JPH05317090A - 光学活性化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明の目的は、工業的な方法として適当
な、酵素を用いた炭酸エステルの不斉加水分解反応によ
る光学活性アルコールおよび光学活性カーボネートの製
造方法を提供することである。 【構成】 化１で示される混合炭酸エステルをリパーゼ
を用いて加水分解することによる化２で示される光学活
性アルコールおよび化３で示される光学活性カーボネー
トの製造方法。 【化１】 【化２】 【化３】 【効果】 光学活性アルコールおよび光学活性カーボネ
ートの製造方法を提供できた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、不斉合成の不斉源や光
学活性な生理活性物質の合成原料として重要な化合物で
ある光学活性アルコールおよび光学活性カーボネートの
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光学活性アルコールを得る方法の一つ
に、そのラセミ体のアルコールの誘導体を酵素を用いて
不斉加水分解する方法がある。このアルコール誘導体の
ほとんどが脂肪酸エステルであり、酸素や微生物を用い
る他の不斉反応と同様に、基質特異性が高く、一般性が
高いとは言えない。そこで基質の構造変換によって酵素
への取り組み方を変え、不斉認識をよくし、適用範囲を
広げる必要がある。そのような方法として、アルコール
の炭酸エステルの不斉加水分解反応や不斉エステル交換
反応が開発されているが、２，２，２−トリクロロエチ
ル＝６，10, 14, −トリメチルペンタデカン−２−イル
＝カーボネートの固定化酵素を用いた不斉加水分解によ
る光学活性６，10, 14−トリメチルペンタデカン−２−
オールの合成法（J. Chem. Soc. Perkin Trans 1, 199
1, 549)、ジフェニルカーボネートと２−ブタノールと
の酵素を用いたエステル交換反応による光学活性２−ブ
タノールの合成法(Biotechnol. Bioeng., 33, 149 (198
9)）、および２−オクチル＝フェニルカーボネートの微
生物を用いた不斉加水分解による光学活性２−オクタノ
ールの合成法（Appl. Microbiol. Biotechnol., 33, 63
3 (1990)）などが報告されているのみである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記の炭酸エステルの
不斉加水分解反応や不斉エステル交換反応は基質濃度、
生成物の光学純度、微生物の入手性、および適用範囲の
点で総合的に満足し得るものではない。そこで、入手性
がよく、安価で取扱いの容易な酵素または微生物を用
い、高い基質濃度で、かつ高い光学純度で生成物を得る
ことができる光学活性アルコールおよび光学活性カーボ
ネートの製造法の開発が望まれている。

【０００４】本発明の目的は、工業的な方法としてふさ
わしい、酵素を用いた炭酸エステルの不斉加水分解反応
による光学活性化合物の製造方法を提供することであ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成するため種々の検討を行った結果、リパーゼを触媒
として用い、アルコール誘導体の基質として、反応性の
高い各種炭酸アリールエステルを選び、高い基質濃度の
条件下で不斉加水分解反応を行なわせ、各種光学活性ア
ルコールおよび光学活性カーボネートが高い光学純度で
容易に得られることを見出し本発明を完成するに至っ
た。

【０００６】すなわち、本発明の光学活性化合物、特に
光学活性アルコールおよび光学活性カーボネートの製造
方法は、次式

【０００７】

【化４】

【０００８】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ は水素原子
および炭素数１から10までのアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アラルキル基およびアリール基であ
り、Arはフェニル基、クロロフェニル基およびニトロフ
ェニル基である）で示されるカーボネートの鏡像体混合
物に、該混合物中の一方の鏡像体のカーボネートの炭酸
エステル結合を選択的に加水分解することができるリパ
ーゼもしくはリパーゼ含有物を作用せしめることによっ
て、次式

【０００９】

【化５】

【００１０】のごとく、該カーボネートのアリールオキ
シカルボニル基をフェノール類および二酸化炭素として
除去し、次式

【００１１】

【化６】

【００１２】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ は水素原子
および炭素数１から10までのアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アラルキル基およびアリール基であ
る）で示される光学活性アルコールと次式

【００１３】

【化７】

【００１４】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ は水素原子
および炭素数１から10までのアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アラルキル基およびアリール基であ
り、Arはフェニル基、クロロフェニル基およびニトロフ
ェニル基である）で示される光学活性カーボネートとを
相互分離し、そして所望により該光学活性カーボネート
を加水分解してアリールオキシカルボニル基を除去し、
光学活性アルコーを回収することを特徴とする。

