JPH05335869A - 高周波装置 - Google Patents

高周波装置

Info

Publication number
JPH05335869A
JPH05335869A JP13683092A JP13683092A JPH05335869A JP H05335869 A JPH05335869 A JP H05335869A JP 13683092 A JP13683092 A JP 13683092A JP 13683092 A JP13683092 A JP 13683092A JP H05335869 A JPH05335869 A JP H05335869A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
load
high frequency
current
arc discharge
signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP13683092A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Kato
努 加藤
Shintaro Hidaka
晋太郎 日高
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP13683092A priority Critical patent/JPH05335869A/ja
Publication of JPH05335869A publication Critical patent/JPH05335869A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 正確にアーク放電の発生を検知し、アーク放
電を停止させることができる高周波装置を実現する。 【構成】 計算器12は、負荷7に流れ込む電流Iを求
め、この値を微分回路13に供給する。ここで、負荷7
においてグロー放電からアーク放電に移行すると、瞬間
的に負荷に流れる電流が増加するが、微分回路13はこ
の電流変化に基づいてパルス状の信号を発生する。タイ
マー14は微分回路13からのパルス状の信号をトリガ
ーとして一定期間(数秒間)、ハイレベル信号を発生す
る。スイッチ16では、ハイレベル信号が供給されてい
る期間、発振器1からの信号を導通状態としてアースに
流すため、負荷7への高周波電力の供給は一時的に停止
され、その結果、アーク放電は停止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アーク放電の影響を著
しく少なくした高周波スパッタリング装置やエッチング
装置などの高周波装置に関する。
【0002】
【従来の技術】高周波スパッタリング装置では、2枚の
電極間に高周波を印加し、一方の電極(試料)をスパッ
タリングし、試料表面のクリーニングなどを行ってい
る。また、別の高周波装置では、2枚の電極間に高周波
を印加し、一方の電極からスパッタされた粒子を電極に
接近して配置された基板上に付着させるようにしてい
る。このような高周波装置では、2枚の電極間でグロー
放電を発生させて一方の電極のスパッタリングなどを行
っているが、例えば、一方の電極である試料のクリーニ
ングを行う際、最初の1分間はスパッタの量を多くして
表面を多く削るために高周波電力を上昇させ、次の1分
間は試料を薄く削るために高周波電力を低くする制御を
行っている。そのような場合、高周波電力の切替のとき
に、負荷が変動し、グロー放電からアーク放電にと移行
し、比較的大きな電流が両電極間に流れ、試料がダメー
ジを受ける。このようなアーク放電は、試料に微小な突
起がある場合にもその部分の放電がきっかけとなって発
生する場合もある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、アーク
放電が発生すると、試料がダメージを受けるため、速や
かにアーク放電を停止させねばならない。そのため、従
来では、カレントトランスを設け、このカレントトラン
スによりアーク放電の発生に伴う電流の変化を検出し、
負荷への高周波電力を停止させるか電力を下げるように
している。しかしながら、高周波電流が数十アンペアの
大電流であるため、大きめのカレントトランスを用いて
もアーク放電の発生を検知できない場合が生じている。
【0004】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、正確にアーク放電の発生を検知
し、アーク放電を停止させることができる高周波装置を
実現するにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明に基づく高周波装
置は、高周波電源と、高周波電源からの高周波電力が供
給される負荷と、電源と負荷との間に配置され、コンデ
ンサとコイルとから成るマッチングボックスと、負荷に
流れる電流を求める計算手段と、負荷電流の変化により
所定時間高周波電源から負荷への高周波の供給を制御す
る手段とより成ることを特徴としている。
【0006】
【作用】マッチングボックス内のコイルの間の電位差と
位相差を検出し、それに基づいて負荷電流を求め、負荷
電流の変化により高周波の負荷への供給を制御し、アー
ク放電を停止させる。
【0007】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図1は本発明の一実施例を示しており、1
は高周波発振器である。高周波発振器1からの高周波
は、増幅器2を介してマッチングボックス3に供給され
る。マッチングボックス3はマッチングコンデンサ4、
チューニングコンデンサ5、コイル6から構成されてい
る。マッチングボックス3からの高周波は、負荷7に供
給される。8,9,10,11はコイル6の両端間の電
位を検出するための分割コンデンサであり、コイル6の
一方の端部の電位に比例した信号はコンデンサ8と9の
中間部から得られ、コイルの他方の端部の電位に比例し
た信号はコンデンサ10と11の中間部から得られる。
各コンデンサの中間点の信号は計算器12に供給され、
この計算器12において後述する負荷に流れる電流が求
められる。
【0008】13は微分回路であり、計算器12で求め
られた負荷7に流れる電流の変化を検出する。微分回路
13の出力は、タイマー14に供給され、タイマー14
