JPH05315384A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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JPH05315384A
JPH05315384A JP12149792A JP12149792A JPH05315384A JP H05315384 A JPH05315384 A JP H05315384A JP 12149792 A JP12149792 A JP 12149792A JP 12149792 A JP12149792 A JP 12149792A JP H05315384 A JPH05315384 A JP H05315384A
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resin
hole
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Yuichi Tateishi
雄一 立石
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Abstract

(57)【要約】 【目的】超薄型トランスファーモールド半導体装置の製
造方法において、樹脂の流出によりチップの傾きが生じ
たり、ボイドの発生を防ぐことができる半導体装置の製
造方法を提供することにある。 【構成】フィルムキャリヤテープ8bにゲート付サスペ
ンダー18bを貼り付ける工程と、ゲート付サスペンダ
ー18bの厚みと同値程度に下金型12bを加工する工
程と、半導体チップ5bとリード4bとをインナーリー
ドボンディングをする工程と、前記トランスファーモー
ルド金型で樹脂封止する工程とを含んで構成される。 【効果】トランスファーモールド時の傾きを抑えること
ができ、かつ、ゲート付サスペンダーの貼付け位置及び
形状等を変更する事で樹脂の流出状態を金型の加工を必
要としないで制御できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置のトランスフ
ァーモールドしたパッケージに関し、特に超薄形トラン
スファーモールドパッケージの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のフィルムキャリヤ方式による半導
体装置の製造方法は、図3(b)に示す如く、搬送及び
位置決め用のスプロケットホール7aと、半導体チップ
5aが入る開孔部であるデバイスホール9aを有するポ
リイミド等の絶縁フィルム上に銅等の金属箔を接着し金
属箔をエッチング等により所望の形状のリード4aと電
気選別の為のパッド10aとを形成し、形成されたリー
ド4a上に必要に応じてコーティング層3aを形成した
フィルムキャリヤテープ8aと、あらかじめ電極端子上
に金属突起物であるバンプ1aを設けた半導体チップ5
aとを準備し、次に、フィルムキャリヤテープのリード
4aと半導体チップのバンプ1aとを熱圧着法または共
晶法等により、インナーリードボンディングを行う。つ
いでコーティング層3a部をトランスファーモールド金
型で挟み込み樹脂6aを流し込みトランスファーモール
ドを実施し、図3(a)の如くトランスファーモールド
・パッケージ17aを形成し、フィルムキャリヤテープ
の状態で電気選別用パッド10a上に接触子を接触させ
て電気選別やデバイス試験を実施する。上記のようなフ
ィルムキャリヤー方式による半導体装置の製造方法は、
ボンディングがリードの数と無関係に一度で可能である
ため、スピードが速いこと、フィルムキャリヤーテープ
を使用するためボンディング等の組立と電気選別作業の
自動化がはかれ、量産性が優れていること、トランスフ
ァーモールドにより樹脂で半導体装置を保護する為、従
来のトランスファーモールド型半導体装置と同等な包装
形態及び取扱いが可能となる等の利点を有している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のフィルムキャリ
ヤ半導体装置は半導体チップ及びリード等の保護を実施
する必要があり、主に樹脂ポッティング法で実施する
為、パッケージの概形寸法が不安定であり、且つパッケ
ージクラック等も発生するという欠点がある。これを解
決するために幾つかのパッケージ形成法が紹介されてい
る。一例としてNIKKEI MICRODEVICE
S 1991年2月号p65,66等で紹介されている
ダイレクト・トランスファーモールド法がある。
【0004】このダイレクト・トランスファーモールド
法は、従来のフィルムキャリヤテープを金型でトランス
ファーモールドするものである。しかしながら樹脂の流
出によりチップの傾きが発生したり、又、薄型のパッケ
ージ形態である為、ボイドが発生するという問題があっ
た。
【0005】更に高圧の型締を必要とする為ポリイミド
等の強度不足から型締後のフィルムキャリヤ半導体装置
の反りが発生する恐れがあるという問題があった。
【0006】本発明の目的は、従来のフィルムキャリヤ
テープを金型でトランスファーモールドするとき、樹脂
の流出による半導体チップ及びリードの傾きを抑えるこ
とができ、かつ樹脂の流出状態を金型の加工をすること
