JPH05198673A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

Info

Publication number
JPH05198673A
JPH05198673A JP886492A JP886492A JPH05198673A JP H05198673 A JPH05198673 A JP H05198673A JP 886492 A JP886492 A JP 886492A JP 886492 A JP886492 A JP 886492A JP H05198673 A JPH05198673 A JP H05198673A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
cell
layer
integrated circuit
semiconductor integrated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP886492A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Okumura
賢治 奥村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Original Assignee
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd filed Critical NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Priority to JP886492A priority Critical patent/JPH05198673A/ja
Publication of JPH05198673A publication Critical patent/JPH05198673A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】半導体集積回路のセル内に、セルに対して上下
方向の通過配線と接続する左右方向の通過配線を配置す
る事で、配線領域を減少すること。 【構成】半導体集積回路のセル内に、アルミニウムやポ
リシリコンなどの配線層を用い、これらと単一もしくは
複数層使用し、セルに対して上下方向の通過配線1と、
これに接続する左右の通過配線20,21を配置し、配
線領域を減少する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路装置に関
し、特にスタンダードセル方式のセル内部の通過配線に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体集積回路装置は、スタンダ
ードセル方式の場合、セル−セル間,セル−ピン間の配
線が、他配線の妨げとならないように、配線領域は主に
セル列に対して上下方向ではセル内部信号を引きだす層
(これを第1層とする),左右方向は第1層とは別の層
(これを第2層とする)を使用する。
【0003】従って、図2に示すように、入出力ピン5
とセルFの信号線Sとを接続する場合、セルA,B,C
の列を通過する第1層通過配線1が必要であり、全セル
内に上下方向に通過配線1を配置する。ここで、セルA
とセルFが左右方向に離れている場合、前述したよう
に、他セル間の配線を妨げないように、セルAの通過配
線1より、第1層配線7で、これと第2層配線3との接
続部(これをコンタクト10とする)まで配線し、同様
にセルFの信号線Sより、第1層配線8でコンタクト9
まで配線し、コンタクト10とコンタクト9との間を第
2層配線3で接続する。
【0004】尚、入出力ピンは、第1層配線6,第1層
通過配線1,第1層配線7,コンタクト10,第2層配
線3,コンタクト9,第1層配線8,信号線Sを通し
て、セルFに至る。上下方向には、第1層通過配線1,
第1層入出力配線2があり、左右方向には、第2層配線
3,4がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のセル
内部の上下方向の通過配線1では、前述の様に、使用し
た通過配線1のセルAと接続するセルFが離れている場
合、配線領域に於てコンタクト9,10及び第2層配線
3を使用する為、配線領域の面積が増大するという問題
点があった。また第2層配線3が高抵抗の場合、特に自
動レイアウトに於ては、遅延値がコントロールできない
という問題点もあった。
【0006】本発明の目的は、前記問題点を解決し、配
線領域の面積を増大させず、かつ遅延値を低くコントロ
ールできるようにした半導体集積回路装置を提供するこ
とにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
装置の構成は、半導体チップ上に、セル内部に上下に通
る第1の通過配線と、前記配線に接続し左右の第2の通
過配線とを備えているることを特徴とする。
【0008】
【実施例】図1は本発明の一実施例の半導体集積回路装
置の平面図である。
【0009】図1において、本実施例では、セルA〜F
内に上下方向の第1層通過配線1を配置し、これを隣り
合うセルの左右方向の通過配線20,21と接続するよ
うに配置する。通過配線20,21は単一層でも可能で
あるし、複数の層と組み合せる事も可能である。
【0010】入出力ピン5とセルF内の信号線Sとを接
続する場合、セルA,B,C内の左右の通過配線20を
使用する事により、全く他のセル間配線を妨げる事な
く、第1層のみで配線が可能となる。配線20,21間
接続は、第1層配線11のみで可能である。従って、第
2層配線4は、使用しないで済む。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、セル内
に左右方向の通過配線を備えている為、配線領域の配線
本数を増やす事なく、セル列を通過する配線が可能であ
り、また単一層での配線が可能な為、遅延値が問題とな
る半導体集積回路装置にも、抵抗値が低い層を配線層と
して使用する事により、遅延値の検証を除けるという効
果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の半導体集積回路装置の平面
図である。
【図2】従来の半導体集積回路装置の平面図である。
【符号の説明】
1 第1層通過配線 2 第1層入出力配線 3,4 第2層配線 5 入出力ピン 6,7,8,11 第1層配線 9,10 コンタクト 20,21 左右方向の配線

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップ上に、セル内部に上下に通
    過する第1の通過配線と、前記配線に接続し左右に通過
    する第2の通過配線とを有することを特徴とする半導体
    集積回路装置。
JP886492A 1992-01-22 1992-01-22 半導体集積回路装置 Withdrawn JPH05198673A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP886492A JPH05198673A (ja) 1992-01-22 1992-01-22 半導体集積回路装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP886492A JPH05198673A (ja) 1992-01-22 1992-01-22 半導体集積回路装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05198673A true JPH05198673A (ja) 1993-08-06

Family

ID=11704563

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP886492A Withdrawn JPH05198673A (ja) 1992-01-22 1992-01-22 半導体集積回路装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05198673A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2668981B2 (ja) 半導体集積回路
JPH02165652A (ja) 半導体集積回路装置
JPH0329342A (ja) 半導体装置
US5668389A (en) Optimized power bus structure
JPH11121498A (ja) 半導体集積回路装置
US6121644A (en) Semiconductor integrated circuit device and method of arranging and wiring cells
JP2000068383A (ja) 半導体集積回路装置の設計方法および半導体集積回路装置
JPH05198673A (ja) 半導体集積回路装置
JPH1041393A (ja) 半導体スタンダードセル及びその配置配線方法
JP3353397B2 (ja) 半導体集積回路
JPH08213466A (ja) 半導体集積回路
JPS601844A (ja) 半導体集積回路装置
JP2529342B2 (ja) チャネル配線方法
JP3132604B2 (ja) 半導体集積回路装置
JPH04324678A (ja) 半導体集積回路装置
JP2634800B2 (ja) 半導体集積回路スタンダードセル
JPH01152642A (ja) 半導体集積回路
JP2000138289A (ja) 半導体集積回路装置
JP2656263B2 (ja) 半導体集積回路装置
JPH0645566A (ja) 半導体集積回路装置
JPH0774252A (ja) 半導体集積回路
JPH04253370A (ja) 半導体集積回路装置
JPS6248042A (ja) マスタ−スライス方式半導体集積回路
JPH04186749A (ja) 半導体集積回路装置
JPH0485853A (ja) 半導体集積回路装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19990408