JPH05297471A - 露光装置及びパターン形成方法 - Google Patents
露光装置及びパターン形成方法Info
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- JPH05297471A JPH05297471A JP4098073A JP9807392A JPH05297471A JP H05297471 A JPH05297471 A JP H05297471A JP 4098073 A JP4098073 A JP 4098073A JP 9807392 A JP9807392 A JP 9807392A JP H05297471 A JPH05297471 A JP H05297471A
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- pattern
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高精度の不等間隔回析格子を、容易に作製で
きる方法及び装置を提供する。 【構成】 形状または透過率分布が任意に変化する開口
パターンと、この開口パターンを感光材料が塗布された
基板上に投影する投影光学系と、この基板を一定速度で
第１の方向と、第１の方向と垂直な方向とにそれぞれ移
動させる機構を備えたことを特徴とする。また、形状ま
たは透過率分布が任意に変化する開口パターンの形状ま
たは透過率分布を変化させた後、前記基板上に投影し、
この基板上を一定速度で第１の方向に移動させることに
よって、帯状の領域を部分的に露光する第１の工程と、
前記開口パターンの投影像を、第１の方向に垂直な第２
の方向に移動させ、前記投影像を次に露光すべき位置に
移動する第２の工程と、前記基板上を現像処理する第３
の工程とを備えたパターン形成方法。
きる方法及び装置を提供する。 【構成】 形状または透過率分布が任意に変化する開口
パターンと、この開口パターンを感光材料が塗布された
基板上に投影する投影光学系と、この基板を一定速度で
第１の方向と、第１の方向と垂直な方向とにそれぞれ移
動させる機構を備えたことを特徴とする。また、形状ま
たは透過率分布が任意に変化する開口パターンの形状ま
たは透過率分布を変化させた後、前記基板上に投影し、
この基板上を一定速度で第１の方向に移動させることに
よって、帯状の領域を部分的に露光する第１の工程と、
前記開口パターンの投影像を、第１の方向に垂直な第２
の方向に移動させ、前記投影像を次に露光すべき位置に
移動する第２の工程と、前記基板上を現像処理する第３
の工程とを備えたパターン形成方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、回折格子の製作方法お
よび装置に係り、特に断面形状が鋸歯状に加工された回
折格子（ブレーズ化回折格子）の作製方法に関する。
よび装置に係り、特に断面形状が鋸歯状に加工された回
折格子（ブレーズ化回折格子）の作製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、回折光学系が広範な分野で利用さ
れるにあたり、回折効果を上げるために断面形状が鋸歯
状に加工された回折格子（ブレーズ化回折格子）の作製
方法に関する提案が種々なされている。例えば、特公昭
63-21171号公報では、鋸歯状の開口パターンをフォトレ
ジストを塗布した基板上に投影し、これを現象処理する
ことによって、断面形状がブレーズ化されたレジストパ
ターンを形成する方法が開示されている。この方法によ
れば、部分露光を繰り返すことによって、全領域を露光
するため、一括露光で全領域を露光する場合と比較して
投影光学系の実現が容易になるという特徴を持つ。
れるにあたり、回折効果を上げるために断面形状が鋸歯
状に加工された回折格子（ブレーズ化回折格子）の作製
方法に関する提案が種々なされている。例えば、特公昭
63-21171号公報では、鋸歯状の開口パターンをフォトレ
ジストを塗布した基板上に投影し、これを現象処理する
ことによって、断面形状がブレーズ化されたレジストパ
ターンを形成する方法が開示されている。この方法によ
れば、部分露光を繰り返すことによって、全領域を露光
するため、一括露光で全領域を露光する場合と比較して
