JPH05335404A - 無接触保持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 板状体を安定して、かつ流体の外部への排出
を減少させて無接触状態にてて保持する。 【構成】 作動面の周辺部に流体供給源に接続する流体
供給口を備えたクッション室室を配設し、作動面の中央
部に流体吸引源に接続する流体吸引口を設けて構成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハ、ホトマ
スク他、ガラス等他の傷や汚れの付着を極端に嫌う板状
体を、空気等の流体により無接触状態にて保持する装置
にかんするものである。

【０００２】

【従来の技術】従来この種の無接触保持装置としては、
特公昭５１−４０３４３号にしめされるように、吸込管
とこの吸込管の周囲に設けた吐出管とを組み合わせて、
この吸込管と吸込管から流体を流入及び流出させること
により、板状体を吸込管と吸込管の先端との間で、無接
触にて保持するものがある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】近年半導体製造の微細
化、液晶ガラスの精緻化に伴いこれらの製品をクリーン
な環境で傷や汚れを付けずに搬送することが要求され
る。

【０００４】従来の装置では、板状体に流体が作用する
領域は、吸込管及び吐出管出口に限られている。

【０００５】また無接触保持された板状体の面に対して
直角方向の変位に対する吐出管内の流量の変化が小さい
から、板状体に対する保持力、特に保持復元力が小さい
ので保持安定性に欠けるという問題があり、また吐出し
た流体が全量排出さるので、クリーンルームを汚染する
という問題があった。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決する手段として、流体により板状体を無接触状態に
て保持する装置において、保持する板状体との間に平面
的な空隙を形成するための作動面を備える基体と、この
作動面の周辺部に位置するように配設された上部に高圧
流体供給源に接続する流体供給口を設けたポッケト状の
クッション室と、前記作動面の中心部に流体吸引源に接
続する流体吸引口を設けた無接触保持装置を提供するこ
とにより解決される。

【０００７】

【作用】流体供給口より供給された高圧流体は、クッシ
ョン室を通り板状体に向かって噴出され、作動面と板状
体との空隙を通り、流体供給口より吸引されて排出され
る。

【０００８】作動面と板状体との距離が大きい場合、ク
ッション室はエゼクタの真空室に相当する機能を果たし
負圧となり、また作動面と板状体との間の空隙を通る高
速流体による靜圧の低下により板状体は吸引される。

【０００９】板状体が吸引され作動面との距離が小にな
れば、クッション室はホバークラフトの圧力室型エアク
ッションの機能を果たし、クッション室の圧力が上が
り、また作動面と板状体との空隙を通る流体のクッショ
ン作用により、板状体が作動面に接触するのを防止す
る。

【００１０】

【実施例】図１及び図２は本発明の無接触保持装置を示
す。

【００１１】基体１の板状体６に対向する作動面２の周
辺部に開口するポッケット状のクッション室３を配し、
クッション室３上部には高圧流体供給源（図示せず）に
接続する流体供給口４が設けられている。

【００１２】作動面２の中央部には、流体吸引源（図示
せず）に接続する流体吸引口５が設けられている。

【００１３】作動面２に近接して置かれた板状体６に向
かって流体供給口４より供給された流体は、クッション
室３より板状体６に向かって噴出し、板状体６と作動面
２とで形成される空隙を通り、大部分の流体が流体吸引
口５に吸引され、外部へ排出される。

【００１４】この間作動面２と板状体６との間隔が大き
い場合、作動面２と板状体６で形成される空隙は、エゼ
クタのデフューザの機能を、クッション室３はエゼクタ
の真空室の機能を、また流体供給口４はエゼクタのノズ
ルの機能を果たす。

【００１５】従ってクッション室３の圧力は低下しする
とともに、作動面２と板状体６との空隙を通る流体の速
度は増加し、空隙の靜圧が低下する。

【００１６】この圧力の低下が板状体６に対して吸引力
となり板状体６を引き上げる。

【００１７】この圧力の低下は、流体吸引口５より流体
を吸引することにより増加する。

【００１８】一方、板状体６が吸引され作動面２との間
隔が小になると、クッション室３は、ホバークラフトの
圧力室型エアークッションの機能を果たし、クッション
室３の圧力は上昇する。

【００１９】同時に、前記空隙を通る流体もクッション
効果を生じ、共に板状体６に対して反発力を生じ、板状
体６が作動面２に接触するのを防止する。

【００２０】また、流体吸引口５からの流体の吸引によ
る空隙内の負圧の上昇により、板状体６と作動面２との
間隔がさらに小になると、空隙内の流れは粘性流とな
り、強い保持力を発生する。

【００２１】流体供給口４、クッション室３および作動
面２で形成される機構は、本発明者の発明にかかる特公
平１−５１４１３号の空気保持装置と同じである。

【００２２】従って、本発明の無接触保持装置は、従来
の技術よりも吸引力は１．４倍、反発力は１、３倍以上
優れており、また保持安定性に優れている。

【００２３】また作動面２の中心部は、流体吸引口５に
より吸引されているので、クッション室３より排出した
流体は大部分流体吸引口５に吸引され、作動面２の外周
部より排出する流体量は少なく、クリーンルームを汚染
することが少ない。

【００２４】図３に示すごとく流体吸引口５の下部にポ
ッケト８を設け、吸引性能を良好にするのも好例であ
る。

【００２５】図３及び図４に示すごとく、クッション室
も環状溝７にしてもよく、また図５に示すごとく環状溝
７内及びポッケット８に仕切り９、１０を設けることに
より流体の流れの均等化が計れる。

【００２６】また流体供給口４の口径はクッション室３
に等しいかまたは小さい。

【００２７】作動面２の外周部より流体の流出を小さく
するために、ラビリンス溝を設けるのも好例である。

【００２８】作動面２の周囲にフードを設け排出流体を
捕捉することもよい。

【００２９】

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、板状
体を無接触状態にて安定して保持でき、かつ流体を外部
に排出することが少ない無接触保持装置を提供すること
が出来るので傷や汚れを嫌う板状体の製造効率を向上す
ることが出来るようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例の側面断面図。

【図２】本発明の実施例の下平面図。

【図３】本発明の他の実施例の側面断面図。

【図４】本発明の他の実施例の下平面図。

【図５】本発明の別の実施例の下平面図。

【符号の説明】

１ 基体 ２ 作動面 ３ クッション室 ４ 流体供給口 ５ 流体吸引口 ６ 板状体 ７ 環状溝 ８ ポケット ９ 仕切り １０ 仕切り

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 流体により板状体を無接触状態にて保持
   する装置において、保持する板状体との間に平面的な空
   隙を形成するための作動面を備える基体と、この作動面
   の周辺部に位置するように配設された上部に高圧流体供
   給源に接続する流体供給口を設けたポッケト状のクッシ
   ョン室と、前記作動面の中心部に流体吸引源に接続する
   流体吸引口を設けた無接触保持装置。
2. 【請求項２】 前記流体吸引口の下部に開口するポッ
   ケットを設けた請求項１の無接触保持装置。
3. 【請求項３】 前記クッション室を連続させて環状溝
   とした請求項１の無接触保持装置。
4. 【請求項４】 前記クッション室３および周状の溝に
   仕切りを設けた請求項１の無接触保持装置。
5. 【請求項５】 前記ポぽッケットに仕切りを設けた請
   求項１の無接触保持装置。