JPH05315481A - Film carrier semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents

Film carrier semiconductor device and manufacturing method thereof

Info

Publication number
JPH05315481A
JPH05315481A JP4121518A JP12151892A JPH05315481A JP H05315481 A JPH05315481 A JP H05315481A JP 4121518 A JP4121518 A JP 4121518A JP 12151892 A JP12151892 A JP 12151892A JP H05315481 A JPH05315481 A JP H05315481A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film carrier
semiconductor chip
hole
lead
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4121518A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2748771B2 (en
Inventor
Ryuichi Fujii
隆一 藤居
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP4121518A priority Critical patent/JP2748771B2/en
Publication of JPH05315481A publication Critical patent/JPH05315481A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2748771B2 publication Critical patent/JP2748771B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To fix a multilayered wiring layer serving both as a heat sink base on a semiconductor chip surface for enhancing the thermal and electrical characteristics in the film carrier semiconductor device. CONSTITUTION:Within the film carrier semiconductor device whereto a semiconductor chip 2b is inner-lead bonded, a heat sink 17b fixing base 15b is fixed on the surface of the semiconductor chip 2b and a suspender 8b using an insulating high thermal conductive insulation bonding agent 13b. Furthermore, if necessary, junction electrodes 11b electrically and selectively connected via through holes are formed on the parts corresponding to respective leads 4b using the heat sink fixing base 15b as a multilayered wiring substrate to be connected by the leads 4b, anisotropical conductive sheet, etc., so that the film carrier semiconductor device having the multilayered wiring layer serving both as the heat sink fixing base 15b may be manufactured.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はフィルムキャリア半導体
に関する。
FIELD OF THE INVENTION This invention relates to film carrier semiconductors.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のフィルムキャリア方式による半導
体装置は、図6(A),(B)に示す如く、搬送及び位
置決め用のスプロケットホール1aと半導体チップ2a
が入る半導体チップ用の孔であるデバイスホール3aを
有するポリイミド等の絶縁フィルム上に、Cu等の金属
箔を接着し、フォトレジスト法等により金属箔を選択的
にエッチングして所望の形状のリード4aと電気選別の
ためのパッド5a等を形成し、Au,Snまたは、半田
等のメッキを施したフィルムキャリアテープ6aと、あ
らかじめ、電極端子上に金属突起物であるバンプ7aを
設けた半導体チップ2aとを準備し、次にフィルムキャ
リアテープのリード4aと半導体チップのバンプ7aと
を熱圧着法または共晶法等によりインナーリードボンデ
ィング(以下ILB)し、フィルムキャリアテープの状
態で電気選別用パッド5a上に接触子を接触させて電気
選別やバイアス試験を実施することにより、完成する。
2. Description of the Related Art As shown in FIGS. 6A and 6B, a conventional film carrier type semiconductor device has a sprocket hole 1a for carrying and positioning and a semiconductor chip 2a.
A metal foil such as Cu is adhered onto an insulating film such as polyimide having a device hole 3a which is a hole for a semiconductor chip, and a lead having a desired shape is formed by selectively etching the metal foil by a photoresist method or the like. 4a and a pad 5a for electrical selection and the like, a film carrier tape 6a plated with Au, Sn, solder or the like, and a semiconductor chip in which bumps 7a, which are metal projections, are previously provided on the electrode terminals. 2a, and then inner lead bonding (hereinafter referred to as ILB) of the leads 4a of the film carrier tape and the bumps 7a of the semiconductor chip by a thermocompression bonding method or a eutectic method, etc. This is completed by bringing a contactor into contact with 5a and performing electrical selection and a bias test.

【0003】ここで、リード4aの変形防止用として、
絶縁フィルムの枠であるサスペンダー8aをあらかじめ
フィルムキャリアテープに設けることや、信頼性向上及
び機械的保護のため、図6(C)に示すように、樹脂9
aにより樹脂封止を行うことが多い。
Here, to prevent deformation of the lead 4a,
A suspender 8a, which is a frame of an insulating film, is provided in advance on the film carrier tape, and as shown in FIG. 6C, resin 9 is used to improve reliability and mechanical protection.
Resin sealing is often performed by a.

【0004】上記のようなフィルムキャリア半導体装置
を実装する場合は、リード4aを所望の長さに切断し、
ついで、図7に示すように、例えば、プリント基板10
a上に固着材12aにより半導体チップ2aを固着後、
リード4aをプリント基板上のボンディングパッド11
aにアウターリードボンディング(以下OLB)して実
施することができる。
When mounting the above film carrier semiconductor device, the leads 4a are cut into desired lengths,
Then, as shown in FIG. 7, for example, the printed circuit board 10
After fixing the semiconductor chip 2a onto the a by the fixing material 12a,
The lead 4a is connected to the bonding pad 11 on the printed circuit board.
The outer lead bonding (hereinafter referred to as OLB) can be performed on a.