なく制御できる半導体装置の製造方法を提供することに
ある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
搬送及び位置決め用の孔であるスプロケットホールと、
半導体チップが入る孔であるデバイスホールと、アウタ
ーリードが入る孔であるアウターリード用ホールと、前
記アウターリード用ホールに囲まれたフィルム状である
サスペンダーを有する絶縁フィルム上に所望の形状のリ
ードと選別用パッドを有するフィルムキャリヤテープに
おいて、前記サスペンダー上に、枠状で且つ樹脂が流入
するゲートとなるスリットが設けられたゲート付サスペ
ンダーが形成されたフィルムキャリヤテープを準備する
工程と、前記半導体チップとリードとをインナーリード
ボンディングする工程と、トランスファーモールド金型
の前記ゲート付サスペンダーが形成された側の金型の深
さを前記ゲート付サスペンダー厚と同等にしたトランス
ファーモールド金型で樹脂封止する工程とを含むこと
で、前記ゲート付サスペンダーの表面と前記金型のパッ
ケージ厚深さの表面とが接触する事で、前記ゲート付サ
スペンダーが樹脂の流出によるチップの傾きを支える架
台となり安定した、且つ超薄型のパッケージを形成す
る。又、前記ゲート付サスペンダーの貼り付け位置及び
形状を変更する事でトランスファーモールド時の流出状
態を金型を加工する必要がなく容易に制御が可能とな
る。
【0008】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図1は、本発明の一実施例を説明するためのフィル
ムキャリヤテープの表面の平面図とトランスファーモー
ルド・パッケージの断面図である。
【0009】図1(b)のトランスファーモールド前の
フィルムキャリヤ方式による半導体チップ5bとフィル
ムキャリヤテープ8bのインナーリードボンディング後
の平面図の通り、ゲート付サスペンダー18bは、トラ
ンスファーモールド時の樹脂を半導体チップへ流出させ
る為の隙間ゲート13bを設ける様フィルムキャリヤテ
ープのリード4b側のサスペンダー上へ接着剤により貼
り付けられている。材質は、ポリイミド等からなり厚み
は、例えば50μm程度である。図1(a)のトランス
ファーモールド後のパッケージの断面図と上下金型の断
面図の通り上金型11bは、前記ゲート付サスペンダー
18bの表面と常に接触する様に図1(a)の如く加工
され、パッケージ厚溝は例えば前記ゲート付サスペンダ
ー18bの厚50μm程度と同値とする。
【0010】下金型12bは、半導体チップ5bの裏面
と常に接触する様に図1(a)の如く加工されパッケー
ジ厚溝は、ゲート付サスペンダー18bの表面から半導
体チップ5bの裏面までの高さ635μm程度から前記
ゲート付サスペンダー18bの表面からポリイミド2b
の表面の高さ210μm程度を引いた値425μm程度
と同値とする。
【0011】前記半導体チップ5bをインナーリードボ
ンディングしたフィルムキャリヤテープ8bを前記トラ
ンスファーモールド金型の上金型11bと下金型12b
とで高圧力を加え挟み込む事で半導体チップ5bの裏面
は、下金型12bの溝表面が上金型11b側へ押し込ま
れる。押し込まれた半導体チップ5bの応力によりゲー
ト付サスペンダー18bの表面は、上金型11bの溝表
面に常に応力を加えることになる。
【0012】又、上金型11bの溝表面は、ゲート付サ
スペンダー18bの表面を下金型12b側へ押し下げ
る。
【0013】前記状態で前記金型へ樹脂を流出させる事
で更にゲート付サスペンダー18bの表面は上金型11
bの溝表面に応力を加える状態になり、トランスファー
モールドが完了した時点では図1(a)の如くトランス
ファーモールド・パッケージ17bが形成される。この
第1の実施例は、ゲート付サスペンダー18bが支え架
台となる為、パッケージ内部のチップの傾きの減少,ボ
イド発生率の減少等の問題が解決される。
【0014】次に第2の実施例について説明する。図2
は本発明の第2の実施例を説明するためのトランスァー
モールドパッケージの断面図及びフィルムキャリヤテー
プの表面の平面図である。図2(b)のトランスファー
モールド前のフィルムキャリヤ方式による半導体チップ
5bとフィルムキャリヤテープ8b1 の接合時の平面図
の通り、ゲート付サスペンダー18b1 は、トランスフ
ァーモールド時の樹脂を半導体チップへ流出させる為の
隙間ゲート13b1 を設ける様フィルムキャリヤテープ
のリード4b側のサスペンダー上、下の両端へ接着剤に
より貼り付けられている。材質は、ポリイミド等からな
り厚みは、例えば上金型11b1 側は、50μm程度、
下金型12b1 側は、550μm程度である。
【0015】図2(a)のトランスファーモールド後の
パッケージの断面図と上下金型の断面図の通り、上金型
11b1 は、上金型11b1 側の前記ゲート付サスペン
ダー18b1 の表面と常に接触する様に図2(a)の如
く加工され、パッケージ厚溝は例えば、前記ゲート付サ
スペンダー18b1 の厚の50μm程度と同値とする。
下金型12b1 側は、下金型12b1 側の前記サスペン
ダー18b1 の表面と常に接触する様に図2(a)の如
く加工されパッケージ厚溝は前記実施例1と同値であ