投影光学系の実現が容易になるという特徴を持つ。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この方法は回
折格子のピッチを変化させるために、倍率を変化させて
いるため、投影光学系における光学的精度が低下し易
い。また、この方法に従って、鋸歯状の開口パターンを
倍率を違えて順次投影したとしても格子間隔の変化が任
意の関数で与えられる不等間隔回折格子を作製すること
は困難である。
折格子のピッチを変化させるために、倍率を変化させて
いるため、投影光学系における光学的精度が低下し易
い。また、この方法に従って、鋸歯状の開口パターンを
倍率を違えて順次投影したとしても格子間隔の変化が任
意の関数で与えられる不等間隔回折格子を作製すること
は困難である。
【０００４】本発明は、高精度の不等間隔回折格子（例
えば、回折格子が１点に集光するように格子間隔を調整
した回折型レンズ）を、容易に作製できる方法及び装置
を提供することを目的とする。
えば、回折格子が１点に集光するように格子間隔を調整
した回折型レンズ）を、容易に作製できる方法及び装置
を提供することを目的とする。
【０００５】
【問題を解決する手段】本発明による露光装置は、形状
または透過率分布が任意に変化する開口パターンと、該
開口パターンを感光材料を塗布した基板上に投影する投
影光学系と、該基板を一定速度で第１の方向に移動させ
る機構と、前記基板上に投影された開口パターンの投影
像を前記第１の方向に垂直な第２の方向に移動させる機
構を備えたことを特徴とする。
または透過率分布が任意に変化する開口パターンと、該
開口パターンを感光材料を塗布した基板上に投影する投
影光学系と、該基板を一定速度で第１の方向に移動させ
る機構と、前記基板上に投影された開口パターンの投影
像を前記第１の方向に垂直な第２の方向に移動させる機
構を備えたことを特徴とする。
【０００６】また、本発明によるパターン形成方法は、
形状または透過率分布が任意に変化する開口パターン
の、形状または透過率分布を変化させた後、該開口パタ
ーンを感光材料を塗布した基板上に投影し、該基板上を
一定速度で第１の方向に移動させることによって、帯状
の領域を部分的に露光する第１の工程と、前記基板上に
投影された該開口パターンの投影像を、前記第１の方向
に垂直な第２の方向に移動させ、前記投影像を次に露光
すべき位置に移動する第２の工程と、前記基板上を現像
処理する第３の工程とを備えたものである。
形状または透過率分布が任意に変化する開口パターン
の、形状または透過率分布を変化させた後、該開口パタ
ーンを感光材料を塗布した基板上に投影し、該基板上を
一定速度で第１の方向に移動させることによって、帯状
の領域を部分的に露光する第１の工程と、前記基板上に
投影された該開口パターンの投影像を、前記第１の方向
に垂直な第２の方向に移動させ、前記投影像を次に露光
すべき位置に移動する第２の工程と、前記基板上を現像
処理する第３の工程とを備えたものである。
【０００７】
【作用】本発明によれば、任意に変化する開口パターン
の投影像が、感光材料を塗布した基板上を第１の方向に
一定速度で移動するから、この第１の方向には一様な露
光量を与えることができ、かつ、第１の方向に垂直な第
２の方向には、開口パターンの形状、或いは透過率分布
に対応した任意の露光量分布を与えることができる。従
って、上記の工程でなされる帯状の部分露光を、この開
口パターンを適宜変化させて繰り返すことにより、前記
基板上の必要な領域に、所望の露光量分布を与えること
ができるから、これに現像処理を施すことによって、所
望の断面形状を有し、かつ格子間隔の変化が任意の関数
で与えられえるような、不等間隔回折格子を作製するこ
とができる。
の投影像が、感光材料を塗布した基板上を第１の方向に
一定速度で移動するから、この第１の方向には一様な露
光量を与えることができ、かつ、第１の方向に垂直な第
２の方向には、開口パターンの形状、或いは透過率分布
に対応した任意の露光量分布を与えることができる。従
って、上記の工程でなされる帯状の部分露光を、この開
口パターンを適宜変化させて繰り返すことにより、前記
基板上の必要な領域に、所望の露光量分布を与えること
ができるから、これに現像処理を施すことによって、所
望の断面形状を有し、かつ格子間隔の変化が任意の関数
で与えられえるような、不等間隔回折格子を作製するこ
とができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。図１は、本発明の第１の実施例による露光装置を示
す。図において、１は光源装置であり、レチクル２上の
所定の領域を均一に照明するものである。レチクル２は
液晶により構成され、制御装置３から送られてくる制御
信号ａに従って、所望の開口パターン４を形成するか、
或いは光源装置１による照明を完全に遮蔽する。６は投
影レンズであり、光源装置１で照明された所望の開口パ
ターン４を感光材料を塗布した基板７上に投影し、投影
像８を形成する。９は駆動装置10、11によりそれぞれ
Ｘ、Ｙ方向に移動可能なＸＹステージであり、感光材料
を塗布した基板７が積載される。
る。図１は、本発明の第１の実施例による露光装置を示
す。図において、１は光源装置であり、レチクル２上の
所定の領域を均一に照明するものである。レチクル２は
液晶により構成され、制御装置３から送られてくる制御
信号ａに従って、所望の開口パターン４を形成するか、
或いは光源装置１による照明を完全に遮蔽する。６は投
影レンズであり、光源装置１で照明された所望の開口パ
ターン４を感光材料を塗布した基板７上に投影し、投影
像８を形成する。９は駆動装置10、11によりそれぞれ
Ｘ、Ｙ方向に移動可能なＸＹステージであり、感光材料
を塗布した基板７が積載される。
【０００９】駆動装置10は制御装置３から送られてくる
制御信号ｂに従い、感光材料を塗布した基板７を、即ち
ステージ９を、一定の速度でＸ方向に移動させる。一
方、駆動装置１１は制御装置３から送られてくる制御信
号ｃに従い、非露光状態において、感光材料を塗布した
基板７をＹ方向に移動させることにより、投影像８を次
に露光する位置に移動させる。
制御信号ｂに従い、感光材料を塗布した基板７を、即ち
ステージ９を、一定の速度でＸ方向に移動させる。一
方、駆動装置１１は制御装置３から送られてくる制御信
号ｃに従い、非露光状態において、感光材料を塗布した
基板７をＹ方向に移動させることにより、投影像８を次
に露光する位置に移動させる。
【００１０】次に、上記露光装置を使用して、不等間隔
回折格子を作製する方法を示す。先ず、制御信号ａによ
り、レチクル２が照明光を完全に遮蔽した状態（非露光
状態）において、制御信号b を駆動装置10に送り、感光
材料を塗布した基板７を積載したＸＹステージ９を、一
定速度でＸ方向に移動させる。この移動が開始された
後、予め帯状の露光領域ごとに設定された開口パターン
４のデータが、制御信号ａとしてレチクル２に送られ、
このデータに対応した開口パターン４が、レチクル２上
に形成される。
回折格子を作製する方法を示す。先ず、制御信号ａによ
り、レチクル２が照明光を完全に遮蔽した状態（非露光
状態）において、制御信号b を駆動装置10に送り、感光
材料を塗布した基板７を積載したＸＹステージ９を、一
定速度でＸ方向に移動させる。この移動が開始された
後、予め帯状の露光領域ごとに設定された開口パターン
４のデータが、制御信号ａとしてレチクル２に送られ、
このデータに対応した開口パターン４が、レチクル２上
に形成される。
【００１１】光源装置１で照明された開口パターン４
は、投影レンズ６によって、感光材料が塗布された基板
７上に投影され、投影像８を形成する。このとき、感光
材料が塗布された基板７は駆動装置10によって一定速度
でＸ方向に移動しているから、開口パターン４の投影像
８は、感光材料が塗布された基板７上を一定速度でＸ方
向に移動する。必要な領域の露光が終了した後、制御信
号ａによって、レチクル２が該照明光を完全に遮光した
状態に戻し、更に、制御信号ｂによってＸＹステージの
移動を停止させる。この工程により、Ｘ方向には一様な
露光量を与え、かつＹ方向には開口パターン４に対応し
た露光量分布を与える帯状の部分露光が完了する。
は、投影レンズ６によって、感光材料が塗布された基板
７上に投影され、投影像８を形成する。このとき、感光
材料が塗布された基板７は駆動装置10によって一定速度
でＸ方向に移動しているから、開口パターン４の投影像
８は、感光材料が塗布された基板７上を一定速度でＸ方
向に移動する。必要な領域の露光が終了した後、制御信
号ａによって、レチクル２が該照明光を完全に遮光した
状態に戻し、更に、制御信号ｂによってＸＹステージの