は微分回路13の出力に応じて一定期間ハイレベル信号
を発生する。15は増幅器であり、タイマー14からの
信号を増幅してスイッチ手段16に供給する。スイッチ
手段16は、高周波発振器1の出力側に接続されてお
り、タイマー14の出力がハイレベルの間スイッチ手段
16を導通状態とし、高周波発振器1の出力側を接地す
る。このような構成の動作を次に説明する。
【0009】高周波発振器1からの高周波電力は、増幅
器2によって増幅され、負荷7に印加される。その際、
高周波発振器と負荷側のインピーダンスを整合させ、効
率よく高周波を負荷7に供給するため、マッチングボッ
クス3内のマッチングコンデンサ4、チューニングコン
デンサ5を調整し、インピーダンスマッチングを行う。
ここで、マッチングボックス3内のコイル6の両端間の
電位差から負荷7に流れる電流を求める方法について述
べる。
【0010】図2はマッチングボックス3と負荷7との
等価回路であり、図1と同一部分は同一番号が付されて
いる。負荷7はコンデンサ17と抵抗18とから成る。
コイル6の両端の電位をV2,V3とし、負荷に流れる
電流をIとする。このような等価回路における電圧V
2,V3、電流Iのベクトル図を図3に示す。
【0011】まず、負荷のインピーダンスを求める過程
を説明する。図3のベクトル図から次の式が導かれる。
【0012】
【数1】
【0013】その結果、V1は次式で表される。
【0014】
【数2】
【0015】次に図2の回路におけるコイル6の両端の
電位V2,V3の電位差xは次式で表される。
【0016】
【数3】
【0017】上式より、負荷7に流れ込む電流Iは次の
ようになる。
【0018】
【数4】
【0019】計算器12は、この式に基づいて負荷7に
流れ込む電流Iを求め、この値を微分回路13に供給す
る。ここで、負荷7においてグロー放電からアーク放電
に移行すると、瞬間的に負荷に流れる電流が増加する
が、微分回路13はこの電流変化に基づいてパルス状の
信号を発生する。タイマー14は微分回路13からのパ
ルス状の信号をトリガーとして一定期間(数秒間)、ハ
イレベル信号を発生する。このハイレベル信号は増幅器
15を介してスイッチ16に供給される。スイッチ16
では、ハイレベル信号が供給されている期間、発振器1
からの信号を導通状態としてアースに流すため、負荷7
への高周波電力の供給は一時的に停止され、その結果、
アーク放電は停止する。一定期間終了後、スイッチ16
へのハイレベル信号の供給が停止されると、再びスイッ
チ16は遮断状態となり、高周波電力が負荷7に供給さ
れることから、グロー放電による正常な運転が再開され
る。
【0020】上記した実施例では、コイル6の両端間の
電位差と位相とによって負荷に流れる電流を計算した
が、マッチングボックス3の入力側の電圧V0,電流I
0とによって負荷電流を計算することもできる。ここ
で、マッチングボックス3の入力側の電圧V0,電流I
0、コンデンサ4に流れる電流I1、負荷に流れる電流
I2(=I)のベクトル図を図4,図5に示す。図4は
電流I0の位相が電圧V0の位相より先行している場
合、図5はその逆の場合であり、これらの図においてθ
は電圧V0と電流I0との位相差である。これらのベク
トル図から次式が導かれる。
【0021】
【数5】
【0022】計算器12は上式によって負荷電流を求
め、その値を微分回路13に供給することから、この実
施例でもアーク放電の発生を瞬時に検出でき、アーク放
電を停止させた後、正常なグロー放電による運転を行う
ことができる。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に基づく高
周波装置は、マッチングボックス内のコイル素子の両端
間の電位差とその位相差を検出し、それに基づいて負荷
電流を求め、負荷電流の変化により高周波の負荷への供
給を制御し、アーク放電を停止させるように構成したの
で、正確にアーク放電の発生を検知し、アーク放電を停
止させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である高周波装置を示す図で
ある。
【図2】マッチングボックスと負荷の等価回路を示す図
である。
【図3】図2の回路における電圧V2,V3、電流Iの
ベクトル図を示す図である。
【図4】図2の回路における電圧V0、電流I0、電流
I1、I2のベクトル図を示す。
【図5】図2の回路における電圧V0、電流I0、電流
I1、I2のベクトル図を示す。
【符号の説明】
1 高周波発振器 2 増幅器 3 マッチングボックス 7 負荷 12 計算器 13 微分回路 14 タイマー 15 増幅器 16 スイッチ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高周波電源と、高周波電源からの高周波
    電力が供給される負荷と、電源と負荷との間に配置さ
    れ、コンデンサとコイルとから成るマッチングボックス
    と、負荷に流れる電流を求める計算手段と、負荷電流の
    変化により所定時間高周波電源から負荷への高周波の供
    給を制御する手段とより成る高周波装置。
  2. 【請求項2】 前記計算手段は、マッチングボックスの
    コイルの両端間の電位と位相とに基づいて負荷に流れる
    電流を計算するようにした請求項1記載の高周波装置。
  3. 【請求項3】 前記計算手段は、マッチングボックスの
    入力側の電圧と電流とに基づいて負荷に流れる電流を計
    算するようにした請求項1記載の高周波装置。
JP13683092A 1992-05-28 1992-05-28 高周波装置 Withdrawn JPH05335869A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13683092A JPH05335869A (ja) 1992-05-28 1992-05-28 高周波装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13683092A JPH05335869A (ja) 1992-05-28 1992-05-28 高周波装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05335869A true JPH05335869A (ja) 1993-12-17