【００１５】本発明で用いる原料はカーボネートの二種
の鏡像体の等量混合物（ラセミ体）ないしは両者を不均
等な割合で含有する混合物である。原料のカーボネート
は、相当するアルコールと相当するクロロ蟻酸アリール
とを、ピリジンないしトリエチルアミンなどの塩基の存
在下、有機溶媒中で反応させることによって合成するこ
とができる。

【００１６】本発明で用いるリパーゼは加水分解反応に
おける触媒的効果を発揮するものである。本発明で好ま
しく使用されるリパーゼの具体例を例示するとキャンデ
ィダ属由来の酵母リパーゼ、シュードモナス属、リゾプ
ス属、アスペルギルス属、ムコール属由来の菌体リパー
ゼ、豚膵臓リパーゼ、緑膿菌由来のリポプロテインリパ
ーゼなどのリパーゼ類が挙げられる。これらのリパーゼ
は精製品でも粗製品でも良く、その形態としては粉末ま
たは顆粒状のいずれも使用することが出来る。

【００１７】さらに、固定化担体、たとえばポリスチレ
ン、ポリプロピレン、デンプン、グルテン等の高分子物
質や、活性炭、多孔性ガラス、セライト、ゼオライト、
カオリナイト、ベントライト、アルミナ、シリカゲル、
ヒドロキシアパタイト、リン酸カルシウム、金属酸化物
等の無機材料等に、上記リパーゼを物理的吸着法により
担持固定化した固定化リパーゼ等を、乾燥して利用する
ことも出来る。また反応終了後、反応液より濾取回収さ
れた固定化リパーゼは十分な活性および反応の立体選択
性を保持しているため、繰り返して再使用することが可
能である。

【００１８】リパーゼの使用量はカーボネートに対し
て、0.1 〜５倍量（重量比として、以下同じ）が好まし
く、特に0.5 〜１倍量が最適である。また、本発明の加
水分解反応に使用する水の種類に制限はないが、リパー
ゼの安定性、反応速度、選択性の観点からみてｐＨ６か
らｐＨ８のリン酸緩衝溶液等の緩衝溶液が好ましく使用
される。その使用量は、使用するカーボネートによって
異なるが、カーボネートに対して10〜100 倍量が好まし
く使用される。

【００１９】カーボネートが固体の場合や粘度の大きい
液体の場合には攪拌効率を上げるために、上記の緩衝溶
液に有機溶媒を添加することが好ましい。有機溶媒に特
に制限はなく、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族
炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素
等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、ｎ−ジブチルエーテル等の脂肪族エ
ーテル類、テトラヒドロフラン等の脂環式エーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール等の
アルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド等のアミド類が挙げられる。有
機溶媒の添加量はカーボネートが液状になる程度であれ
ばよく、カーボネートに対し１〜10倍量が適当である。

【００２０】反応温度はリパーゼの安定性から20℃〜60
℃の範囲内が適当であるが、反応速度、副反応の抑制、
選択性の観点からみて、20℃〜40℃の付近に設定するこ
とがより好ましい。反応時間は使用するカーボネートや
リパーゼの種類によって異なり、反応率50％前後で反応
を停止した場合には、通常５〜50時間である。反応率は
ガスクロマトグラフ、液体クロマトグラフ、ＮＭＲ等の
ほか、発生する二酸化炭素量を測定することによって調
べることができる。

【００２１】本発明に使用できるカーボネートを次に例
示する。 １）１−メチルプロピル＝フェニルカーボネート、１−
メチルブチル＝フェニルカーボネート、１−メチルペン
チル＝フェニルカーボネート、１−メチルヘキシル＝フ
ェニルカーボネート、１−メチルヘプチル＝フェニルカ
ーボネート、１−メチルオクチル＝フェニルカーボネー
ト、１−メチルノニル＝フェニルカーボネート等のアル
キルフェニルカーボネート類。

【００２２】２）１−トリフルオロメチルヘキシル＝フ
ェニルカーボネート、１−トリクロロメチルヘキシル＝
フェニルカーボネート、１−メチル−２−クロロエチル
＝フェニルカーボネート、１−メチル−３−クロロプロ
ピル＝フェニルカーボネート等のハロゲン化アルキル＝
フェニルカーボネート類。 ３）１−フェニルエチル＝フェニルカーボネート、１−
メチル−２−フェニルエチル＝フェニルカーボネート、
１−メチル−３−フェニルプロピル＝フェニルカーボネ
ート、１−（１−ナフチル）エチル＝フェニルカーボネ
ート、１−メチル−２−（１−ナフチル）エチル＝フェ
ニルカーボネート、１−（４−ピリジル）エチル＝フェ
ニルカーボネート、１−メチル−２−（４−ピリジル）
エチル＝フェニルカーボネート、１−メチル−２−（３
−フリル）エチル＝フェニルカーボネート等のアラルキ
ルフェニルカーボネート類。

