JPH05295392A - ポリエステル類の製造装置の洗浄方法 - Google Patents
ポリエステル類の製造装置の洗浄方法Info
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Abstract
リマーの効率的かつ経済的な洗浄方法を提供する。 【構成】ポリエステル類の製造装置の洗浄にグリコール
類またはグリコール類と一級または二級アミン類を用い
ることを特徴とするポリエステル類の製造装置の洗浄方
法。
Description
置の洗浄方法に関するものである。
リブチレンテレフタレートなどの結晶性ポリエステルや
p−ヒドロキシ安息香酸を一成分とする液晶性ポリエス
テルが耐熱性、耐溶剤性に優れることから、各種電子部
品や工業部品に用いられている。
るので、製造後、装置に付着残存したポリマー類を洗浄
除去することが困難であった。従来は、アルカリ水溶液
による洗浄方法が用いられていた。
リマーの溶解、分解方法では、完全分解には非常に長時
間を要するという問題があった。さらに、ポリマーによ
っては完全分解が不可能な場合もあった。そのような場
合、装置を分解し、人手により適当な道具で物理的に除
去するという煩雑な方法がとられていた。
リエステル類の製造装置の洗浄方法が効率的ではなく経
済的ではないという問題点を解決しようとするものであ
る。
な問題点を解決できるように鋭意検討した結果、ポリエ
ステル類の製造における、反応生成物取り出し後の製造
装置の洗浄方法に関し、極めて効率的かつ経済的な方法
を見出すに至った。
装置の洗浄にグリコール類を用いることを特徴とするポ
リエステル類の製造装置の洗浄方法に関するものであ
る。さらに、本発明は、一級または二級アミン類をグリ
コール類と併用することを特徴とするポリエステル類の
製造装置の洗浄方法に関するものである。
ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレ
ート、ポリ−m−フェニレンテレフタレート、ポリ−p
−フェニレンイソフタレート、ポリ−1,4−シクロヘ
キサンジメチレンテレフタレートなどのポリエステルや
p−ヒドロキシ安息香酸や2−ヒドロキシ−6−ナフト
エ酸などの芳香族ヒドロキシカルボン酸から得られるポ
リエステル、さらにこれらの芳香族ヒドロキシカルボン
酸とテレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレン
ジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸とハイドロキノ
ン、レゾルシン、4,4’−ジヒドロキシジフェニル、
2,6−ジヒドロキシナフタレンなどの芳香族ジヒドロ
キシ化合物とから得られる液晶性ポリエステルなどが挙
げられる。
槽型反応器、濡壁塔型反応器、または横型反応器などの
製造装置、設備類が挙げられる。
チレングリコール、トリメチレングリコール、トリエチ
レングリコールなどが挙げられる。
の温度は、高いほうが洗浄効果が大きいので好ましい。
したがって、上記のグリコール類を用い、グリコールの
沸点近くの温度で還流下で洗浄することが好ましい。グ
リコールの沸点で還流下で洗浄することが、さらに好ま
しい。沸点の高いグリコール類を用いることが好ましい
が、価格などを考慮すると、前記のグリコール類の内、
トリエチレングリコール(沸点287℃)が好ましい。
グリコール類を用いて洗浄するときの洗浄時間は1〜1
0時間、好ましくは1〜8時間が適当である。
アミンを併用してもよい。本発明で用いる一級および二
級アミンとしては、ジエチルアミン、プロピルアミン、
ジプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、ヘ
キシルアミンなどのアルキルモノアミン、エチレンジア
ミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミ
ン、ジエチレントリアミンなどのアルキルポリアミン、
さらに、アニリン、ベンジルアミンなどの芳香族アミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどの
アルカノールアミンなどが挙げられる。これらの一級お
よび二級アミンの内、沸点と価格面などを考慮すると、
モノエタノールアミン(沸点171℃)が好ましい。
るので、好ましい。アミンとグリコールの量的関係につ
いては、アミン濃度として、5〜50重量%、好ましく
は10〜30重量%が適当である。アミン濃度が5重量
%未満では、アミンの添加効果が小さく、50重量%を
越えると、還流温度を高くできないので、むしろ洗浄効
果が落ちてくるので好ましくない。
れらに限定されるものではない。実施例における洗浄効
果の評価方法としては、別途合成したポリエステルを粉
砕し、一定の粒径のものを一定量ずつ用い、それぞれ、
一定量の溶媒に分散させ、実施例に示す温度、時間で処
理し、冷却後、80メッシュのステンレス製金網(目開
き;0.18mm)で全量ろ過し、メタノール洗浄後乾
燥し、金網上に残ったポリマーの重量を測定し比較し
た。
4,4’−ジアセトキシジフェニル5.41kg(20
モル)、テレフタル酸3.32kg(20モル)を櫛型
撹拌翼を有する50リットルSUS−316L製重合槽
に仕込んだ。窒素ガス雰囲気下昇温し180℃から撹拌
しながら1℃/分の速度で昇温し副生する酢酸を留去し
ながら300℃で60分重合した。その後、系を密閉し
窒素で槽内圧を1kg/cm2 ・Gに保ち、重合槽底部
のバルブを開け、反応物をステンレス製トレーに約1c
mの厚みで抜き出した。
収量の99.2%であった。これを、固定刃と回転刃か
らなる剪断型の粉砕機で粉砕し、粒径が3mm以上8m
m以下のものを取り出し、実施例の洗浄テストに供した
