JPH0532185Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、ダイカスト品等の鋳造品の鋳巣、ピ
ンホール等の空孔内に有機系充填材を含浸させる
ための含浸装置に関する。

（従来の技術） 従来、この種の含浸装置は、一般に第３図に示
すように構成されていた。同図において、２１は
含浸槽、２２は貯槽であり、両者は液移動用配管
２３で接続され、これらの間を有機系充填材（例
えばアクリル系樹脂）から成る含浸液２４が移動
できるようになつている。含浸槽２１と貯槽２２
とは、また真空ポンプ２５に対して排気用配管２
６，２７で接続されており、それぞれの内部が排
気され得るようになつている。なお前記排気用配
管２６，２７のそれぞれには、外界に一端を開放
する分岐配管２８，２９が接続され、さらに前記
配管類には電磁弁３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０
ｄ，３０ｅがそれぞれ介装されている。また含浸
槽２１と貯槽２２とのそれぞれには含浸液２４の
レベルを検出するためのレベルセンサ３１，３２
が付設されている。

かゝる構成により、先ず含浸槽２１の中に被含
浸材３４を保持するパレツト３５を投入し、該含
浸槽２１を密閉する。続いて真空ポンプ２５を作
動させ、電磁弁３０ｂを開とすることにより含浸
槽２１内を減圧し、被含浸材３４の鋳巣等の空孔
中の空気を完全に除去する。そして所定の減圧度
に到達したことを確認した後、電磁弁３０ａを開
として貯槽２２の含浸液２４を含浸槽２１側へ移
動させ、レベルセンサ３１に触れたところで電磁
弁３０ａを閉とする。これによつて、被含浸材３
４は含浸液２４中に浸漬され、その空孔内に含浸
液２４が浸入する。そして所定時間の経過を待つ
て真空ポンプ２５の作動を停止し、電磁弁３０ｂ
を閉、電磁弁３０ｄを開として含浸槽２１を大気
に開放する。

上記大気開放後、電磁弁３０ａを開、電磁弁３
０ｄを閉、電磁弁３０ｃを開として真空ポンプ２
５を作動させる。すると、含浸槽２１内の含浸液
２４は圧力差で貯槽２２内に戻され、含浸槽２１
内の含浸液２４が完全に戻つたことがレベルセン
サ３２で確される。この後、電磁弁３０ａを閉、
電磁弁３０ｃを閉、電磁弁３０ｅを開とし、貯槽
２２を大気に開放し、これと並行して含浸槽２１
内からパレツトごと被含浸材３４を取出し、これ
にて一連の含浸処理が完了する。しかしてこの
後、被含浸材３４の加熱雰囲気中に放置すること
によつて、その空孔中の含浸液が硬化し、シール
効果を発揮するようになる。

ところで、上記シール効果を十分に発揮させる
には、含浸液２４中へのゴミ等の不純物混入を抑
えることが重要な課題となる。その理由は、不純
物が空孔中への含浸液の浸入を阻害するだけでな
く含浸液を劣化させてしまい、鋳造品の救済率を
低下させるためである。このため、従来この不純
物対策として、被含浸材３４を事前に十分に洗浄
した上で含浸液２４中に浸漬するようにしてい
た。しかしながら、前記従来の対策によつてもな
お、不純物の混入を完全に防止することは困難
で、このため、含浸液２４を貯槽から外部に取出
し、特別のろ過装置を通して清浄化する対策を採
らざるを得ない現状にあつた。

（考案が解決しようとする問題点） しかしながら、上記含浸液を一旦外部に取出す
対策によれば、その処理間に含浸処理を中断しな
ければならない不都合があるばかりか、処理その
ものに比較的長時間を要して生産性が阻害される
という問題があつた。またその処理のあい間に不
純物の混入が進行し、該不純物によつて含浸液が
部分的に重合反応を起こし、液の粘性やゲル化時
間が変化して良好なシール効果が得難くなるとい
う問題があつた。さらに含浸液を取出して循環さ
せる間に、配管やろ過装置に含浸液が付着して高
価な含浸液の無駄が生じるという問題もあつた。