【００２３】４）１−メチル−２−プロピン−１−イル
＝フェニルカーボネート、１−メチル−２−ブチン−１
−イル＝フェニルカーボネート、１−メチル−２−ペン
チン−１−イル＝フェニルカーボネート、１−メチル−
２−ヘキシン−１−イル＝フェニルカーボネート、１−
メチル−２−ヘプチン−１−イル＝フェニルカーボネー
ト、１−メチル−２−オクチン−１−イル＝フェニルカ
ーボネート、１−メチル−２−ノニン−１−イル＝フェ
ニルカーボネート、１−エチル−２−プロピン−１−イ
ル＝フェニルカーボネート、１−エチニルブチル＝フェ
ニルカーボネート、１−エチニルペンチル＝フェニルカ
ーボネート、１−エチニルヘキシル＝フェニルカーボネ
ート、１−エチニルヘプチル＝フェニルカーボネート、
１−エチニルオクチル＝フェニルカーボネート、１−エ
チニルノニル＝フェニルカーボネート、１−メチル−３
−ブチン−１−イル＝フェニルカーボネート、１−メチ
ル−３−ヘキシン−１−イル＝フェニルカーボネート、
１−メチル−３＝フェニル−２−プロピン−イル＝フェ
ニルカーボネート等のアルキニルフェニルカーボネート
類。

【００２４】５）１−メチル−２−プロペン−１−イル
＝フェニルカーボネート、１−メチル−２−ブテン−１
−イル＝フェニルカーボネート、１−メチル−２−ペン
テン−１−イル＝フェニルカーボネート、１−メチル−
２−ヘキセン−１−イル＝フェニルカーボネート、１−
メチル−２−ヘプテン−１−イル＝フェニルカーボネー
ト、１−メチル−２−オクテン−１−イル＝フェニルカ
ーボネート、１−メチル−２−ノネン−１−イル＝フェ
ニルカーボネート、１−エチル−２−プロペン−１−イ
ル＝フェニルカーボネート、１−ビニルブチル＝フェニ
ルカーボネート、１−ビニルペンチル＝フェニルカーボ
ネート、１−ビニルヘキシル＝フェニルカーボネート、
１−ビニルヘプチル＝フェニルカーボネート、１−ビニ
ルオクチル＝フェニルカーボネート、１−ビニルノニル
＝フェニルカーボネート、１−メチル−３−ブテン−１
−イル＝フェニルカーボネート、１−メチル−３−ヘキ
セン−１−イル＝フェニルカーボネート、１−メチル−
３＝フェニル−２−プロペン−１−イル＝フェニルカー
ボネート等のアルケニルフェニルカーボネート類。

【００２５】６）２−シクロペンテン−１−イル＝フェ
ニルカーボネート、２−シクロヘキセン−１−イル＝フ
ェニルカーボネート、４−オキソ−２−シクロペンテン
−１−イル＝フェニルカーボネート、４−オキソ−２−
シクロヘキセン−１−イル＝フェニルカーボネート、４
−ヒドロキシ−２−シクロペンテン−１−イル＝フェニ
ルカーボネート、４−ヒドロキシ−２−シクロヘキセン
−１−イル＝フェニルカーボネート等のシクロアルケニ
ルフェニルカーボネート類。

【００２６】７）１−フェニル−２−ヒドロキシエチル
＝フェニルカーボネート、１−フェニル−３−ヒドロキ
シプロピル＝フェニルカーボネート、１，２−ジフェニ
ル−２−ヒドロキシエチル＝フェニルカーボネート等の
ヒドロキシアラルキル−フェニルカーボネート類。 ８）１−メチル−２−ヒドロキシエチル＝フェニルカー
ボネート、１−メチル−３−ヒドロキシプロピル＝フェ
ニルカーボネート、１，２−ジメチル−２−ヒドロキシ
エチル＝フェニルカーボネート、１，３−ジメチル−３
−ヒドロキシプロピル＝フェニルカーボネート等のヒド
ロキシアルキル＝フェニルカーボネート類。

