名称のエス・ジェー・ホッブス（Ｓ．Ｊ．Ｈｏｂｂ
ｓ）、ケイ・ジェー・シーハン（Ｋ．Ｊ．Ｓｈｅｅｈａ
ｎ）とダブリュー・ピー・エンロウ（Ｗ．Ｐ．Ｅｎｌｏ
ｗ）の米国特許第５，０２３，２８５号と１９８８年７
月２５日出願の米国出願第０７／２２３，３１９号及び
１９９０年３月７日に公告になった出願公告ＥＰ３５６
６８８に於いて更に説明されている。本発明のジホスフ
ァスピロウンデカンの製造に対する先行技術と好ましい
製法の双方の例は「具体例」と題する部分で以下に示さ
れている。
ロリダイトの経路によるジホスファスピロウンデカン類
の形成手順は、当業界で知られている。しかし、先行技
術で、ジホスファスピロウンデカンが、不溶性塩酸塩を
形成することにより酸受容体として作用するトリエチル
アミンのようなアミンの存在下で、溶液として形成され
ることを教示しているが、ジホスファスピロウンデカン
が、トリ−ｎ−ブチルアミンのような各々のｎ−アルキ
ル基が炭素原子数が３以上のｎ−アルキル部であるトリ
−ｎ−アルキルアミンの存在下で形成され、その場合に
塩酸塩が溶液中に止まり、ジホスファスピロウンデカン
生成物が実質的に不溶性である方が好ましい。好ましい
方法は、いずれも本明細書中に参考文献として取り入れ
られている「３，９−ジホスファスピロウンデカンおよ
び３，９−ジホスファスピロウンデカンの製法」という
名称のエス・ジェー・ホッブス（Ｓ．Ｊ．Ｈｏｂｂ
ｓ）、ケイ・ジェー・シーハン（Ｋ．Ｊ．Ｓｈｅｅｈａ
ｎ）とダブリュー・ピー・エンロウ（Ｗ．Ｐ．Ｅｎｌｏ
ｗ）の米国特許第５，０２３，２８５号と１９８８年７
月２５日出願の米国出願第０７／２２３，３１９号及び
１９９０年３月７日に公告になった出願公告ＥＰ３５６
６８８に於いて更に説明されている。本発明のジホスフ
ァスピロウンデカンの製造に対する先行技術と好ましい
製法の双方の例は「具体例」と題する部分で以下に示さ
れている。
【００１２】本発明はまた、一種又はそれ以上の上記の
ビス（トリ−ｔ−アルキルフェノキシ）−テトラオキサ
ジホスファスピロウンデカンの有効量を含む安定化され
たポリマー組成物から製造された医療用物品にも係わ
る。本発明のジホスファスピロウンデカンを含むポノマ
ー組成物が滅菌用放射線に暴露された場合に、本発明の
ジホスファスピロウンデカンを含まない類似のポノマー
組成物と比較して、変色（黄変）抵抗性で改良された安
定性を示す時に本発明のジホスファスピロウンデカンの
量は有効量であるとされる。しかし、大抵のポリマー組
成物で、本発明のジホスファスピロウンデカンが樹脂１
００重量部に付き約０．０１乃至約２重量部（ｐｈｒ）
に等しい量で存在することが好まれるであろう。約０．
０１乃至約１ｐｈｒがより好ましいが、大抵の組成物は
約０．０２５ｐｈｒ又はそれ以上を含む。これらのポリ
マー組成物は米国特許第５，０２３，２８５号に開示さ
れている。
ビス（トリ−ｔ−アルキルフェノキシ）−テトラオキサ
ジホスファスピロウンデカンの有効量を含む安定化され
たポリマー組成物から製造された医療用物品にも係わ
る。本発明のジホスファスピロウンデカンを含むポノマ
ー組成物が滅菌用放射線に暴露された場合に、本発明の
ジホスファスピロウンデカンを含まない類似のポノマー
組成物と比較して、変色（黄変）抵抗性で改良された安
定性を示す時に本発明のジホスファスピロウンデカンの
量は有効量であるとされる。しかし、大抵のポリマー組
成物で、本発明のジホスファスピロウンデカンが樹脂１
００重量部に付き約０．０１乃至約２重量部（ｐｈｒ）
に等しい量で存在することが好まれるであろう。約０．
０１乃至約１ｐｈｒがより好ましいが、大抵の組成物は
約０．０２５ｐｈｒ又はそれ以上を含む。これらのポリ
マー組成物は米国特許第５，０２３，２８５号に開示さ
れている。
【００１３】ポリオレフィンポリマーはモノオレフィン
及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、
ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリメチルペンテ
ン−１、ポリイソプレンやポリブタジエンを含み、また
例えばシクロペンテンやノルボルネン等のシクロオレフ
ィンのポリマー、ポリエチレン（これは任意に架橋され
ていてもよい）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰ
Ｅ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）及び線状低密度
ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）も使用してよい。これらの
ポリマーの混合物、例えばポリプロピレン（ＰＰ）とポ
リイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例え
ばＰＰ／ＨＤＰＥ，ＰＰ／ＬＤＰＥ）及び各種のタイプ
のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）
もまた使用してよい。また有用なのは、モノオレフィン