また含浸処理に際して含浸槽と貯槽との間で含
浸液を移す操作が必要なため、サイクルタイムが
延長して生産性を思うように上げ得ないという問
題もつた。

（問題点を解決するための手段） 本考案は、上記従来の問題点を解決するために
なされたもので、含浸液を収納する含浸槽本体と
前記含浸槽本体に対して接近離間可能に配設され
該含浸槽本体に脱着自在に被蓋されるつり鐘状の
上蓋とから成る含浸槽を備え、該含浸槽に排気手
段と大気開放手段とを接続し、前記上蓋の内側に
駆動手段により昇降駆動され被含浸材を支持する
パレツトを配設し、前記含浸槽本体の内底部に、
上下方向に貫通するエア通路を一部に有するフイ
ルタと該フイルタ下に開口を臨ませるエア給送用
配管とを配設するように構成したことを特徴とす
る。

本考案において上記フイルタは、少なくとも
1μm以上の不純物をろ過可能なメツシユを有する
ものとすることが望ましい。また該フイルタは、
パンチングメタルのような多孔部材で保持するの
が望ましい。さらに該フイルタの含浸層または貯
槽への配設は、それらの断面の全部をカバーする
範囲としても、一部をカバーする範囲としも良
い。

（作用） 上記構成の含浸装置において、含浸液を収納し
た含浸層または貯槽の内底部に配設したフイルタ
の下方にエア配管からエアを吐出させることによ
つて、該エアがフイルタに設けたエア通路を通過
して含浸液をバブリングし、この結果、フイルタ
上とフイルタ下との間で含浸液に対流が生じ、該
含浸液中の不純物がろ過される。すなわち含浸液
を含浸層あるいは貯槽の外に取出してろ過する必
要がなくなつて、清浄化の能率が著しく向上す
る。

また含浸処理に際して貯槽との間で含浸液を移
す必要がないので、サイクルタイムが短絡する。

（実施例） 以下、本考案の実施例を添付図面にもとづいて
説明する。

第１図において、１は、フロア２上に設置され
た含浸液Ａを収納する含浸槽本体（以下、本体と
いう）、３は、前記本体１の上方に、該本体に被
蓋されるように上下動可能に吊設された上蓋で、
両者によつて一つの含浸槽が形成される。前記上
蓋３はつり鐘状に形成されており、前記本体１と
の間に比較的大きな密閉空間を画成することがで
きる。

前記上蓋３には真空ポンプ４に一端を接続する
配管５が延設されており、また前記配管５の途中
には外界に一端を開放する分岐配管６が接続され
ている。７は前記配管５に介装された第１の電磁
弁、８は前記分岐配管６に介装された第２の電磁
弁であり、これら二つの電磁弁７，８の切替えと
前記真空ポンプ４の作動とによつて、本体１と上
蓋３とで形成される密閉空間は適宜減圧あるいは
大気に開放されるようになる。

９は、図示を略すシリンダから上蓋３の天井を
通して該上蓋内まで延設されたシヤフトで、該シ
ヤフト９の下端にはパレツト１０が取付けられて
いる。パレツト１０は、被含浸材Ｗを保持する役
割りをなすもので、図示のごとく丁度本体１の上
端よりわずか上方位置に下面が位置決めされる状
態と含浸液Ａ中に完全に浸漬する状態とを維持で
きるように、前記シリンダによつてその上昇端お
よび下降端が定められている。また本体１の側方
には被含浸材Ｗを搬送するコンベア１１が配設さ
れている。このコンベア１１には図示を略すプツ
シヤが付設されており、該プツシヤの作動によつ
て、コンベア１１上を搬送された被含浸材Ｗを前
記パレツト１０上に移載し、かつまた後述する含
浸処理を終えた被含浸材Ｗをコンベア１１の反対
方向へ払い出すことができるようになつている。