【００２７】９）１−フェニルベンゾイルメチル＝フェ
ニルカーボネート等のケトアラルキル−フェニルカーボ
ネート類。 10）１−メチルエトキシカルボニルメチル＝フェニルカ
ーボネート、１−メチル−２−エトキシカルボニルエチ
ル＝フェニルカーボネート、１−メチル−３−エトキシ
カルボニルプロピル＝フェニルカーボネート、１−フェ
ニルエトキシカルボニルメチル＝フェニルカーボネート
等のエステルカーボネート類。

【００２８】11）上記の各種フェニルカーボネートに対
応する各種ニトロフェニルカーボネート類。 12）上記の各種フェニルカーボネートに対応する各種ク
ロロフェニルカーボネート類。 本発明の方法を具体的に説明すると、前記したカーボネ
ートをｐＨ７のリン酸緩衝溶液に懸濁させ、必要に応じ
て有機溶媒を添加し、ついで所定量のリパーゼを加え攪
拌して反応を行なう。通常、反応率50％で反応を停止
し、適当な抽出用の有機溶媒を加え、反応生成物を抽出
する。ついで、反応生成物から光学活性物質、すなわ
ち、光学活性アルコールもしくは光学活性カーボネート
を分離する。この場合、具体的な分離方法としては、カ
ラムクロマトによる分離や蒸留による分離等が採用され
る。

【００２９】

【実施例】次に参考例および実施例を挙げて本発明を更
に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれにより限定
されるものではない。 （参考例１）１−ブチン−３−オール2.24ｇ（32.0mmo
l) をイソプロピルエーテル50mlに溶解し、氷冷後、ピ
リジン2.93ｇ（37.0mmol）を加えた。ついでクロロ蟻酸
フェニル5.00ｇ（31.9mmol) のイソプロピルエーテル10
ml溶液を５℃を超えないようにゆっくりと滴下した後、
室温で30分間攪拌した。水50mlを加え、イソプロピルエ
ーテル20mlで２回抽出し、これを１％水酸化ナトリウム
水溶液20mlで２回、ついで水20mlで洗浄、無水硫酸ナト
リウムで乾燥、減圧下室温で溶媒を留去し、粗生成物を
得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘ
キサン：酢酸エチル＝９：１）で精製し、１−メチル−
２−プロピン−１−イル＝フェニルカーボネート5.12ｇ
（26.9mmol）を収率84％で得た。

【００３０】（参考例２）１−オクチン−３−オール5.
00ｇ（39.6mmol）をイソプロピルエーテル50mlに溶解
し、氷冷後、ピリジン3.33ｇ（42.1mmol）を加えた。つ
いでクロロ蟻酸フェニル6.20ｇ（39.6mmol) のイソプロ
ピルエーテル10ml溶液を５℃を超えないようにゆっくり
と滴下した後、室温で30分間攪拌した。水50mlを加え、
イソプロピルエーテル20mlで２回抽出し、これを１％水
酸化ナトリウム水溶液20mlで２回、次いで水20mlで洗
浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下室温で溶媒を留
去し、粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝20：１）で精製
し、１−エチニルヘキシル＝フェニルカーボネート8.94
ｇ（36.3mmol）を収率92％で得た。

【００３１】（実施例１）100 mlのナスフラスコにラセ
ミ体の１−メチル−２−プロピン−１−イル＝フェニル
カーボネート１ｇをとり、ｐＨ7.0 の0.1Mリン酸緩衝溶
液40mlを加えた。これにリパーゼ（Pseudomonas fluore
scens) 0.5g を加え、25℃で12時間激しくマグネチック
スターラーで攪拌した。反応液から生成物を塩化メチレ
ン20mlで３回抽出し、この塩化メチレン層を１％水酸化
ナトリウム水溶液20ml、次いで水20mlで洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥して減圧下ロータリーエバポレータ
ーで塩化メチレンを留去して油状物質を得た。これをシ
リカゲル薄層クロマトグラフィーを用いてヘキサン−酢
酸エチル（９：１）を展開溶媒にし、分画を行ない、
（Ｓ）−１−メチル−２−プロピン−１−イル＝フェニ
ルカーボネートを得た。

【００３２】（Ｓ）−１−メチル−２−プロピン−１−
イル＝フェニルカーボネート：収率45％、光学純度＞99
％ee（ＨＰＬＣ：ダイセル化学工業（株）製、CHIRALCE
LL OB 、ヘキサン：２−プロパノール＝４：１、１ml/m
in、ＵＶ254nm)。