【0005】これらのフィルムキャリア半導体装置は、
ボンディングがリード数と無関係に一度で可能であるた
めスピードが早いこと、フィルムキャリアテープを使用
するため作業の自動化が容易である等の利点を有してい
る。
These film carrier semiconductor devices are
Since the bonding can be performed once regardless of the number of leads, the speed is fast, and the use of the film carrier tape has advantages such as easy automation of work.

【0006】このようなフィルムキャリア方式による半
導体装置の製造方法は、古くは特公昭47−3206号
等により紹介されている。
A method of manufacturing a semiconductor device using such a film carrier method has been introduced in Japanese Patent Publication No. 47-3206.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のフィル
ムキャリア半導体装置において、最近の半導体チップの
高性能化に伴い、種々の問題が生じている。たとえば、
高性能化に伴う多数リード化、高消費電力化、高スピー
ド化等がある。これらの特性は半導体装置のパッケージ
性能へも大きく影響し、特に高消費電力化、高スピード
化への対応は次第に困難なものとなってきている。
In the conventional film carrier semiconductor device described above, various problems have arisen with the recent high performance of semiconductor chips. For example,
There are many leads, higher power consumption, higher speed, etc. accompanying higher performance. These characteristics also have a great influence on the package performance of the semiconductor device, and it is becoming increasingly difficult to deal with high power consumption and high speed in particular.

【0008】高消費電力化に伴い、半導体チップの発熱
量は次第に大きくなり、この熱放散のため半導体装置の
パッケージには、低熱抵抗化が要求されている。これら
を解決する手段として一般的に用いられている方法は、
ヒートシンクを取り付ける方法や熱拡散用のダミーリー
ドを取り付ける方法が知られている。しかしながら、熱
放散用のダミーリードを絶縁フィルムの空きスペースに
取り付けるには限界があり、特に、最近の多数リード
化、狭ピッチ化のなかにあっては取り付けが不可能と言
っても過言ではない状況である。また、特開平1−13
219等に紹介されているように、半導体チップ裏面に
ヒートシンクを取付けるような方法では、発熱源である
チップ表面から遠ざかるため放熱効果が十分でないとい
う問題がある。さらに、特公昭61−49446、特公
昭63−186453、特公昭62−276862に示
されているようにペレット表面にヒートシンクや熱伝達
用の接触片を取り付ける方法があるが、こえらはモール
ドパッケージやセラミックパーッケージ等のヒートシン
クを支えられる構造をしているものにのみ有効であり、
フィルムキャリア半導体の場合、半導体チップ表面以外
にヒートシンクをささえるものがなく、インナーリード
接合部や半導体チップ表面に大きなダメージを与える可
能性があると言う問題がある。
With the increase in power consumption, the amount of heat generated by the semiconductor chip gradually increases. Due to this heat dissipation, the package of the semiconductor device is required to have a low thermal resistance. The methods commonly used to solve these problems are:
A method of attaching a heat sink and a method of attaching a dummy lead for heat diffusion are known. However, there is a limit to mounting dummy leads for heat dissipation in the vacant space of the insulating film, and it is not an exaggeration to say that mounting is not possible especially in the recent trend of multiple leads and narrow pitch. The situation. In addition, JP-A-1-13
As described in 219, etc., the method of attaching a heat sink to the back surface of the semiconductor chip has a problem that the heat dissipation effect is not sufficient because the heat sink is located away from the surface of the chip. Further, as shown in JP-B-61-49446, JP-B-63-186453 and JP-B-62-276862, there is a method of attaching a heat sink or a contact piece for heat transfer to the pellet surface. Effective only for those that have a structure that can support a heat sink, such as a ceramic package,
In the case of the film carrier semiconductor, there is nothing to support the heat sink other than the surface of the semiconductor chip, and there is a problem that there is a possibility that the inner lead joint portion and the surface of the semiconductor chip will be greatly damaged.