しかして、本体１の内底部には、該本体１の断
面の全部をカバーするようにフイルタ装置１２が
配設されている。このフイルタ装置１２は、上下
二枚のパンチングメタル１３，１３の間にフイル
タ１４を保持すると共に中央部にエア通路１５を
穿設して成るもので、本体１の内壁に突設したリ
ング状支持部材１６上に脱着自在に載置されてい
る。こゝで、前記フイルタ１４は、ポリプロピレ
ン製の繊毛繊維から成るもので、１〜150μmの大
きさの粒子を捕捉できる性能を有している。また
パンチングメタル１３は、前記含浸液Ａの通過の
障害とならないように開口率50％のものを使用し
ている。さらに前記支持部材１５は、フイルタ装
置１２を本体１の内底面よりほゞ20mm高さに位置
決めできるように、その固定位置が調整されてい
る。

一方、前記フイルタ装置１２の下方には、図示
を略すエア源に一端を結ぶエア配管１７の開口端
部が配設されている。このエア配管１７の途中に
は、除湿器１８および電磁弁１９が介装されてお
り、該電磁弁１９の開作動により、本体１内の含
浸液Ａ中には乾燥したエアが給送されるようにな
る。

かゝる構成により、先ず上蓋３を開いた状態
で、コンベア１１からパレツト１０上に被含浸材
Ｗを移載し、その後直ちに上蓋３を下動させて該
上蓋３を本体１に被蓋する。次に真空ポンプ４を
作動し、第１の電磁弁７を開、第２の電磁弁８を
閉として含浸槽内を減圧する。この時、被含浸材
Ｗを含むパレツト１２は含浸液Ａ上に位置決めさ
れており、これによつて被含浸材Ｗの空孔および
含浸液Ａの双方から空気が除去されるようにな
る。

次に図示を略すシリンダの作動によつてパレツ
ト１０を下動させ、被含浸材Ｗを含むパレツト１
０の全体を含浸液Ａ中に浸漬する。この浸漬によ
つて被含浸材Ｗの空孔内に含浸液Ａが浸入する。
そして所定時間待つて真空ポンプ４を停止し、さ
らに第１の電磁弁７を閉、第２の電磁弁８を開と
し、含浸槽内を大気に開放する。この大気開放に
よつて含浸液はさらに被含浸材Ｗの空孔内に浸入
する。含浸槽内が大気圧に戻つたことの確認によ
り、再びシリンダの作動によりパレツト１２を上
動させ、これと同時に上蓋３も上動させる。その
後上蓋３の開放を待つて、図示を略すプツシヤに
て被含浸材Ｗを次工程へ払い出し、これにて一連
の含浸処理が完了する。

次工程において、被含浸材Ｗは、その表面に付
着した含浸液が除去され、さらに加熱雰囲気中に
放置される。この結果、被含浸材Ｗの空孔内の含
浸液が硬化し、該空孔内には充填材が密に充填さ
れた状態となる。

こゝで、真空ポンプ４が停止している時、つま
り上蓋３が開放されて含浸処理を行つていない
時、電磁弁１９を開として含浸液Ａ中にエアを給
送する。前記給送されたエアは、図示のように、
フイルタ装置１２のエア通路１５から上方へ通過
して含浸液Ａをバブリングし、この結果、含浸液
に矢印のような対流が生じ、フイルタ装置１２を
通過して本体１の内底部に移動し、この間、含浸
液Ａ中に浮遊している不純物がフイルタ１４に捕
捉される。

このようにして、洗浄液Ａは常に清浄に保たれ
ることとなるが、因みに含浸処理回数400〜600段
階におけるアルミニウムダイカスト品の救済率を
調べたところ、全くろ過を行わない場合（従来装
置による場合）に85％程度であつたものが、上記
実施例装置によれば99％程度まで高めることがで
きた。また上記実施例装置により、真空ポンプ４
の停止ごとにエアバブリングを実行した場合と、
含浸処理回数100回ごとに一時間エアバブリング
を実行した場合に付比較試験を行つたところ、両
方の場合共、ろ過程度は同等で、救済率も99％程
度を維持することができた。