移動を停止させる。この工程により、Ｘ方向には一様な
露光量を与え、かつＹ方向には開口パターン４に対応し
た露光量分布を与える帯状の部分露光が完了する。
【００１２】次に、予め帯状の露光領域ごとに設定され
たＹ方向の移動量を、制御信号ｃとして駆動装置１１に
送り、ＸＹステージ９をＹ方向に移動させることによっ
て、感光材料が塗布された基板７をＹ方向に移動させる
ことによって、感光材料が塗布された基板７をＹ方向に
移動させ、、次に露光すべき帯状の露光領域を、次の開
口パターン４の投影像８が形成される位置に設定する。
たＹ方向の移動量を、制御信号ｃとして駆動装置１１に
送り、ＸＹステージ９をＹ方向に移動させることによっ
て、感光材料が塗布された基板７をＹ方向に移動させる
ことによって、感光材料が塗布された基板７をＹ方向に
移動させ、、次に露光すべき帯状の露光領域を、次の開
口パターン４の投影像８が形成される位置に設定する。
【００１３】これらの工程を繰り返すことによって、感
光材料が塗布された基板７上の全露光領域における露光
工程が完了する。
光材料が塗布された基板７上の全露光領域における露光
工程が完了する。
【００１４】上記露光工程が終了した後、感光材料が塗
布された基板７を現像処理することによって、所望の断
面形状を有する不等間隔回折格子が得られる。
布された基板７を現像処理することによって、所望の断
面形状を有する不等間隔回折格子が得られる。
【００１５】ところで、上記露光工程において、開口パ
ターン４のデータを設定するためには、先ず、該感光材
料における露光量と現像後の残膜との関係（感度特性）
を考慮しなくてはならない。感光材料における感度特性
は一般的には直線的ではないため、所望の断面形状を有
するパターンを得ようとした場合，この感度特性を開口
パターン４に反映させる必要がある。
ターン４のデータを設定するためには、先ず、該感光材
料における露光量と現像後の残膜との関係（感度特性）
を考慮しなくてはならない。感光材料における感度特性
は一般的には直線的ではないため、所望の断面形状を有
するパターンを得ようとした場合，この感度特性を開口
パターン４に反映させる必要がある。
【００１６】図２において、５ａ，４ａは最終的に形成
される回折格子の断面形状と、それに対応する開口パタ
ーンの一例であるが、このような開口パターン形状の決
定方法は、例えば、特開平２−４３５５５号公報で示さ
れている。
される回折格子の断面形状と、それに対応する開口パタ
ーンの一例であるが、このような開口パターン形状の決
定方法は、例えば、特開平２−４３５５５号公報で示さ
れている。
【００１７】ここで、開口パターン４のデータは、回折
格子の１周期ごとに設定する必要はなく、むしろ、投影
レンズ６のフイ ールド一杯に、該開口パターンの投影像
８が形成されるように設定することが望ましい。例え
ば、図２において、領域（イ）における回折格子の１周
期（５ａ）が、Ｙ方向の大きさで、投影レンズ６のフィ
ールドサイズと同等であるとすると、格子間隔が1/2 の
領域（ロ）においては、領域での２周期（５ｂ）に相当
するように開口パターン４ｂを構成することが望まし
い。このように、回折格子の周期がより細かい領域にお
いては、より多くの周期を同時に描写することにより、
全露光領域を描写するための時間を短縮するための時間
を短縮することができる。
格子の１周期ごとに設定する必要はなく、むしろ、投影
レンズ６のフイ ールド一杯に、該開口パターンの投影像
８が形成されるように設定することが望ましい。例え
ば、図２において、領域（イ）における回折格子の１周
期（５ａ）が、Ｙ方向の大きさで、投影レンズ６のフィ
ールドサイズと同等であるとすると、格子間隔が1/2 の
領域（ロ）においては、領域での２周期（５ｂ）に相当
するように開口パターン４ｂを構成することが望まし
い。このように、回折格子の周期がより細かい領域にお
いては、より多くの周期を同時に描写することにより、
全露光領域を描写するための時間を短縮するための時間
を短縮することができる。
【００１８】なお、上記実施例において、開口パターン
４は、感光材料が塗布された基板７上に所望の露光量分
布を与えるものであれば、どのような形態であっても構
わない。例えば、開口パターン４の形状は矩形であっ
て、透過率を適宜変調することによって、感光材料が塗