【0009】一方、半導体チップの高スピード化につい
てもその対応が困難になってきている。すなわち、多数
リード化によりリードピッチが縮小され、この結果、リ
ード幅が縮小されるが、リード幅の縮小はリードの配線
抵抗の増加をもたらすことになる。一方、半導体チップ
の高スピード化は、その性能を維持するために配線抵抗
の異なる低抵抗化、特性インビーダンスの整合をはじ
め、配線容量等の電気的特性の向上が必要であり、これ
らをパッケージ側へ求めることになる。電気的特性向上
のため、基本的には、配線長を短くすることが重要な対
策となるが、例えば、プリント基板にフィルムキャリア
半導体装置を必要最小限のリード長で実装できた場合に
おいても、フィルムキャリア半導体のフィルムキャリア
上に存在する電気選別用パッドまでを配線長が長い場
合、実装前におけるフィルムキャリア半導体装置の電気
選別が十分に実施できないことになる。
On the other hand, it is becoming difficult to cope with the increase in speed of semiconductor chips. That is, the lead pitch is reduced due to the large number of leads, and as a result, the lead width is reduced, but the reduction in the lead width causes an increase in the wiring resistance of the leads. On the other hand, in order to increase the speed of semiconductor chips, in order to maintain their performance, it is necessary to improve the electrical characteristics such as wiring capacitance, including lowering the wiring resistance and matching the characteristic impedance. We will ask the package side. In order to improve the electrical characteristics, basically, shortening the wiring length is an important measure, but, for example, even when the film carrier semiconductor device can be mounted on the printed circuit board with the minimum required lead length, If the wiring length up to the electrical selection pad existing on the film carrier semiconductor film carrier is long, the electrical selection of the film carrier semiconductor device before mounting cannot be sufficiently performed.

【0010】一般に、フィルムキャリア半導体装置のO
LBにおけるリードピッチを0.1〜0.2mmとして
OLB部までのリード長を短くしても、電気選別用パッ
ドは、十分な電気選別を実施する場合、接触子側の制約
があって、0.3〜0.4mmのピッチであるから、多
数リードの場合、OLB部のリードから電気選別用パッ
ド迄の配線長が長くなってしまうことになる。
Generally, the film carrier semiconductor device O
Even if the lead pitch in LB is set to 0.1 to 0.2 mm and the lead length to the OLB portion is shortened, the electrical sorting pad has a limitation on the contact side when performing sufficient electrical sorting, Since the pitch is from 0.3 mm to 0.4 mm, in the case of a large number of leads, the wiring length from the leads of the OLB section to the electrical selection pads becomes long.

【0011】これを解決する一例として、特開昭62−
46537に開示されているように、2層以上の電気的
特性を改善した電気選別用の基板にフィルムキャリア半
導体装置をOLBし、電気選別を実施後、更に、プリン
ト基板にOLBを行う方法がある。この場合、電気選別
は改善されるが、フィルムキャリア半導体自身の改善は
ないこと、電気選別用基板へのOLBの不良は高価な半
導体チップを無駄にすること、電気選別用基板へのOL
Bが必要であること等の欠点がある。
As an example for solving this, Japanese Patent Laid-Open No. 62-
As disclosed in Japanese Patent No. 46537, there is a method in which a film carrier semiconductor device is subjected to OLB on a substrate for electric selection having two or more layers with improved electric characteristics, and after performing electric selection, the printed board is further subjected to OLB. .. In this case, although the electric sorting is improved, there is no improvement in the film carrier semiconductor itself, defective OLB to the electric sorting substrate wastes expensive semiconductor chips, and OL to the electric sorting substrate is not used.
There is a defect that B is required.