なお、被含浸材Ｗの汚れ程度にもよるが、処理
数が増加するにしたがつてフイルタ１４が目詰ま
りを起こすため、フイルタ装置１２全体を本体１
から取出して定期的にその交換を行うようにす
る。

本実施例においては、本体１と上蓋３とで一つ
の含浸槽を形成し、かつ該含浸槽内にパレツト１
０を上下動可能に支持したので、被含浸材Ｗを含
浸液Ａに浸漬しない状態で含浸槽内を減圧するこ
とができて、被含浸材Ｗの空孔および含浸液中か
ら同時に空気が除去されるようになり、この面で
も鋳造品の救済率の向上に寄与することができ
る。

また一つの含浸槽内で含浸液Ａを移動させるこ
となく含浸処理し得るようにしたので、サイクル
タイムが著しく短縮されて、インライン化を可能
にする効果を奏する。さらに含浸液の移動を伴な
わない装置構成により、貯槽が不要になると共に
使用電磁弁類が削減されて、構造の小型かつ簡略
化を達成できるばかりか、制御性の向上を達成で
きる。

第２図は、本考案にかゝる含浸装置の他の実施
例を示したものである。なお全体構造は上記実施
例のものと同一であるので、こゝでは同一部分に
同一符号を付し、要部のみを示すこととする。本
実施例の特徴とすることころは、パンチングメタ
ル１３とフイルタ１４とを小型のケーシング２０
に収め、該ケーシング２０を本体１の片隅に固定
的に設置し、該ケーシングの内底部にエア配管１
７の開口端部を臨ませた点にある。そしてかゝる
構成においても、エアバブリングによつて含浸液
Ａに対流が生じ、上記実施例同様にろ過効果を生
むことができた。但しフイルタ１４の交換は、上
記実施例の場合に比し頻繁に行う必要があつた。

（考案の効果） 以上、詳細に説明したように、本考案にかゝか
る含浸装置は、含浸液を収納する含浸槽または貯
槽の内底部にフイルタ配すると共に、該フイルタ
の下方にエアを吐出するエア配管を配したので、
エアバブリングにより含浸液に対流が生じ、該含
浸液中の不純物を含浸槽内においてろ過すること
が可能になつて、含浸液を常に清浄に維持するこ
とができて、鋳造品の救済率を著しく高める効果
を奏した。また含浸液を含浸槽あるいは貯槽の外
に取出してろ過しないので、配管あるいはろ過装
置等に高価な洗浄液が付着する機会がなくなつ
て、含浸液の無駄を省き、含浸コストをしかも含
浸処理に際して貯槽との間で含浸液を移す必要が
ないので、サイクルタイムの短縮による生産性の
向上と貯槽の省略による装置コストの低減とを達
成できる効果を奏した。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本考案にかゝる含浸装置の構造の位
置実施例を示す断面図、第２図は本含浸装置の他
の実施例を示す断面図、第３図は従来の一般的な
含浸装置の構造を示す断面図である。 １……含浸槽本体、３……上蓋、４……真空ポ
ンプ、１４……フイルタ、１５……エア通路、１
７……エア配管、Ａ……含浸液、Ｗ……被含浸
材。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 含浸液を収納する含浸槽本体と前記含浸槽本体
   に対して接近離間可能に配設され該含浸槽本体に
   脱着自在に被蓋されるつり鐘状の上蓋とから成る
   含浸槽を備え、該含浸槽に排気手段と大気開放手
   段とを接続し、前記上蓋の内側に駆動手段により
   昇降駆動され被含浸材を支持するパレツトを配設
   し、前記含浸槽本体の内底部に、上下方向に貫通
   するエア通路を一部に有するフイルタと該フイル
   タ下に開口を臨ませるエア給送用配管とを配設し
   たことを特徴とする含浸装置。