【００３３】（実施例２〜13）実施例２〜13は実施例１
と同様にして行ない、その結果を表１に示す。

【００３４】

【表１】

【００３５】（実施例14）100 mlのナスフラスコにラセ
ミ体の１−エチニルヘキシル＝フェニルカーボネート１
ｇをとり、ｐＨ7.2 の0.1Mリン酸緩衝溶液40mlを加え
た。これにリパーゼ(Candida cylindracea) 0.5g を加
え、25℃で24時間激しくマグネチックスターラーで攪拌
した。反応液から生成物を塩化メチレン20mlで３回抽出
し、この塩化メチレン層を１％水酸化ナトリウム水溶液
20mlついで水20mlで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
して減圧下ロータリーエバポレーターで塩化メチレンを
留去して油状物質を得た。これをシリカゲル薄層クロマ
トグラフィーを用いてヘキサン−酢酸エチル（９：１）
を展開溶媒にし、分画を行ない、（Ｓ）−１−エチニル
ヘキシル＝フェニルカーボネート（Ｒf 0.5)と（Ｒ）−
１−オクチン−３−オール（Ｒf 0.2)を得た。

【００３６】（Ｓ）−１−エチニルヘキシル＝フェニル
カーボネート：収率46％、光学純度＞99％ee（ＨＰＬ
Ｃ：ダイセル化学工業（株）製、CHIRALCELL OB 、ヘキ
サン：２−プロパノール＝４：１、１ml/min、ＵＶ254n
m)。 （Ｒ）−１−オクチン−３−オール：収率35％、光学純
度＞95％ee（ＭＴＰＡエステルの ¹Ｈ−ＮＭＲ）。

【００３７】（実施例15〜23）実施例15〜23は実施例14
と同様にして行ない、その結果を表２に示す。

【００３８】

【表２】

【００３９】（実施例24）100 mlのナスフラスコにラセ
ミ体の１−フェニルエチル＝フェニルカーボネート１ｇ
をとり、ｐＨ7.0 の0.1Mリン酸緩衝溶液40mlを加えた。
これにリパーゼ（Rhizopus niveus) 1g を加え、25℃で
24時間激しくマグネチックスターラーで攪拌した。反応
液から生成物を塩化メチレン20mlで３回抽出し、この塩
化メチレン層を１％水酸化ナトリウム水溶液20ml、次い
で水20mlで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧
下ロータリーエバポレーターで塩化メチレンを留去して
油状物質を得た。これをシリカゲル薄層クロマトグラフ
ィーを用いてヘキサン−酢酸エチル（４：１）を展開溶
媒にし分画を行ない、（Ｓ）−１−フェニルエチル＝フ
ェニルカーボネート（Ｒf 0.5)と（Ｒ）−１−フェニル
エタノール（Ｒf 0.2)を得た。

【００４０】（Ｓ）−１−フェニルエチル＝フェニルカ
ーボネート：収率55％、光学純度20％ee（ＨＰＬＣ：ダ
イセル化学工業（株）製、CHIRALCELL OB 、ヘキサン：
２−プロパノール＝４：１、１ml/min、ＵＶ254nm)。 （Ｒ）−１−フェニルエタノール：収率35％、光学純度
44％ee（ＨＰＬＣ：ダイセル化学工業（株）製、CHIRAL
CELL OB 、ヘキサン：２−プロパノール＝９：１、0.5m
l/min 、ＵＶ254nm)。

【００４１】（実施例25）100 mlのナスフラスコにラセ
ミ体の１−フェニルエチル＝フェニルカーボネート１ｇ
をとり、ｐＨ7.0 の0.1Mリン酸緩衝溶液40mlを加えた。
これにリパーゼ（Rhizopus delemer）2gを加え、25℃で
24時間激しくマグネチックスターラーで攪拌した。反応
液から生成物を塩化メチレン20mlで３回抽出し、この塩
化メチレン層を１％水酸化ナトリウム水溶液20ml、次い
で水20mlで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧
下ロータリーエバポレーターで塩化メチレンを留去して
油状物質を得た。これをシリカゲル薄層クロマトグラフ
ィーを用いてヘキサン−酢酸エチル（４：１）を展開溶
媒にし、分画を行ない、（Ｓ）−１−フェニルエチル＝
フェニルカーボネート（Ｒf 0.5)と（Ｒ）−１−フェニ
ルエタノール（Ｒf 0.2)を得た。