【0012】また、電気特性を改善する別方法として、
Electronic Packaging and
Production 1988年12月号 42〜4
4p等に介されているように、フィルムキャリアテープ
の絶縁フィルム部分のリードが形成された面と反対の面
に接地層であるグランドプレーンを形成し、リードのう
ち幾つか存在するグランドリードとスルーホールを介し
てグランドプレーンとを接続することによって、電気特
性を改善したものがある。このような構造のフィルムキ
ャリアテープはグランドプレーンテープまたは金属層が
絶縁フィルムの両面にあることから、ツゥー・メタル・
テープ(two metal tape、以下2メタル
テープという)と呼ばれ、インピーダンス整合に適して
いる。更に、電気特性を向上させるには、前記文献にも
あるとおり、グランドリードの他、数種類存在する電源
リードに対しても同様な電源層を形成することが望まし
く、グランドリード、電源リード層に加え、もともとの
信号リードの層を含め3層以上の5〜6層以上が必要と
される。しかしながら、フィルムキャリアテープのデバ
イスホール内にリードを片持ち状態で突出させた構造で
3層以上の配線層を設けることはフィルムキャリアテー
プの製造工程上極めて困難であり、技術的には可能であ
ってもフィルムキャリアテープが高価になるという欠点
があった。
As another method for improving the electric characteristics,
Electronic Packaging and
Production December 1988 issue 42-4
4p, etc., a ground plane that is a ground layer is formed on the surface of the insulating film portion of the film carrier tape opposite to the surface on which the leads are formed. Some have improved electrical characteristics by connecting to a ground plane through a hole. A film carrier tape with such a structure has two planes of ground plane tape or metal layers on both sides of the insulating film.
It is called a tape (two metal tape, hereinafter referred to as a two-metal tape) and is suitable for impedance matching. Furthermore, in order to improve the electrical characteristics, it is desirable to form the same power supply layer not only on the ground lead but also on several types of power supply leads, as described in the above-mentioned document. , 5 or more layers of 3 or more layers including the layers of the original signal leads are required. However, it is extremely difficult in the manufacturing process of the film carrier tape to provide three or more wiring layers in a structure in which the leads are projected in a cantilever state in the device hole of the film carrier tape, and it is technically possible. However, there is a drawback that the film carrier tape becomes expensive.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明のフィルムキャリ
ア半導体装置は、スプロケットホール、デバイスホー
ル、アウターリード用ホール及びサスペンダーを有する
絶縁フィルムに所望の形状のリードを有するフィルムキ
ャリアテープのリードと半導体チップのバンプとがボン
ディングされ、金属板、セラミック板または1層以上の
配線層および配線層と導通している接合用パッドとを有
する多層配線基板が、少なくとも、半導体チップ表面と
サスペンダー部に接着剤を介して接着されており、ま
た、必要に応じて多層配線基板の接合用パッドとフィル
ムキャリア半導体装置の特定のリードとが電気的接続さ
れている構造を備えている。
A film carrier semiconductor device according to the present invention comprises a film carrier tape lead and a semiconductor chip having a lead of a desired shape on an insulating film having a sprocket hole, a device hole, an outer lead hole and a suspender. Of the multi-layer wiring board having a metal plate, a ceramic plate, or one or more wiring layers and bonding pads that are electrically connected to the wiring layers, and an adhesive is applied to at least the semiconductor chip surface and the suspender section. It has a structure in which the bonding pads of the multilayer wiring board and the specific leads of the film carrier semiconductor device are electrically connected to each other, if necessary.

【0014】[0014]

【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図1は、本発明の一実施例のフィルムキャリア半導
体の実装後の断面図である。従来同様、半導体チップ2
b上に形成されたバンプ7bとフィルムキャリアテープ
のリード4bがボンディングされ、半導体チップ2bは
固着材12bによりプリント基板10bに固定されてい
る。一方、リード4bの他端はプリント基板10b上に
形成された電極11bとアウターリードボンディングさ
れている。15bはヒートシンク取付台座で、半導体チ
ップ2bの表面と高熱伝導絶縁性接着剤13bにより接
合されており、さらに、フィルムキャリアテープのサス
ペンダー部8bに絶縁性接着剤14bで固定されてい
る。17bはヒートシンクであり、高熱伝導接着剤16
bでヒートシンク取付台座15bに固定されている。
The present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view after mounting a film carrier semiconductor according to an embodiment of the present invention. As in the past, semiconductor chip 2
The bump 7b formed on b and the lead 4b of the film carrier tape are bonded, and the semiconductor chip 2b is fixed to the printed circuit board 10b by the fixing material 12b. On the other hand, the other end of the lead 4b is outer lead bonded to the electrode 11b formed on the printed board 10b. A heat sink mounting base 15b is joined to the surface of the semiconductor chip 2b with a high thermal conductive insulating adhesive 13b, and is further fixed to the suspender portion 8b of the film carrier tape with an insulating adhesive 14b. 17b is a heat sink, which is a high thermal conductive adhesive 16
It is fixed to the heat sink mounting base 15b at b.

【0015】このような構造にすることにより、半導体
チップ表面で発生した熱は固着剤12bを通ってプリン
ト基板10bに逃げるだけでなく、ヒートシンク取付台
座15bよりヒートシンク17bへ伝わり、放熱される
ことになり低熱抵抗化が図れる。また、ヒートシンクを
半導体チップ表面だけでなく、フィルムキャリアテープ
のサスペンダー部でも固定することにより、半導体チッ
プ表面およびインナーリードボンディング部のダメージ
を緩和でき信頼性の向上につながる。ボンディング部を
図示の如く樹脂9bで封止すれば、より効果がある。
With this structure, the heat generated on the surface of the semiconductor chip not only escapes to the printed circuit board 10b through the adhesive 12b, but also is transferred to the heat sink 17b from the heat sink mounting pedestal 15b and radiated. Therefore, low thermal resistance can be achieved. Further, by fixing the heat sink not only on the surface of the semiconductor chip but also on the suspender portion of the film carrier tape, damage on the surface of the semiconductor chip and the inner lead bonding portion can be mitigated, leading to improvement in reliability. If the bonding portion is sealed with the resin 9b as shown in the figure, it is more effective.