(以下、ポリエステルAという)。
は一般式化1の通りで、また下記の方法で測定したこの
ポリマーの流動温度は270℃であった。
フローテスター CFT−500型で測定され、4℃/
分の昇温速度で加熱溶融された樹脂を荷重100kg/
cm 2 の下で内径1mm、長さ10mmのノズルから押
し出す時に、該溶融粘度が48,000ポイズを示す点
における温度である。この温度の低い樹脂ほど流動性が
大である。
撹拌翼、冷却管、温度計、窒素導入管を付しマントルヒ
ーターにセットされたものをテスト用装置とした。
エステルAを10g、トリエチレングリコール(沸点2
87℃)300mlを仕込み、窒素雰囲気下287℃で
150rpmの撹拌下6時間処理した。その後、50℃
以下に冷却し、全量を80メッシュの金網でろ過したと
ころ金網上にはポリマー粒子は残らなかった。
て実施した。撹拌を止め系内を観察したところ、約1〜
2mmの粒子の存在が認められたのでさらに3時間処理
し、金網でろ過したところ、金網上にポリマーは残らな
かった。
10g、トリエチレングリコール270ml、モノエタ
ノールアミン30mlを用い250℃で2時間攪拌処理
した。冷却後、同様に金網でろ過したところポリマーは
残らなかった。
苛性ソーダ15g、水150ml、メタノール150m
lを用い、窒素雰囲気下80℃で150rpmの撹拌下
8時間処理した。撹拌を止め系内を観察すると、まだ、
かなりの粒子が浮遊していた。翌日、同条件でさらに5
時間処理し、80メッシュの金網でろ過し、メタノール
で洗浄し、乾燥後、重量を測定すると4.1gあった。
ただし、粒子の形状は全般に小さくなっていた。以上、
実施例1〜3、比較例1を表1にまとめる。
重合槽にP−アセトキシ安息香酸21.6kg(120
モル)、4,4’−ジアセトキシジフェニル10.8k
g(40モル)、テレフタル酸4.98kg(30モ
ル)イソフタル酸1.66kg(10モル)を仕込ん
だ。
℃から撹拌しながら1℃/分の速度で昇温し、副生する
酢酸を留去しながら300℃で60分重合した。その
後、系を密閉し窒素ガスで槽内圧を1kg/cm2 ・G
に保ち、重合槽底部のバルブを開け反応物をステンレス
製トレーに抜き出した。この反応物の得量は26.0k
gで理論収量から考えると、槽内の付着残存ポリマー量
は、約1kgである。また、このポリマーを平均粒径
0.5mmの粒子に粉砕し流動温度を測定すると270
℃であった。
る繰り返し構造単位からなる全芳香族ポリエステルであ
る。
翼に膜状にポリマーが付着していた。次に、トリエチレ
ングリコール60リットルを仕込んで、287℃で撹拌
還流下8時間洗浄し、冷却後、内容物を抜き出し、槽内
を観察すると槽の蓋部に付着した昇華物などがすべて除
去されており、槽内全面がきれいになっていた。
L製重合槽で、一般式化2で表される繰り返し構造単位
からなる全芳香族ポリエステルを重合した。冷却後、槽
内を観察すると槽壁および撹拌翼に膜状にポリマーが付
着していた。次に、トリエチレングリコール54リット
ル、モノエタノールアミン6リットルを仕込んで、25
0℃で撹拌還流下5時間洗浄し、冷却後内容物を抜き出
し、槽内を観察すると槽の蓋部に付着した昇華物などが
すべて除去されており、槽内全面がきれいになってい
た。
置、設備の洗浄にグリコール類を使用、またはこれらグ
リコール類に一級もしくは二級アミンを併用すると、き
わめて短時間に付着、残存ポリマーを洗浄除去できる。
比較例のように苛性ソーダ水溶液による処理では、完全
に溶解、分解するには非常に長時間を要したりポリマー
によっては、完全に溶解、分解不可能で必要に応じ装
置、設備を分解し、刃物などにより物理的に除去せざる
を得なかった。これに対し、本発明によると実施例から
も明らかなとおりきわめて効率的に洗浄処理できるの
で、工業的価値が大きい。
Claims (2)
- 【請求項1】ポリエステル類の製造装置の洗浄にグリコ
ール類を用いることを特徴とするポリエステル類の製造
装置の洗浄方法。 - 【請求項2】一級または二級アミン類をグリコール類と
併用することを特徴とする請求項1記載のポリエステル
類の製造装置の洗浄方法。
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---|---|---|---|
JP04095199A JP3136749B2 (ja) | 1992-04-15 | 1992-04-15 | 液晶性ポリエステルの製造装置の洗浄方法 |
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5762718A (en) * | 1994-11-04 | 1998-06-09 | Hoechst Celanese Corporation | Process for reducing black specks in a thermotropic liquid crystal polymer with successive washes of triethylene glycol, ethylene glycol and water |
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JP2011052054A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-03-17 | Ueno Fine Chem Ind Ltd | 液晶ポリマー溶融重合装置の洗浄方法 |
-
1992
- 1992-04-15 JP JP04095199A patent/JP3136749B2/ja not_active Expired - Fee Related
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