及びジオレフィン相互間或いは他のビニルモノマーとの
間のコポリマー、例えば以下のような組み合わせであ
る：エチレン／プロピレン、ＬＬＤＰＥ及びそれとＬＤ
ＰＥとの混合物、プロピレン／ブテン−１、エチレン／
ヘキセン、エチレン／エチルペンテン、エチレン／ヘプ
テン、エチレン／オクテン、プロピレン／イソブチレ
ン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタジエン、
イソブチレン／イソプレン、エチレン／アルキルアクリ
レート、エチレン／アルキルメタクリレート、エチレン
／ビニルアセテート（ＥＶＡ）或いはエチレン／アクリ
ル酸コポリマー（ＥＡＡ）とその塩類（イオノマー）及
びエチレンとプロピレンとジエン、例えばヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジエンやエチリデン−ノルボルネン
とのターポリマー、並びにこのようなコポリマーの混合
物、更にそれらの上記ポリマーとの混合物、例えばポリ
プロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰ
Ｅ／ＥＶＡ，ＬＤＰＥ／ＥＡＡ，ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ及
びＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ。
及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、
ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリメチルペンテ
ン−１、ポリイソプレンやポリブタジエンを含み、また
例えばシクロペンテンやノルボルネン等のシクロオレフ
ィンのポリマー、ポリエチレン（これは任意に架橋され
ていてもよい）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰ
Ｅ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）及び線状低密度
ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）も使用してよい。これらの
ポリマーの混合物、例えばポリプロピレン（ＰＰ）とポ
リイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例え
ばＰＰ／ＨＤＰＥ，ＰＰ／ＬＤＰＥ）及び各種のタイプ
のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）
もまた使用してよい。また有用なのは、モノオレフィン
及びジオレフィン相互間或いは他のビニルモノマーとの
間のコポリマー、例えば以下のような組み合わせであ
る：エチレン／プロピレン、ＬＬＤＰＥ及びそれとＬＤ
ＰＥとの混合物、プロピレン／ブテン−１、エチレン／
ヘキセン、エチレン／エチルペンテン、エチレン／ヘプ
テン、エチレン／オクテン、プロピレン／イソブチレ
ン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタジエン、
イソブチレン／イソプレン、エチレン／アルキルアクリ
レート、エチレン／アルキルメタクリレート、エチレン
／ビニルアセテート（ＥＶＡ）或いはエチレン／アクリ
ル酸コポリマー（ＥＡＡ）とその塩類（イオノマー）及
びエチレンとプロピレンとジエン、例えばヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジエンやエチリデン−ノルボルネン
とのターポリマー、並びにこのようなコポリマーの混合
物、更にそれらの上記ポリマーとの混合物、例えばポリ
プロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰ
Ｅ／ＥＶＡ，ＬＤＰＥ／ＥＡＡ，ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ及
びＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ。
【００１４】ポリマー組成物は更に中和剤、一次酸化防
止剤、二次酸化防止剤及びヒンダードアミン光安定剤の
ような光安定剤を含んでもよい。特定の物体の滅菌を達
成するために使用される放射線は電離放射線であり、通
常は、コバルト−６０又はセシウム−１３７放射性核か
ら生成されたガンマ線である。滅菌に要求されるガンマ
線の量は、一般に０．５乃至約７メガラドである。二番
目のタイプの放射線である電子ビームも滅菌に適当であ
る。電子ビームは高圧電子加速で作り出される。
止剤、二次酸化防止剤及びヒンダードアミン光安定剤の
ような光安定剤を含んでもよい。特定の物体の滅菌を達
成するために使用される放射線は電離放射線であり、通
常は、コバルト−６０又はセシウム−１３７放射性核か
ら生成されたガンマ線である。滅菌に要求されるガンマ
線の量は、一般に０．５乃至約７メガラドである。二番