【0016】図2は、本発明の第2の実施例を説明する
図である。第1の実施例において、ヒートシンク取付台
座の代わりに多層配線基板18bを用いている。この他
は第1の実施例と同じである。この多層配線基板18b
の底面周辺部には接合用電極19bが形成されている。
多層配線基板18bには2層以上の配線層が形成されて
おり、接合用電極19bと選択的に導通し、かつ、この
接合用電極19bは金属突起20b等によりリード4b
と導通している。これにより、例えば、電源用リードや
グランドリードを各々多層配線基板の電源配線層やグラ
ンド配線層に電気的に導通させることができる。さら
に、多層配線基板18bは絶縁性かつ高熱伝導接着剤1
3bにより半導体チップ2bの表面に固着されている。
必要に応じ、半導体チップ表面の保護のため間に薄いポ
リイミドフィルムをはさむことも可能であるし、半導体
チップ2bと多層配線基板18bとの間を高熱伝導樹脂
で覆うこともできる。
FIG. 2 is a diagram for explaining the second embodiment of the present invention. In the first embodiment, the multilayer wiring board 18b is used instead of the heat sink mounting base. The other points are the same as in the first embodiment. This multilayer wiring board 18b
A bonding electrode 19b is formed on the periphery of the bottom surface of the.
Two or more wiring layers are formed on the multilayer wiring board 18b so as to selectively conduct with the joining electrode 19b, and the joining electrode 19b is connected to the lead 4b by the metal projection 20b or the like.
It is in continuity with. Thereby, for example, the power supply lead and the ground lead can be electrically connected to the power supply wiring layer and the ground wiring layer of the multilayer wiring board, respectively. Further, the multilayer wiring board 18b is made of an insulating and highly heat conductive adhesive 1
It is fixed to the surface of the semiconductor chip 2b by 3b.
If necessary, a thin polyimide film can be sandwiched between the semiconductor chip surface for protection, and the high thermal conductive resin can cover between the semiconductor chip 2b and the multilayer wiring board 18b.

【0017】このような構造により従来の2メタルテー
プを越えた3メタル以上の多層金属層のフィルムキャリ
ア半導体が得られ、さらに、熱抵抗特性が大幅に改善さ
れる。
With such a structure, a film carrier semiconductor having a multi-layered metal layer of three or more metals, which exceeds the conventional two-metal tape, can be obtained, and the thermal resistance characteristics can be greatly improved.

【0018】積3の断面図は第2の実施例において用い
た多層配線基板の代わりにコンデンサーを組み込んだセ
ラミック基板21bを取り付けた例で、もちろん、この
セラミック基板はヒートシンク取付台座にもなりうる。
The sectional view of the product 3 is an example in which a ceramic substrate 21b incorporating a capacitor is attached instead of the multilayer wiring substrate used in the second embodiment, and of course, this ceramic substrate can also serve as a heat sink attachment base.

【0019】図4断面図は、本発明第4の実施例を示す
もので、第2の実施例において用いた多層配線基板18
bの上にさらに選択的にあるリード4bと導通している
電極22bを施し、終端抵抗やコンデンサー23bを組
み込むことを可能にしている。
FIG. 4 is a sectional view showing a fourth embodiment of the present invention. The multilayer wiring board 18 used in the second embodiment.
Further, an electrode 22b electrically connected to a certain lead 4b is provided on b so that a terminating resistor and a capacitor 23b can be incorporated.