る。前記半導体チップ5bをインナーリードボンディン
グにより形成されたフィルムキャリヤテープ8b1 を前
記トランスファーモールド金型の上金型11b1 と下金
型12b1 とで高圧力を加え、挟み込む事で、下金型1
2b1 側のゲート付サスペンダー18b1 の表面を下金
型12b1 の溝表面が上金型11b1 側へ押し込まれ
る。押し込まれた下金型12b1 側のゲート付サスペン
ダー18b1 の応力により上金型11b1 側のゲート付
サスペンダー18b1 の表面は、上金型11b1 の溝表
面は、常に応力を加える。
【0016】又、上金型11b1 の溝表面は、上金型1
1b1 側のゲート付サスペンダー18b1 の表面を下金
型12b1 側へ押し込む。押し込まれた上金型11b1
側のゲート付サスペンダー18b1 の応力により下金型
12b1 側のサスペンダー18b1 の表面は、下金型1
2b1 の溝表面に常に応力を加える。
【0017】前記状態で前記金型から樹脂を流出させる
事でトランスファーモールドが完了した時点では、図2
(a)の如く、トランスファーモールド・パッケージ1
7b1 が形成される。
【0018】この第2の実施例は、上金型11b1 側の
ゲート付サスペンダー18b1 とが支え架台となる為、
第1の実施例より更にチップの傾きの減少,ボイド発生
率の減少等の問題が解決される。
【0019】又、下金型12b1 側ゲート付サスペンダ
ー18b1 のゲート13b1 と上金型11b1 側サスペ
ンダー18b1 のゲート13b1 のゲート付サスペンダ
ー18b1 の形状例えば幅等及び貼り付け位置等を変更
する事で、ゲートサイズの制御が可能となり、樹脂の半
導体チップ5bへの流出速度等を制御することにより、
信頼性の高い製品の製造が可能となる。
【0020】
【発明の効果】以上説明した様に本発明はフィルムキャ
リヤテープのリードに半導体チップの方向へ樹脂が流出
する様に隙間を設けてゲート付サスペンダーを貼り付け
且つ、トランスファーモールド用金型を前記ゲート付サ
スペンダー厚と同値程度に加工し、従来のトランスファ
ーモールドを実施し、トランスファーモールド・パッケ
ージを形成する為以下の効果を有している。 (1)前記ゲート付サスペンダー表面と前記金型パッケ
ージ溝深さ表面とが常に接触し半導体チップ及びリード
等の支え架台となり、トランスファーモールド時の樹脂
の流出による前記半導体チップ及び前記リードの傾きを
抑える事が可能となる。 (2)前記ゲート付サスペンダーの貼り付け位置及び形
状等を変更する事で樹脂の流出状態を金型の加工を必要
としないで容易に制御可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を説明するためのトランスフ
ァーモールド工程後の半導体装置の断面図及びトランス
ファーモールド工程前のゲート付サスペンダ付半導体装
置の平面図である。
【図2】本発明の他の実施例を説明するための図1に対
応する断面図及び平面図である。
【図3】従来の半導体装置の製造方法を説明するための
図1に対応する断面図及び平面図である。
【符号の説明】
1a,1b バンプ 2a,2b ポリイミド・テープ 3a コーティング層 4a,4b リード 5a,5b 半導体チップ 6a,6b,6b1 樹脂 7a,7b スプロケットホール 8a,8b,8b1 フィルムキャリヤテープ 9a,9b,9b1 デバイスホール 10a,10b 選別用パッド 11b,11b1 上金型 12b,12b1 下金型 13b,13b1 ゲート 14a,14b 孔 15a 接着剤 16a プリント基板 17a,17b,17b1 トランスファモールド・
パッケージ 18b,18b1 ゲート付サスゲンダー

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 搬送及び位置決め用の孔であるスプロケ
    ットホールと、半導体チップが入る孔であるデバイスホ
    ールと、アウターリードが入る孔であるアウターリード
    用ホールと、前記アウターリード用ホールに囲まれたフ
    ィルム状であるサスペンダーを有する絶縁フィルム上に
    所望の形状のリードと選別用パッドを有するフィルムキ
    ャリヤテープにおいて、前記サスペンダー上に、枠状で
    且つ樹脂が流入するゲートとなるスリットが設けられた
    ゲート付サスペンダーが形成されたフィルムキャリヤテ
    ープを準備する工程と、前記半導体チップとリードとを
    インナーリードボンディングする工程と、トランスファ
    ーモールド金型の前記ゲート付サスペンダーが形成され
    た側の金型の深さを前記ゲート付サスペンダー厚と同等
    にしたトランスファーモールド金型で樹脂封止する工程
    とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記ゲート付きサスペンダーの貼り付け
    位置及び形状を変更する事で金型を加工する必要がなく
    容易にトランスファーモールド時の樹脂の流出状態の制
    御を可能としたことを特徴とする請求項1記載の半導体
    装置の製造方法。
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