Family

ID=15184503

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13683092A Withdrawn JPH05335869A (ja) 1992-05-28 1992-05-28 高周波装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05335869A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006165390A (ja) * 2004-12-09 2006-06-22 Hitachi High-Technologies Corp 半導体製造装置
JP2007149597A (ja) * 2005-11-30 2007-06-14 Daihen Corp プラズマ処理システムのアーク検出装置
JP2007273935A (ja) * 2006-03-08 2007-10-18 Harada Sangyo Kk 真空処理装置及びこれに用いる交流電源装置、並びに、交流電源の制御方法
US7767053B2 (en) 2003-08-07 2010-08-03 Hitachi Kokusai Electric Inc. Substrate processing apparatus and substrate processing method

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7767053B2 (en) 2003-08-07 2010-08-03 Hitachi Kokusai Electric Inc. Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP2006165390A (ja) * 2004-12-09 2006-06-22 Hitachi High-Technologies Corp 半導体製造装置
JP4537188B2 (ja) * 2004-12-09 2010-09-01 株式会社日立ハイテクノロジーズ プラズマ処理装置
JP2007149597A (ja) * 2005-11-30 2007-06-14 Daihen Corp プラズマ処理システムのアーク検出装置
JP2007273935A (ja) * 2006-03-08 2007-10-18 Harada Sangyo Kk 真空処理装置及びこれに用いる交流電源装置、並びに、交流電源の制御方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6174450B1 (en) Methods and apparatus for controlling ion energy and plasma density in a plasma processing system
US11195697B2 (en) Plasma control apparatus
JP4879548B2 (ja) 高周波電源装置
US5801379A (en) High voltage waveform generator
KR101761493B1 (ko) 스위칭 모드 이온 에너지 분포 시스템을 교정하기 위한 시스템 및 방법
JP2007103102A5 (ja)
US20060011473A1 (en) Discharging power source, sputtering power source, and sputtering device
US4856345A (en) Method and apparatus for making compensation for DC offset voltage generated in aplifying circuit in electromagnetic flowmeter
JP2627956B2 (ja) プラズマの検出方法及びその回路構造
JPWO2002059954A1 (ja) プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
JPH08167500A (ja) 高周波プラズマ発生装置用電源
JP4204505B2 (ja) マグネトロン発振装置
JP3176128B2 (ja) インピーダンス整合器の出力電圧測定装置
JPH05335869A (ja) 高周波装置
JP3129820B2 (ja) 粒子検出装置
JPH02312227A (ja) プラズマ処理方法及び装置
JPS6144611B2 (ja)
JPH0240570A (ja) プラズマ炉内の放電のインピーダンス決定方法および装置、ならびに炉内の放電のインピーダンス調整装置
JP2001324520A (ja) インピーダンス検出回路、インピーダンス検出装置、及びインピーダンス検出方法
JP3014867B2 (ja) 放電を利用する真空装置における放電検出装置
JPH10154697A (ja) プラズマ処理装置及びその管理方法
JPH05345972A (ja) 高周波装置
JPH0982496A (ja) 高周波装置
JP3574503B2 (ja) 放電加工方法及びその装置
JPS60256819A (ja) プラズマ利用装置用のrf電力供給制御装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19990803