【0020】次に、以上説明したフィルムキャリア半導
体装置の製造方法を以下に図面を用いて、説明する。図
5(A)は、本発明の一実施例のセラミック多層配線基
板の断面図であり、図5(B)はその平面図である。サ
スペンダー上リードに合わせ、基板上に電極19bが形
成され、この電極は、例えば半導体チップ2bの電源、
グランド等別にそれぞれ、各基板にスルーホールを通し
て接続されている。さらに、電極19b上には、半田等
の金属突起20bが形成されている。図5(C)は、こ
のセラミック基板を取り付ける一例を示してある。イン
ナーリードボンディング済みの半導体チップ2b上に高
熱伝導絶縁性接着剤13bが塗布されており、サスペン
ダー上の基板電極と電気的接合をする部分には、異方導
電性シート14b′が敷かれている。基板上突起電極2
0bとサスペンダー上のリード4bの目合わせ後、熱圧
着により、両者が接合される。この後、必要に応じてイ
ンナーリードボンディング部に封止樹脂を施すこともで
き、さらに、多層配線基板18bの上に耐熱性接着剤を
塗布することにより、ヒートシンクを取り付けることも
できる。多層配線基板18bの代わりに、第1の実施例
のように単なるヒートシンク取付台座を溶り付ける場合
は、リードとの電気的接合はとる必要はなく、半導体チ
ップの表面とリードとの非電気接合でよく、絶縁性の耐
熱接着剤を用いれば良い。
Next, a method of manufacturing the above-described film carrier semiconductor device will be described with reference to the drawings. FIG. 5A is a sectional view of a ceramic multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5B is a plan view thereof. An electrode 19b is formed on the substrate so as to match the lead on the suspender. The electrode is, for example, a power source for the semiconductor chip 2b,
Each ground is connected to each board through a through hole. Further, a metal protrusion 20b such as solder is formed on the electrode 19b. FIG. 5C shows an example of attaching this ceramic substrate. A high thermal conductive insulating adhesive 13b is applied on the semiconductor chip 2b that has been subjected to inner lead bonding, and an anisotropic conductive sheet 14b 'is laid on a portion of the suspender that is electrically connected to the substrate electrode. .. Substrate protruding electrode 2
After the 0b and the lead 4b on the suspender are aligned, they are joined by thermocompression bonding. Thereafter, a sealing resin may be applied to the inner lead bonding portion as required, and a heat sink may be attached by applying a heat resistant adhesive on the multilayer wiring board 18b. When a simple heat sink mounting pedestal is melted in place of the multilayer wiring board 18b as in the first embodiment, it is not necessary to electrically connect the leads to each other, and the surface of the semiconductor chip is not electrically connected to the leads. Insulating heat resistant adhesive may be used.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、フィル
ムキャリア半導体装置において、半導体チップ表面及び
サスペンダー部にヒートシンク取付台座を設けることに
より、半導体チップの熱放散を従来より効率よく行うこ
とができ、また、このヒートシンク取付台座を多層配線
基板とし、配線層に電源リードやグランドリードを接続
し、共通電位とすること等により、電気的特性を大幅に
改善することができる。また、ヒートシンク取り付け台
座を半導体チップ表面のみならず、サスペンダー部で保
持する事により従来できなかったフィルムキャリア半導
体装置のチップ表面にヒートシンクを取り付けることを
可能にしている。さらに多層配線基板を樹脂ダムとし半
導体チップを完全封止したり、多層配線基板上に配線及
び電極パッドを設けその上に、抵抗やコンデンサーを取
り付けることも可能である。
As described above, according to the present invention, in the film carrier semiconductor device, by providing the heat sink mounting base on the surface of the semiconductor chip and the suspender portion, the heat dissipation of the semiconductor chip can be performed more efficiently than before. Also, by using this heat sink mounting base as a multilayer wiring board and connecting the power supply lead and the ground lead to the wiring layer so as to have a common potential, the electrical characteristics can be greatly improved. Further, by holding the heat sink mounting base not only on the surface of the semiconductor chip but also on the suspender portion, it is possible to mount the heat sink not only on the surface of the film carrier semiconductor device, which has been impossible in the past. Further, it is possible to completely seal the semiconductor chip by using the multilayer wiring board as a resin dam, or to provide a wiring and an electrode pad on the multilayer wiring board and to attach a resistor and a capacitor thereon.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の断面図。FIG. 1 is a sectional view of an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の別実施例の断面図。FIG. 2 is a sectional view of another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の別実施例の断面図。FIG. 3 is a sectional view of another embodiment of the present invention.

【図4】本発明の別実施例の断面図。FIG. 4 is a sectional view of another embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施例の製造途中工程図。FIG. 5 is a manufacturing process chart of an embodiment of the present invention.

【図6】従来のフィルムキャリア半導体装置の製造途中
工程図。
FIG. 6 is a manufacturing process chart of a conventional film carrier semiconductor device.

【図7】従来のフィルムキャリア半導体装置の実装断面
図。
FIG. 7 is a mounting cross-sectional view of a conventional film carrier semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a スプロケットホール 2a,2b 半導体チップ 3a デバイスホール 4a,4b リード 5a 選別用パッド 6a フィルムキャリアテープ 7a バンプ 8a,8b サスペンダー 9a,9b 樹脂 10a,10b プリント基板 11a,11b プリント基板上電極 12a,12b 固着剤 13b 高熱伝導絶縁性接着剤 14b 絶縁性接着剤 14b′ 異方導電シート 15b ヒートシンク取り付け台座 16b 高熱伝導接着剤 17b ヒートシンク 18b 多層配線基板 19b 電極 20b 金属突起 21b セラミックコンデンサー 22b 電極 23b 抵抗またはコンデンサー 1a Sprocket hole 2a, 2b Semiconductor chip 3a Device hole 4a, 4b Lead 5a Sorting pad 6a Film carrier tape 7a Bump 8a, 8b Suspender 9a, 9b Resin 10a, 10b Printed board 11a, 11b Printed board electrode 12a, 12b Adhesive 13b High thermal conductive insulating adhesive 14b Insulating adhesive 14b 'Anisotropic conductive sheet 15b Heat sink mounting base 16b High thermal conductive adhesive 17b Heat sink 18b Multilayer wiring board 19b Electrode 20b Metal protrusion 21b Ceramic capacitor 22b Electrode 23b Resistor or capacitor

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも、搬送、位置決め用の孔であ
るスプロケットホール、半導体チップが入るデバイスホ
ール、デバイスホールを囲みアウターリードが入るアウ
ターリード用ホール、及びデバイスホールとアウターリ
ード用ホールとの間に存在し、リードを支えるフィルム
枠であるサスペンダーを有する絶縁フィルム上に所望の
形状のリードを有するフィルムキャリアテープのリード
と半導体チップの電極パッド上に設けられたバンプとが
ボンディングされたフィルムキャリア半導体装置におい
て、サスペンダーとほぼ同等の大きさで高熱伝導材料か
らなるヒートシンク取付台座を、半導体チップ表面とサ
スペンダー部に、電気絶縁性でかつ高熱伝導の接着剤で
接着した事を特徴とするフィルムキャリア半導体装置。
1. A sprocket hole which is a hole for transporting and positioning, a device hole in which a semiconductor chip is inserted, an outer lead hole which surrounds the device hole and in which an outer lead is inserted, and between the device hole and the outer lead hole. A film carrier semiconductor device in which a lead of a film carrier tape having a lead of a desired shape and a bump provided on an electrode pad of a semiconductor chip are bonded on an insulating film having a suspender which is a film frame for supporting the lead. In the film carrier semiconductor device, the heat sink mounting pedestal, which is approximately the same size as the suspenders and is made of a high thermal conductive material, is adhered to the surface of the semiconductor chip and the suspenders with an electrically insulating and high thermal conductive adhesive. ..
【請求項2】 少なくとも、搬送、位置決め用の孔であ
るスプロケットホール、半導体チップが入るデバイスホ
ール、デバイスホールを囲みアウターリードが入るアウ
ターリード用ホール、及びデバイスホールとアウターリ
ード用ホールとの間に存在し、リードを支えるフィルム
枠であるサスペンダーを有する絶縁フィルム上に所望の
形状のリードを有するフィルムキャリアテープのリード
と半導体チップの電極パッド上に設けられたバンプとが
ボンディングされたフィルムキャリア半導体装置におい
て、サスペンダーとほぼ同等の大きさのセラミックまた
は樹脂からなる配線基板を、半導体チップ表面及びサス
ペンダー部に、電気絶縁性かつ高熱伝導接着剤で接着
し、かつ特定のリードまたは、半導体チップ電極が配線
基板のパッドと接続されていることを特徴とするフィル
ムキャリア半導体装置。
2. A sprocket hole which is a hole for carrying and positioning, a device hole in which a semiconductor chip is inserted, an outer lead hole which surrounds the device hole and in which an outer lead is inserted, and between the device hole and the outer lead hole. A film carrier semiconductor device in which a lead of a film carrier tape having a lead of a desired shape and a bump provided on an electrode pad of a semiconductor chip are bonded on an insulating film having a suspender which is a film frame for supporting the lead. In (1), a wiring board made of ceramic or resin of about the same size as the suspender is adhered to the surface of the semiconductor chip and the suspender section with an electrically insulating and high thermal conductive adhesive, and a specific lead or semiconductor chip electrode is wired. Connected to the board pad A film carrier semiconductor device characterized in that
【請求項3】 請求項2記載のフィルムキャリア半導体
装置において、配線基板内に抵抗やコンデンサーを構成
したことを特徴とするフィルムキャリア半導体装置。
3. The film carrier semiconductor device according to claim 2, wherein a resistor and a capacitor are formed in the wiring board.
【請求項4】 請求項2記載のフィルムキャリア半導体
装置において、配線基板上に抵抗部品またはコンデンサ
ー部品を取り付けたことを特徴とするフィルムキャリア
半導体装置。
4. The film carrier semiconductor device according to claim 2, wherein a resistor component or a capacitor component is mounted on the wiring board.
【請求項5】 スプロケットホール、デバイスホール、
アウターリード用ホール、サスペンダーを有する絶縁フ
ィルム上に所望の形状のリードと電気選別用パッドとを
有するフィルムキャリアテープと、あらかじめ電極パッ
ド上にバンプを形成した半導体チップとを準備する工程
と、フィルムキャリアテープのリードと半導体チップの
バンプとをボンディングする工程と、電気選別用パッド
に接触子を接触させて、電気選別やバイアス試験を実施
する工程とを含むフィルムキャリア半導体装置の製造方
法において、少なくともフィルムキャリアのリードと半
導体チップのバンプとをボンディングする工程以後に、
絶縁性でかつ、高熱伝導の接着剤を介して、ヒートシン
ク取付台または多層配線基板を半導体チップとサスペン
ダー部に接着する工程を含むことを特徴とするフィルム
キャリア半導体装置の製造方法。
5. A sprocket hole, a device hole,
A step of preparing a film carrier tape having leads of a desired shape and an electric selection pad on an insulating film having outer lead holes and suspenders; and a step of preparing a semiconductor chip having bumps formed on electrode pads in advance, and a film carrier In a method for manufacturing a film carrier semiconductor device, which comprises a step of bonding a tape lead and a bump of a semiconductor chip, and a step of bringing a contactor into contact with an electrical selection pad to perform electrical selection and a bias test, at least a film After the step of bonding the leads of the carrier and the bumps of the semiconductor chip,
A method of manufacturing a film carrier semiconductor device, comprising a step of adhering a heat sink mount or a multilayer wiring board to a semiconductor chip and a suspender section via an insulating and highly heat conductive adhesive.
JP4121518A 1992-05-14 1992-05-14 Film carrier semiconductor device and method of manufacturing the same Expired - Lifetime JP2748771B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4121518A JP2748771B2 (en) 1992-05-14 1992-05-14 Film carrier semiconductor device and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4121518A JP2748771B2 (en) 1992-05-14 1992-05-14 Film carrier semiconductor device and method of manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05315481A true JPH05315481A (en) 1993-11-26
JP2748771B2 JP2748771B2 (en) 1998-05-13