布された基板７上に所望の露光量分布を与えることもで
きる。液晶に印加する電圧を適当に調整すれば、容易に
これを実現することができる。
４は、感光材料が塗布された基板７上に所望の露光量分
布を与えるものであれば、どのような形態であっても構
わない。例えば、開口パターン４の形状は矩形であっ
て、透過率を適宜変調することによって、感光材料が塗
布された基板７上に所望の露光量分布を与えることもで
きる。液晶に印加する電圧を適当に調整すれば、容易に
これを実現することができる。
【００１９】尚、開口パターン４の精度に余裕を持たせ
るために、上記実施例における投影の方式は、縮小投影
とすることが好ましい。
るために、上記実施例における投影の方式は、縮小投影
とすることが好ましい。
【００２０】本発明による露光装置の第２の実施例を図
３に示す。尚、図１と同一部材には同一符号を付し、説
明を省略する。図において、光源装置１、レチクル２、
及び投影レンズ６は共通の支持機構12に固定されてい
る。9aは回転ステージであって、感光材料が塗布された
基板７が積載される。駆動装置10は制御装置３から送ら
れてくる制御信号ｂに従い、露光状態において、感光材
料が塗布された基板７を一定の速度で回転させる。一
方、駆動装置11は制御装置３から送られてくる制御信号
ｃに従い、非露光状態において、共通の支持機構12をＹ
方向に移動させることにより、投影像８を次に露光する
位置に移動させる。
３に示す。尚、図１と同一部材には同一符号を付し、説
明を省略する。図において、光源装置１、レチクル２、
及び投影レンズ６は共通の支持機構12に固定されてい
る。9aは回転ステージであって、感光材料が塗布された
基板７が積載される。駆動装置10は制御装置３から送ら
れてくる制御信号ｂに従い、露光状態において、感光材
料が塗布された基板７を一定の速度で回転させる。一
方、駆動装置11は制御装置３から送られてくる制御信号
ｃに従い、非露光状態において、共通の支持機構12をＹ
方向に移動させることにより、投影像８を次に露光する
位置に移動させる。
【００２１】次に、上記露光装置を使用して回折型レン
ズを作製する方法を示す。先ず、制御信号ａにより、レ
チクル２が照明光を完全に遮蔽した状態（非露光状態）
において、制御信号ｂを駆動装置10に送り, 感光材料が
塗布された基板７を積載した回転ステージ9aを、一定速
度で回転させる。この回転移動が開始された後、予め輪
帯状の露光領域ごとに設定された開口パターン４のデー
タが、制御信号ａとしてレチクル２に送られ、このデー
タに対応した開口パターン４が、レチクル２上に形成さ
れる。光源装置１からの光で照明された開口パターン４
は、投影レンズ６にによって、感光材料が塗布された基
板７上に投影され、投影像８を形成する。このとき、感
光材料が塗布された基板７は、駆動装置10によって一定
速度で回転移動しているから、開口パターン４の投影像
８は、感光材料が塗布された基板７上を一定速度で回転
移動する。必要な領域の露光が終了した後、制御信号ａ
によって、レチクル２が該照明光を完全に遮光した状態
に戻す。この工程により、回転方向には一様な露光量を
与え、かつ、Ｙ方向（半径方向）には開口パターン４に
対応した露光量分布を与える輪帯状の部分露光が完了す
る。
ズを作製する方法を示す。先ず、制御信号ａにより、レ
チクル２が照明光を完全に遮蔽した状態（非露光状態）
において、制御信号ｂを駆動装置10に送り, 感光材料が
塗布された基板７を積載した回転ステージ9aを、一定速
度で回転させる。この回転移動が開始された後、予め輪
帯状の露光領域ごとに設定された開口パターン４のデー
タが、制御信号ａとしてレチクル２に送られ、このデー
タに対応した開口パターン４が、レチクル２上に形成さ
れる。光源装置１からの光で照明された開口パターン４
は、投影レンズ６にによって、感光材料が塗布された基
板７上に投影され、投影像８を形成する。このとき、感
光材料が塗布された基板７は、駆動装置10によって一定
速度で回転移動しているから、開口パターン４の投影像
８は、感光材料が塗布された基板７上を一定速度で回転
移動する。必要な領域の露光が終了した後、制御信号ａ
によって、レチクル２が該照明光を完全に遮光した状態
に戻す。この工程により、回転方向には一様な露光量を
与え、かつ、Ｙ方向（半径方向）には開口パターン４に