目のタイプの放射線である電子ビームも滅菌に適当であ
る。電子ビームは高圧電子加速で作り出される。
【００１５】
【実施例の記載】本発明は以下の実施例で更に説明され
る。しかし、以下に示されているものだけに本発明の範
囲を制限する意図はない。例１乃至５は本発明を説明す
る。例Ａ乃至Ｙ及びＡＡ乃至ＡＥは比較例である。使用
したポリプロピレンは市販品である。
る。しかし、以下に示されているものだけに本発明の範
囲を制限する意図はない。例１乃至５は本発明を説明す
る。例Ａ乃至Ｙ及びＡＡ乃至ＡＥは比較例である。使用
したポリプロピレンは市販品である。
【００１６】Ａ０１は、ジー・イー・スペシアルティ・
ケミカルズ社（ＧＥ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉ
ｃａｌｓ Ｉｎｃ．）からアルトラノツクス（登録商
標）（Ｕｌｔｒａｎｏｘ）６２６の商品名で販売されて
いる２，４−（ビス−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイトである。Ａ０２は、チバ
−ガイギー（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）社からイルガフォ
ス（登録商標）（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８の商品名で販
売されているトリ（ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファ
イトである。
ケミカルズ社（ＧＥ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉ
ｃａｌｓ Ｉｎｃ．）からアルトラノツクス（登録商
標）（Ｕｌｔｒａｎｏｘ）６２６の商品名で販売されて
いる２，４−（ビス−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイトである。Ａ０２は、チバ
−ガイギー（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）社からイルガフォ
ス（登録商標）（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８の商品名で販
売されているトリ（ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファ
イトである。
【００１７】Ａ０３は、次式
【００１８】
【化２】
【００１９】で示され、アデカ・アーガス（Ａｄｅｋａ
Ａｒｇｕｓ）社からＰＥＰＱ（登録商標）の商品名で
販売されている。Ａ０４は、エチル・コーポレーション
（Ｅｔｈｙｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）社からエタノ
ックス（登録商標）（Ｅｔｈａｎｏｘ）３９８の商品名
で販売されている２，２´エチリデン−ビス−４，６−
ジ−ｔ−ブチルフェニルフルオロホスフェートである。
Ａｒｇｕｓ）社からＰＥＰＱ（登録商標）の商品名で
販売されている。Ａ０４は、エチル・コーポレーション
（Ｅｔｈｙｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）社からエタノ
ックス（登録商標）（Ｅｔｈａｎｏｘ）３９８の商品名
で販売されている２，２´エチリデン−ビス−４，６−
ジ−ｔ−ブチルフェニルフルオロホスフェートである。
【００２０】Ａ０５は、ジー・イー・スペシアルティ・
ケミカルズ社（ＧＥ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉ
ｃａｌｓ Ｉｎｃ．）からウエストン（登録商標）（Ｗ
ｅｓｔｏｎ）ＴＮＰＰ ３９９の商品名で販売されてい
るトリスノニルフェニルホスファイトである。Ａ０７
は、次式
ケミカルズ社（ＧＥ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉ
ｃａｌｓ Ｉｎｃ．）からウエストン（登録商標）（Ｗ
ｅｓｔｏｎ）ＴＮＰＰ ３９９の商品名で販売されてい
るトリスノニルフェニルホスファイトである。Ａ０７
は、次式
【００２１】
【化３】
【００２２】で示されるビス（２，４，６−トリ−ｔ−
ブチルフェノキシ）−テトラオキサジホスファスピロウ
ンデカンで、ジー・イー・スペシアルティ・ケミカルズ
社（ＧＥ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ
Ｉｎｃ．）からアルトラノツクス（Ｕｌｔｒａｎｏｘ）
６３３の商品名で販売されている。Ａ０６は約１重量％
のトリ−イソプロパノールアミンを含有するジステアリ
ルペンタエリスリトールジホスファイトであり、ジー・
イー・スペシアルティ・ケミカルズ社（ＧＥ Ｓｐｅｃ
ｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｉｎｃ．）からウエ
ストン（Ｗｅｓｔｏｎ） ６１９の商品名で販売されて
いる。
ブチルフェノキシ）−テトラオキサジホスファスピロウ