【００４２】（Ｓ）−１−フェニルエチル＝フェニルカ
ーボネート：収率50％、光学純度25％ee（ＨＰＬＣ：ダ
イセル化学工業（株）製、CHIRALCELL OB 、ヘキサン：
２−プロパノール＝４：１、１ml/min、ＵＶ254nm)。 （Ｒ）−１−フェニルエタノール：収率37％、光学純度
48％ee（ＨＰＬＣ：ダイセル化学工業（株）製、CHIRAL
CELL OB 、ヘキサン：２−プロパノール＝９：１、0.5m
l/min 、ＵＶ254nm)。

【００４３】（実施例26）100 mlのナスフラスコにラセ
ミ体の１−フェニルエチル＝フェニルカーボネート１ｇ
をとり、ｐＨ7.8 の0.1Mリン酸緩衝溶液40mlを加えた。
これにリパーゼ（Porcine pancreas）0.5gを加え、25℃
で24時間激しくマグネチックスターラーで攪拌した。反
応液から生成物を塩化メチレン20mlで３回抽出し、この
塩化メチレン層を１％水酸化ナトリウム水溶液20ml、次
いで水20mlで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減
圧下ロータリーエバポレーターで塩化メチレンを留去し
て油状物質を得た。これをシリカゲル薄層クロマトグラ
フィーを用いてヘキサン−酢酸エチル（４：１）を展開
溶媒にし、分画を行ない、（Ｓ）−１−フェニルエチル
＝フェニルカーボネート（Ｒf 0.5)と（Ｒ）−１−フェ
ニルエタノール（Ｒf0.2)を得た。

【００４４】（Ｓ）−１−フェニルエチル＝フェニルカ
ーボネート：収率48％、光学純度32％ee（ＨＰＬＣ：ダ
イセル化学工業（株）製、CHIRALCELL OB 、ヘキサン：
２−プロパノール＝４：１、１ml/min、ＵＶ254nm)。 （Ｒ）−１−フェニルエタノール：収率45％、光学純度
51％ee（ＨＰＬＣ：ダイセル化学工業（株）製、CHIRAL
CELL OB 、ヘキサン：２−プロパノール＝９：１、0.5m
l/min 、ＵＶ254nm)。

【００４５】（実施例27）100 mlのナスフラスコにラセ
ミ体の１−エチニルヘキシル＝フェニルカーボネート１
ｇをとり、ｐＨ7.2 の0.1Mリン酸緩衝溶液40mlを加え
た。これにポリアクリル酸に固定化したリパーゼ（Cand
ida cylindracea) 10gを加え、25℃で48時間激しくマグ
ネチックスターラーで攪拌した。反応液より固定化リパ
ーゼを濾過除去した後、濾液から生成物を塩化メチレン
20mlで３回抽出し、この塩化メチレン層を１％水酸化ナ
トリウム水溶液20ml、次いで水20mlで洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥して減圧下ロータリーエバポレーター
で塩化メチレンを留去して油状物質を得た。これをシリ
カゲル薄層クロマトグラフィーを用いてヘキサン−酢酸
エチル（９：１）を展開溶媒にし、分画を行ない、
（Ｓ）−１−エチニルヘキシル＝フェニルカーボネート
（Ｒf 0.5)と（Ｒ）−１−オクチン−３−オール（Ｒf
0.2)を得た。

【００４６】（Ｓ）−１−エチニルヘキシル＝フェニル
カーボネート：収率47％、光学純度＞99％ee（ＨＰＬ
Ｃ：ダイセル化学工業（株）製、CHIRALCELL OB 、ヘキ
サン：２−プロパノール＝４：１、１ml/min、ＵＶ254n
m)。 （Ｒ）−１−オクチン−３−オール：収率36％、光学純
度＞95％ee（ＭＴＰＡエステルの ¹Ｈ−ＮＭＲ）。