対応した露光量分布を与える輪帯状の部分露光が完了す
る。
【００２２】ここで、感光材料が塗布された基板７に与
えられる露光量は、同一の開口パターン４を通した場
合、投影像８が投影されている位置の回転の半径に反比
例するから、開口パターン４のデータは、該半径によっ
て適宜補正する必要がある。
えられる露光量は、同一の開口パターン４を通した場
合、投影像８が投影されている位置の回転の半径に反比
例するから、開口パターン４のデータは、該半径によっ
て適宜補正する必要がある。
【００２３】次に、予め輪帯状の露光領域ごとに設定さ
れたＹ方向の移動量を、制御信号ｃとして駆動装置11に
送り、共通の支持機構12をＹ方向に移動させることによ
って、次に露光すべき輪帯状の露光領域に、次の開口パ
ターン４の投影像８が投影される位置を設定する。これ
らの工程を繰り返すことによって、感光材料が塗布され
た基板７上の全露光領域における露光工程が完了する。
上記露光工程が終了した後、感光材料が塗布された基板
７を現像処理することによって、所望の断面形状を有す
る回折型レンズが得られる。
れたＹ方向の移動量を、制御信号ｃとして駆動装置11に
送り、共通の支持機構12をＹ方向に移動させることによ
って、次に露光すべき輪帯状の露光領域に、次の開口パ
ターン４の投影像８が投影される位置を設定する。これ
らの工程を繰り返すことによって、感光材料が塗布され
た基板７上の全露光領域における露光工程が完了する。
上記露光工程が終了した後、感光材料が塗布された基板
７を現像処理することによって、所望の断面形状を有す
る回折型レンズが得られる。
【００２４】なお、上記実施例では、投影像８が投影さ
れる位置による露光量の違いを、開口パターン４で補正
したが、これ以外に、光源装置１からの光源の光量をこ
の半径に比例させて増加させるか、或いは、感光材料が
塗布された基板７の回転速度をこの半径に反比例させて
減少させることによって、上記露光量の違いを補正する
こともできる。
れる位置による露光量の違いを、開口パターン４で補正
したが、これ以外に、光源装置１からの光源の光量をこ
の半径に比例させて増加させるか、或いは、感光材料が
塗布された基板７の回転速度をこの半径に反比例させて
減少させることによって、上記露光量の違いを補正する
こともできる。
【００２５】また、上記実施例において、輪帯状の領域
を部分露光する際、感光材料が塗布された基板７が一回
転した時点で、この領域の露光を終了させる必要はな
く、光源１からの光源の安定性を考えれば、多重露光を
行った方が好ましい。
を部分露光する際、感光材料が塗布された基板７が一回
転した時点で、この領域の露光を終了させる必要はな
く、光源１からの光源の安定性を考えれば、多重露光を
行った方が好ましい。
【００２６】
【発明の効果】上述したように本発明によれば、不等間
隔回折格子のピッチが異なる領域を、部分的な投影露光
によって形成する方法において、形状或いは透過率が任
意に変化する開口パターンを、適宜変化させて投影して
いるから、所望の断面形状を有し、かつ、格子間隔の変
化が任意の関数で与えられる不等間隔回折格子を、容易
に、かつ、高精度に作製することができる。
隔回折格子のピッチが異なる領域を、部分的な投影露光
によって形成する方法において、形状或いは透過率が任
意に変化する開口パターンを、適宜変化させて投影して
いるから、所望の断面形状を有し、かつ、格子間隔の変
化が任意の関数で与えられる不等間隔回折格子を、容易
に、かつ、高精度に作製することができる。
【図１】本発明の第１実施例による露光装置の構成図で
ある。
ある。
【図２】回折格子の断面図（下）と対応する開口パター
ン（上）を示す。
ン（上）を示す。
【図３】本発明の第２実施例による露光装置の構成図で
ある。
ある。
１ 光源装置 ２ レチクル ３ 制御信装置 4,4a,4b 開口パターン 5a,5b 開口パターンの断面形状 ６ 投影レンズ ７ 感光材料が塗布された基板 ８ 投影像 ９ ＸＹステージ 9ａ 回転ステージ 10,11 駆動装置 12 支持機構 a,b,c 制御信号
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年１２月３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１２】次に、予め帯状の露光領域ごとに設定され
