JPH05283521A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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Publication number
JPH05283521A
JPH05283521A JP4079668A JP7966892A JPH05283521A JP H05283521 A JPH05283521 A JP H05283521A JP 4079668 A JP4079668 A JP 4079668A JP 7966892 A JP7966892 A JP 7966892A JP H05283521 A JPH05283521 A JP H05283521A
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JP
Japan
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wiring
block
blocks
semiconductor device
connection terminals
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Withdrawn
Application number
JP4079668A
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English (en)
Inventor
Makoto Shiino
眞 椎野
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NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Original Assignee
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】バイポーラICのマスクパターン設計における
ブロック間配線を自動配線ツールを用いて設計する場合
に、配線の引き回しによる他の配線との干渉やチップサ
イズの増大を防ぐようにブロック内部を設計すること。 【構成】ある特定のブロック1から他のブロック2,3
に1本の配線が複数箇所接続されている時、その特性の
ブロック2がブロック内部でその配線を接続し、かつ上
下に2点の接続端子B,B′を持つようにブロック内部
を設計する。これにより、配線はブロックを迂回するこ
となく他のブロック3と接続でき、チップサイズの増大
や他の配線との干渉を防ぎ、配線長が短くなることから
布線抵抗も減少できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の製造方法に
関し、特にバイポーラICのマスクパターン設計におけ
るブロック間配線を自動配線ツールを用いて設計する場
合のブロック内の設計方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の技術として、図2に示すように、
自動配線ツールを用いて設計した時、配線4がブロック
1,2,3にそれぞれ接続されている場合を示す。ブロ
ック1,2,3には接続端子A,B,Cがそれぞれ1点
ずつしかないようにブロック内部を設計していたため、
配線4はブロック2を迂回してブロック1,3と接続さ
れ、この時近傍の配線5との干渉が生じる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前述のように、配線4
はブロック2を迂回して接続されていたのでは、配線領
域が増大しチップサイズが大きくなるという欠点があ
り、また布線抵抗の増大や他の配線等との干渉が生じ、
回路上に不用な信号が発生し、これにより回路の誤動作
を引き起こす原因となる。
【0004】本発明の目的は、前記欠点を解決し、ブロ
ックを迂回しなくても、配線ができるようにした半導体
装置の製造方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の構成は、バイポ
ーラICのマスクパターン設計における多数のブロック
間の相互配線を配線ツールを用いて設計する半導体装置
の製造方法において、前記多数のブロックのうち第1の
ブロックの接続端子に接続された一本の配線を、前記多
数のブロークのうち第2,第3のブロックの接続端子に
それぞれ接続する場合、前記第2のブロックに二個の接
続端子を設け、前記二個の接続端子同士をブロック内で
配線し、前記第3のブロックの接続端子への配線は、前
記ブロック内での配線を介して行うことを特徴とする。
【0006】
【実施例】図1は本発明の一実施例の半導体装置の製造
方法を示すブロック図である。
【0007】図1において、本実施例は、ブロック2の
部分では配線4をブロック2内部で接続し、かつブロッ
ク2の上下の接続端子B,B′に接続するように設計す
る。ブロック1,3では、配線4の接続端子A,Cはそ
れぞれ1点づつしか持っていない。
【0008】このようは構造にブロック2を設計するこ
とにより、配線4はブロック2を迂回することなく、ブ
ロック3に最短距離で接続でき、配線5との干渉も生じ
ない。
【0009】図2の従来のように、配線4,5が平行配
線されると、相互干渉を生じ、誤動作の原因となり、特
に高い周波数がこれら配線4,5に印加された場合に干
渉が大きい。図1では、配線4が配線5とかなり離間し
ているから、このような心配がない。
【0010】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、バイポ
ーラICのマスクパターン設計におけるブロック間配線
を自動配線ツールを用いて設計す場合に、ある特定のブ
ロックから他の上下ブロックに1本の配線が複数箇所接
続されている時、その特定のブロックがブロック内部で
その配線を接続しかつ上下に接続端子を2点持つように
ブロック内を設計することにより、配線領域の増大を防
止してチップサイズを縮小でき、また配線長が短かくな
るために布線抵抗が減少し、他の配線との干渉による不
用な信号が回路動作に影響を及ぼすことを防ぐという効
果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の半導体装置の製造方法にお
いてブロック間配線を示すブロック図である。
【図2】従来の半導体装置のブロック間の配線を示すブ
ロック図である。
【符号の説明】
1,2,3 ブロック 4,5 配線 A,B,B′,C 接続端子

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 バイポーラICのマスクパターン設計に
    おける多数のブロック間の相互配線を配線ツールを用い
    て設計する半導体装置の製造方法において、前記多数の
    ブロックのうち第1のブロックの接続端子に接続された
    一本の配線を、前記多数のブロークのうち第2,第3の
    ブロックの接続端子にそれぞれ接続する場合、前記第2
    のブロックに二個の接続端子を設け、前記二個の接続端
    子同士をブロック内で配線し、前記第3のブロックの接
    続端子への配線は、前記ブロック内での配線を介して行
    うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
JP4079668A 1992-04-01 1992-04-01 半導体装置の製造方法 Withdrawn JPH05283521A (ja)

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