ンデカンで、ジー・イー・スペシアルティ・ケミカルズ
社（ＧＥ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ
Ｉｎｃ．）からアルトラノツクス（Ｕｌｔｒａｎｏｘ）
６３３の商品名で販売されている。Ａ０６は約１重量％
のトリ−イソプロパノールアミンを含有するジステアリ
ルペンタエリスリトールジホスファイトであり、ジー・
イー・スペシアルティ・ケミカルズ社（ＧＥ Ｓｐｅｃ
ｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｉｎｃ．）からウエ
ストン（Ｗｅｓｔｏｎ） ６１９の商品名で販売されて
いる。
【００２３】ＣａＳＴはカルシウムステアレートであ
る。Ｉ−１０１０はチバ−ガイギー（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉ
ｇｙ）社からイルガノックス（登録商標）（Ｉｒｇａｎ
ｏｘ）１０１０の商品名で販売されているテトラキス
（メチレン（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シ）ヒドロシンナメート）メタンである。ＤＳＴＤＰは
ジステアリルチオジプロピオネートである。キマソルブ
（登録商標）（Ｃｈｉｍａｓｏｌｂ）９４４ＬＤはポリ
（１６−（（１，１，３，３−テトラメチルブチル）ア
ミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）（（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）
ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−ｅ
−ピペリジル）イミノ）である。チノビン（登録商標）
（Ｔｉｎｏｖｉｎ）７７０はビス（２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジル）セバケートである。
る。Ｉ−１０１０はチバ−ガイギー（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉ
ｇｙ）社からイルガノックス（登録商標）（Ｉｒｇａｎ
ｏｘ）１０１０の商品名で販売されているテトラキス
（メチレン（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シ）ヒドロシンナメート）メタンである。ＤＳＴＤＰは
ジステアリルチオジプロピオネートである。キマソルブ
（登録商標）（Ｃｈｉｍａｓｏｌｂ）９４４ＬＤはポリ
（１６−（（１，１，３，３−テトラメチルブチル）ア
ミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）（（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）
ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−ｅ
−ピペリジル）イミノ）である。チノビン（登録商標）
（Ｔｉｎｏｖｉｎ）７７０はビス（２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジル）セバケートである。
【００２４】例１乃至２９に於ける量は全てポリプロピ
レン樹脂の全重量を規準にした百万分率（ｐｐｍ）であ
る。次の例は、ホスファイトを添加された各種のポリプ
ロピレン組成物によって示される黄変度の変化を説明し
ている。
レン樹脂の全重量を規準にした百万分率（ｐｐｍ）であ
る。次の例は、ホスファイトを添加された各種のポリプ
ロピレン組成物によって示される黄変度の変化を説明し
ている。
【００２５】
【表１】 表 １ Ａ Ｂ Ｃ Ｄ Ｅ Ｆ １ CaST 1000 1000 1000 1000 1000 1000 1000 I-1010 1000 1000 1000 1000 1000 1000 1000 DSTDP 2500 2500 2500 2500 2500 2500 2500 A01 −− 500 1000 −− −− −− −− A02 −− −− −− 1000 −− −− −− A03 −− −− −− −− 1000 −− −− A06 −− −− −− −− −− −− −− A04 −− −− −− −− −− 1000 −− A07 −− −− −− −− −− −− 1000 A05 −− −− −− −− −− −− −− Ｇ Ｈ Ｉ Ｊ Ｋ ２ CaST 1000 1000 1000 1000 1000 1000 I-1010 1000 1000 1000 1000 1000 1000 DSTDP −− −− −− −− −− −− A01 −− 1000 −− −− −− −− A02 −− −− 1000 −− −− −− A03 −− −− −− 1000 −− −− A06 −− −− −− −− −− −− A04 −− −− −− −− 1000 −− A07 −− −− −− −− −− 1000 A05 −− −− −− −− −− −− Ｌ Ｍ Ｎ Ｏ Ｐ Ｑ ３ Ｒ Ｓ CaST 1000 1000 1000 1000 1000 1000 1000 1000 1000 I-1010 −− 1000 1000 1000 1000 1000 1000 1000 1000 DSTDP −− −− −− −− −− −− −− −− 2500 A01 −− −− 1000 −− −− −− −− −− −− A02 −− −− −− 1000 −− −− −− −− −− A03 −− −− −− −− 1000 −− −− −− −− A06 −− −− −− −− −− 1000 −− −− −− A04 −− −− −− −− −− −− 1000 −− −− A05 1000 −− −− −− −− −− −− 1000 1000
【００２６】
【表２】 表 ２ Ｔ Ｕ Ｖ Ｗ Ｘ Ｙ ４ CaST 1000 1000 1000 1000 1000 1000 1000 I-1010 750 750 750 750 750 750 750 944LD −− 1500 1500 1500 1500 1500 1500 T770 −− −− −− −− −− −− −− A01 −− −− 750 −− −− −− −− A02 −− −− −− 750 −− −− −− A03 −− −− −− −− 750 −− −− A06 −− −− −− −− −− −− −− A04 −− −− −− −− −− 750 −− A07 −− −− −− −− −− −− 750 ＡＡ ＡＢ ＡＣ ＡＤ ＡＥ ５ CaST 1000 1000 1000 1000 1000 1000 I-1010 750 750 750 750 750 750 944LD −− −− −− −− −− −− T770 1500 1500 1500 1500 1500 1500 A01 −− 750 −− −− −− −− A02 −− −− 750 −− −− −− A03 −− −− −− 750 −− −− A06 −− −− −− −− −− −− A04 −− −− −− −− 750 −− A07 −− −− −− −− −− 750
【００２７】
【表３】 Ｙｏは照射前の試料の初期黄色度インデックスである。
Ｙｆは照射後の試料の最終黄色度インデックスである。
Ｙｆ−Ｙｏは試料の照射に依って生じる黄色度の変化で
ある。ＹｆとＹｏは黄色度の測定値であり、２°オブザ
ーバーを使用し中に含まれる反射率モードスペクトルで
操作されるパシフィク サイエンティフィク（Ｐａｃｉ
ｆｉｃ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ，Ｇａｒｄｎｅｒ Ｌａ
ｂｏｒａｔｏｒｙ ｄｉｖｉｓｉｏｎ，Ｂｅｔｈｅｓｄ
ａ，Ｍａｒｙｌａｎｄ）製のＸＬ−８３５カロメーター
（Ｃｏｌｏｍｅｔｅｒ）を使用して測定した。
Ｙｆは照射後の試料の最終黄色度インデックスである。
Ｙｆ−Ｙｏは試料の照射に依って生じる黄色度の変化で
ある。ＹｆとＹｏは黄色度の測定値であり、２°オブザ
ーバーを使用し中に含まれる反射率モードスペクトルで
操作されるパシフィク サイエンティフィク（Ｐａｃｉ
ｆｉｃ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ，Ｇａｒｄｎｅｒ Ｌａ
ｂｏｒａｔｏｒｙ ｄｉｖｉｓｉｏｎ，Ｂｅｔｈｅｓｄ
ａ，Ｍａｒｙｌａｎｄ）製のＸＬ−８３５カロメーター
（Ｃｏｌｏｍｅｔｅｒ）を使用して測定した。
Claims (9)
- 【請求項１】 放射線滅菌時にポリオレフィン組成物の
黄変を抑制する方法に於いて、ポリオレフィン樹脂にビ
ス（トリ−ｔ−アルキルフェノキシ）−テトラオキサジ
ホスファスピロウンデカンを配合する方法。 - 【請求項２】 該ビス（トリ−ｔ−アルキルフェノキ
シ）−テトラオキサジホスファスピロウンデカンがビス
（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノキシ）−テトラ
オキサジホスファスピロウンデカンである請求項１記載
の方法。 - 【請求項３】 ポリオレフィン組成物を滅菌する方法に
於いて、まず最初にポリオレフィン樹脂にビス（トリ−
ｔ−アルキルフェノキシ）−テトラオキサジホスファス
ピロウンデカンを配合し、それから該ポリオレフィン組
成物を滅菌用放射線の滅菌量に暴露することより成る方
法。 - 【請求項４】 滅菌状態を達成するまで十分に照射され
た医療用物品に於いて、ポリオレフィンポリマーとビス
（トリ−ｔ−アルキルフェノキシ）−テトラオキサジホ
スファスピロウンデカンを含んで成る物品。 - 【請求項５】 該ビス（トリ−ｔ−アルキルフェノキ
シ）−テトラオキサジホスファスピロウンデカンがビス
（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノキシ）−テトラ
オキサジホスファスピロウンデカンである請求項４記載
の物品。 - 【請求項６】 該ビス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチル
フェノキシ）−テトラオキサジホスファスピロウンデカ
ンがポリオレフィン組成物の全重量を基準にして０．０
１乃至５．０重量％のレベルで存在する請求項５記載の
物品。 - 【請求項７】 放射線による滅菌化に適する医療用物品
に於いて、ポリオレフィン樹脂とビス（トリ−ｔ−アル
キルフェノキシ）−テトラオキサジホスファスピロウン
デカンを含んで成るポリオレフィン組成物より成る物
品。 - 【請求項８】 該ビス（トリ−ｔ−アルキルフェノキ
シ）−テトラオキサジホスファスピロウンデカンがビス
（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノキシ）−テトラ
オキサジホスファスピロウンデカンである請求項７記載
の医療用物品。 - 【請求項９】 滅菌用放射線がガンマ線である請求項３
記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US84665292A | 1992-03-05 | 1992-03-05 | |
| US846652 | 1992-03-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05339431A true JPH05339431A (ja) | 1993-12-21 |
Family
ID=25298546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5043110A Withdrawn JPH05339431A (ja) | 1992-03-05 | 1993-03-04 | 滅菌用放射線に対するポリオレフィン組成物の色安定性を向上する方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0559461A1 (ja) |
| JP (1) | JPH05339431A (ja) |
| KR (1) | KR930019742A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999064506A1 (en) * | 1998-06-11 | 1999-12-16 | Teijin Limited | η-RAY STABILIZER AND THERMOPLASTIC POLYMER COMPOSITION CONTAINING THE SAME |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5559167A (en) * | 1993-07-22 | 1996-09-24 | General Electric Company | Gamma irradiated thermoplastics and articles |
| KR101997046B1 (ko) * | 2012-08-02 | 2019-07-05 | 송원산업 주식회사 | 디포스파이트계 산화방지제 및 이를 포함하는 고분자 수지 조성물 |
| CN103694573B (zh) * | 2013-12-11 | 2015-10-14 | 上海瀚氏模具成型有限公司 | 一种汽车内饰件用耐黄变pp/hdpe塑料及其制备方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0776291B2 (ja) * | 1986-07-28 | 1995-08-16 | 旭電化工業株式会社 | 耐放射線性ポリオレフイン組成物 |
| US5023285A (en) * | 1988-07-25 | 1991-06-11 | G E Specialty Chemicals | Bis (tri-tertiary-alkylphenoxy) diphosphaspiroundecanes |
-
1993
- 1993-03-04 EP EP93301630A patent/EP0559461A1/en not_active Withdrawn
- 1993-03-04 JP JP5043110A patent/JPH05339431A/ja not_active Withdrawn
- 1993-03-04 KR KR1019930003174A patent/KR930019742A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999064506A1 (en) * | 1998-06-11 | 1999-12-16 | Teijin Limited | η-RAY STABILIZER AND THERMOPLASTIC POLYMER COMPOSITION CONTAINING THE SAME |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR930019742A (ko) | 1993-10-18 |
| EP0559461A1 (en) | 1993-09-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000509 |