たＹ方向の移動量を、制御信号ｃとして駆動装置１１に
送り、ＸＹステージ９をＹ方向に移動させることによっ
て、感光材料が塗布された基板７をＹ方向に移動さ
せ、、次に露光すべき帯状の露光領域を、次の開口パタ
ーン４の投影像８が形成される位置に設定する。
たＹ方向の移動量を、制御信号ｃとして駆動装置１１に
送り、ＸＹステージ９をＹ方向に移動させることによっ
て、感光材料が塗布された基板７をＹ方向に移動さ
せ、、次に露光すべき帯状の露光領域を、次の開口パタ
ーン４の投影像８が形成される位置に設定する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１７】ここで、開口パターン４のデータは、回折
格子の１周期ごとに設定する必要はなく、むしろ、投影
レンズ６のフイ ールド一杯に、該開口パターンの投影像
８が形成されるように設定することが望ましい。例え
ば、図２において、領域（イ）における回折格子の１周
期（５ａ）が、Ｙ方向の大きさで、投影レンズ６のフィ
ールドサイズと同等であるとすると、格子間隔が1/2 の
領域（ロ）においては、該領域での２周期（５ｂ）に相
当するように開口パターン４ｂを構成することが望まし
い。このように、回折格子の周期がより細かい領域にお
いては、より多くの周期を同時に描写することにより、
全露光領域を描写するための時間を短縮することができ
る。
格子の１周期ごとに設定する必要はなく、むしろ、投影
レンズ６のフイ ールド一杯に、該開口パターンの投影像
８が形成されるように設定することが望ましい。例え
ば、図２において、領域（イ）における回折格子の１周
期（５ａ）が、Ｙ方向の大きさで、投影レンズ６のフィ
ールドサイズと同等であるとすると、格子間隔が1/2 の
領域（ロ）においては、該領域での２周期（５ｂ）に相
当するように開口パターン４ｂを構成することが望まし
い。このように、回折格子の周期がより細かい領域にお
いては、より多くの周期を同時に描写することにより、
全露光領域を描写するための時間を短縮することができ
る。
Claims (2)
- 【請求項１】 形状または透過率分布が任意に変化する
開口パターンと、該開口パターンを感光材料を塗布した
基板上に投影する投影光学系と、該基板を一定速度で第
１の方向に移動させる機構と、前記基板上に投影された
開口パターンの投影像を前記第１の方向に垂直な第２の
方向に移動させる機構を備えたことを特徴とする露光装
置。 - 【請求項２】 形状または透過率分布が任意に変化する
開口パターンの形状または透過率分布を変化させた後、
該開口パターンを前記基板上に投影し、該基板上を一定
速度で第１の方向に移動させることによって、帯状の領
域を部分的に露光する第１の工程と、前記基板上に投影
された該開口パターンの投影像を、前記第１の方向に垂
直な第２の方向に移動させ、前記投影像を次に露光すべ
き位置に移動する第２の工程と、前記基板上を現像処理
する第３の工程とを備えたパターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4098073A JPH05297471A (ja) | 1992-04-17 | 1992-04-17 | 露光装置及びパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4098073A JPH05297471A (ja) | 1992-04-17 | 1992-04-17 | 露光装置及びパターン形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05297471A true JPH05297471A (ja) | 1993-11-12 |
Family
ID=14210177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4098073A Withdrawn JPH05297471A (ja) | 1992-04-17 | 1992-04-17 | 露光装置及びパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05297471A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5623473A (en) * | 1994-06-30 | 1997-04-22 | Nikon Corporation | Method and apparatus for manufacturing a diffraction grating zone plate |