【００４７】（実施例28）100 mlのナスフラスコにラセ
ミ体の１−エチニルヘキシル＝４−ニトロフェニルカー
ボネート１ｇをとり、アセトン１mlを加えて溶解し、次
いで、ｐＨ7.2 の0.1Mリン酸緩衝溶液40mlを加えた。こ
れにリパーゼ（Candida cylindracea）0.5gを加え、25
℃で５時間激しくマグネチックスターラーで攪拌した。
反応液から生成物を塩化メチレン20mlで３回抽出し、こ
の塩化メチレン層を１％水酸化ナトリウム水溶液20ml、
次いで水20mlで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して
減圧下ロータリーエバポレーターで塩化メチレンを留去
して油状物質を得た。これをシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィーを用いてヘキサン−酢酸エチル（９：１）を展
開溶媒にし、分画を行ない、（Ｓ）−１−エチニルヘキ
シル＝４−ニトロフェニルカーボネート（Ｒf 0.5)と
（Ｒ）−１−オクチン−３−オール（Ｒf 0.2)を得た。

【００４８】（Ｓ）−１−エチニルヘキシル＝４−ニト
ロフェニルカーボネート：収率49％、光学純度＞99％ee
（ＨＰＬＣ：ダイセル化学工業（株）製、CHIRALCELL O
B 、ヘキサン：２−プロパノール＝４：１、１ml/min、
ＵＶ254nm)。 （Ｒ）−１−オクチン−３−オール：収率33％、光学純
度＞95％ee（ＭＴＰＡエステルの ¹Ｈ−ＮＭＲ）。

【００４９】（実施例29）100 mlのナスフラスコにラセ
ミ体の１−エチニルヘキシル＝４−ニトロフェニルカー
ボネート１ｇをとり、ベンゼン１mlを加えて溶解し、次
いで、ｐＨ7.2 の0.1Mリン酸緩衝溶液40mlを加えた。こ
れにリパーゼ（Candida cylindracea) 0.5g を加え、25
℃で５時間激しくマグネチックスターラーで攪拌した。
反応液から生成物を塩化メチレン20mlで３回抽出し、こ
の塩化メチレン層を１％水酸化ナトリウム水溶液20ml、
次いで水20mlで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して
減圧下ロータリーエバポレーターで塩化メチレンを留去
して油状物質を得た。これをシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィーを用いてヘキサン−酢酸エチル（９：１）を展
開溶媒にし、分画を行ない、（Ｓ）−１−エチニルヘキ
シル＝４−ニトロフェニルカーボネート（Ｒf 0.5)と
（Ｒ）−１−オクチン−３−オール（Ｒf 0.2)を得た。

【００５０】（Ｓ）−１−エチニルヘキシル＝４−ニト
ロフェニルカーボネート：収率48％、光学純度＞99％ee
（ＨＰＬＣ：ダイセル化学工業（株）製、CHIRALCELL O
B 、ヘキサン：２−プロパノール＝４：１、１ml/min、
ＵＶ254nm)。 （Ｒ）−１−オクチン−３−オール：収率33％、光学純
度＞95％ee（ＭＴＰＡエステルの ¹Ｈ−ＮＭＲ）

【００５１】（実施例30）100 mlのナスフラスコにラセ
ミ体の１−エチニルヘキシル＝４−ニトロフェニルカー
ボネート１ｇをとり、ｐＨ7.2 の0.1Mリン酸緩衝溶液40
mlを加えた。これにリパーゼ（Candida cylindracea)
0.5g を加え、30℃で５時間激しくマグネチックスター
ラーで攪拌した。反応液から生成物を塩化メチレン20ml
で３回抽出し、この塩化メチレン層を１％水酸化ナトリ
ウム水溶液20ml、次いで水20mlで洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥して、減圧下ロータリーエバポレーターで
塩化メチレンを留去して油状物質を得た。これをシリカ
ゲル薄層クロマトグラフィーを用いてヘキサン−酢酸エ
チル（９：１）を展開溶媒にし、分画を行ない、（Ｓ）
−１−エチニルヘキシル＝４−ニトロフェニルカーボネ
ート（Ｒf 0.5)と（Ｒ）−１−オクチン−３−オール
（Ｒf 0.2)を得た。

【００５２】（Ｓ）−１−エチニルヘキシル＝４−ニト
ロフェニルカーボネート：収率49％、光学純度＞99％ee
（ＨＰＬＣ：ダイセル化学工業（株）製、CHIRALCELL O
B 、ヘキサン：２−プロパノール＝４：１、１ml/min、
ＵＶ254nm)。 （Ｒ）−１−オクチン−３−オール：収率31％、光学純
度＞95％ee（ＭＴＰＡエステルの ¹Ｈ−ＮＭＲ）