Family

ID=14813204

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4121518A Expired - Lifetime JP2748771B2 (en) 1992-05-14 1992-05-14 Film carrier semiconductor device and method of manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2748771B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004064093A (en) * 2002-07-26 2004-02-26 Stmicroelectronics Inc Method and system for removing heat from active area of integrated circuit device
JP2012523109A (en) * 2009-04-01 2012-09-27 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト Circuit structure and method of operating an electric circuit
JP2012253118A (en) * 2011-06-01 2012-12-20 Denso Corp Semiconductor device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004064093A (en) * 2002-07-26 2004-02-26 Stmicroelectronics Inc Method and system for removing heat from active area of integrated circuit device
JP2012523109A (en) * 2009-04-01 2012-09-27 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト Circuit structure and method of operating an electric circuit
JP2012253118A (en) * 2011-06-01 2012-12-20 Denso Corp Semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2748771B2 (en) 1998-05-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6087716A (en) Semiconductor device package having a connection substrate with turned back leads and method thereof
JP3011233B2 (en) Semiconductor package and its semiconductor mounting structure
US5561323A (en) Electronic package with thermally conductive support member having a thin circuitized substrate and semiconductor device bonded thereto
US5773884A (en) Electronic package with thermally conductive support member having a thin circuitized substrate and semiconductor device bonded thereto
US5633533A (en) Electronic package with thermally conductive support member having a thin circuitized substrate and semiconductor device bonded thereto
JP2982450B2 (en) Film carrier semiconductor device and method of manufacturing the same
KR20010072583A (en) Laminated integrated circuit package
JP2546195B2 (en) Resin-sealed semiconductor device
JP2606603B2 (en) Semiconductor device, its manufacturing method and its mounting inspection method
JP2000323610A (en) Film carrier semiconductor device
JPH0558657B2 (en)
JP2748771B2 (en) Film carrier semiconductor device and method of manufacturing the same
JP2658967B2 (en) Supporting member for electronic package assembly and electronic package assembly using the same
JP3024596B2 (en) BGA type semiconductor device using film carrier tape
JP2002324873A (en) Semiconductor device and its manufacturing method
JPH09321188A (en) Semiconductor device and its mounting method
JPH08191128A (en) Electronic device
JP3331146B2 (en) Manufacturing method of BGA type semiconductor device
JP3033541B2 (en) TAB tape, semiconductor device, and method of manufacturing semiconductor device
JP2831864B2 (en) Semiconductor package and manufacturing method thereof
JPH0645763A (en) Printed wiring board
JP2861984B2 (en) Semiconductor device and method of manufacturing the semiconductor device
JP3586867B2 (en) Semiconductor device, method of manufacturing the same, method of mounting the same, and circuit board mounting the same
JP2556204B2 (en) Film carrier semiconductor device mounting method
JP2836597B2 (en) Film carrier tape and semiconductor device using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19980120