| JP2002214797A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-07-31 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ照射装置及び照射方法 |
| WO2010069252A1 (zh) * | 2008-12-17 | 2010-06-24 | Gu Jinchang | 用于立体投影成像的光栅和感光材料固定装置 |
| JP2010533972A (ja) * | 2007-07-16 | 2010-10-28 | ネーデルランデ オルガニサティー ヴール トゥーヘパストナツールウェテンスハペライク オンデルズーク テーエヌオー | 基板への露光パターンのスキャン描画 |
| EP2378355A1 (en) * | 2008-12-26 | 2011-10-19 | Shanghai Yiying Digital Technology Co., Ltd. | Photosensing device for digital stereo spliced picture projection imaging and operation method thereof |
-
1992
- 1992-04-17 JP JP4098073A patent/JPH05297471A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5623473A (en) * | 1994-06-30 | 1997-04-22 | Nikon Corporation | Method and apparatus for manufacturing a diffraction grating zone plate |
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| JP2010533972A (ja) * | 2007-07-16 | 2010-10-28 | ネーデルランデ オルガニサティー ヴール トゥーヘパストナツールウェテンスハペライク オンデルズーク テーエヌオー | 基板への露光パターンのスキャン描画 |
| WO2010069252A1 (zh) * | 2008-12-17 | 2010-06-24 | Gu Jinchang | 用于立体投影成像的光栅和感光材料固定装置 |
| RU2472196C1 (ru) * | 2008-12-17 | 2013-01-10 | ШАНХАЙ ИИН ДИДЖИТЛ ТЕКНОЛЭДЖИ КО., Лтд. | Фиксирующее устройство для растра и светочувствительных материалов, используемое в стереоскопических проекционных изображениях |
| EP2378355A1 (en) * | 2008-12-26 | 2011-10-19 | Shanghai Yiying Digital Technology Co., Ltd. | Photosensing device for digital stereo spliced picture projection imaging and operation method thereof |
| EP2378355A4 (en) * | 2008-12-26 | 2012-06-27 | Shanghai Yiying Digital Technology Co Ltd | LIGHT SENSOR DEVICE FOR IMAGING USING DIGITAL STEREOSPLEISSBILDPROJEKTION AND OPERATING METHOD THEREFOR |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990706 |