【００５３】（実施例31）100 mlのナスフラスコにラセ
ミ体の１−エチニルヘキシル＝４−クロロフェニルカー
ボネート１ｇをとり、ｐＨ7.2 の0.1Mリン酸緩衝溶液40
mlを加えた。これにリパーゼ（Candida cylindracea)
0.5g を加え、30℃で７時間激しくマグネチックスター
ラーで攪拌した。反応液から生成物を塩化メチレン20ml
で３回抽出し、この塩化メチレン層を１％水酸化ナトリ
ウム水溶液20ml、次いで水20mlで洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥して、減圧下ロータリーエバポレーターで
塩化メチレンを留去して油状物質を得た。これをシリカ
ゲル薄層クロマトグラフィーを用いてヘキサン−酢酸エ
チル（９：１）を展開溶媒にし、分画を行ない、（Ｓ）
−１−エチニルヘキシル＝４−クロロフェニルカーボネ
ート（Ｒf 0.5)と（Ｒ）−１−オクチン−３−オール
（Ｒf 0.2)を得た。

【００５４】（Ｓ）−１−エチニルヘキシル＝４−クロ
ロフェニルカーボネート：収率48％、光学純度＞99％ee
（ＨＰＬＣ：ダイセル化学工業（株）製、CHIRALCELL O
B 、ヘキサン：２−プロパノール＝４：１、１ml/min、
ＵＶ254nm)。 （Ｒ）−１−オクチン−３−オール：収率29％、光学純
度＞95％ee（ＭＴＰＡエステルの ¹Ｈ−ＮＭＲ）

【００５５】（実施例32）100 mlのナスフラスコにラセ
ミ体の１−メチル−２−ブチン−１−イル＝フェニルカ
ーボネート10ｇをとり、ｐＨ7.0 の0.1Mリン酸緩衝溶液
400ml を加えた。これにリパーゼ（Pseudomonas fluore
scens) 5g を加え、25℃で24時間激しくマグネチックス
ターラーで攪拌した。反応液から生成物を塩化メチレン
200ml で３回抽出し、この塩化メチレン層を５％水酸化
ナトリウム水溶液50ml、次いで水50mlで２回洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下ロータリーエバポレ
ーターで塩化メチレンを留去して油状物質を得た。これ
を減圧蒸留に付し、（Ｓ）−１−メチル−２−ブチン−
１−イル＝フェニルカーボネートと（Ｓ）−３−ペンチ
ン−２−オールを得た。

【００５６】（Ｓ）−１−メチル−２−ブチン−１−イ
ル＝フェニルカーボネート：収率49％、光学純度＞99％
ee（ＨＰＬＣ：ダイセル化学工業（株）製、CHIRALCELL
OB、ヘキサン：２−プロパノール＝４：１、１ml/mi
n、ＵＶ254nm)。 （Ｒ）−３−ペンチン−２−オール：収率46％、光学純
度＞95％ee（ＭＴＰＡエステルの ¹Ｈ−ＮＭＲ）

【００５７】

【発明の効果】本発明によれば安価、かつ安定的に入手
できる酵素製剤であるリパーゼを用いて各種アルコール
とフェノールの混合炭酸エステルを加水分解することに
より、簡便で、しかも高不斉選択的に光学活性アルコー
ルおよび光学活性カーボネートを得ることができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 次式 【化１】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ は水素原子および炭素数
   １から10までのアルキル基、アルケニル基、アルキニル
   基、アラルキル基およびアリール基であり、Arはフェニ
   ル基、クロロフェニル基およびニトロフェニル基であ
   る）で示されるカーボネートの鏡像体混合物に、該混合
   物中の一方の鏡像体のカーボネートの炭酸エステル結合
   を選択的に加水分解することができるリパーゼもしくは
   リパーゼ含有物を作用せしめることによって該カーボネ
   ートのアリールオキシカルボニル基をフェノール類およ
   び二酸化炭素として除去し、次式 【化２】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ は水素原子および炭素数
   １から10までのアルキル基、アルケニル基、アルキニル
   基、アラルキル基およびアリール基である）で示される
   光学活性アルコールと次式 【化３】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ は水素原子および炭素数
   １から10までのアルキル基、アルケニル基、アルキニル
   基、アラルキル基およびアリール基であり、Arはフェニ
   ル基、クロロフェニル基およびニトロフェニル基であ
   る）で示される光学活性カーボネートとを相互分離し、
   所望により該光学活性カーボネートを加水分解してアリ
   ールオキシカルボニル基を除去し、光学活性アルコール
   を回収することを特徴とする光学活性化合物の製造方
   法。