JPH052816U - ワイヤ放電加工機用加工液供給装置 - Google Patents

ワイヤ放電加工機用加工液供給装置

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JPH052816U
JPH052816U JP826791U JP826791U JPH052816U JP H052816 U JPH052816 U JP H052816U JP 826791 U JP826791 U JP 826791U JP 826791 U JP826791 U JP 826791U JP H052816 U JPH052816 U JP H052816U
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JP
Japan
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machining fluid
machining
fluid
specific resistance
supply device
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Application number
JP826791U
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Inventor
峰久 加藤
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 加工液が減少した場合でも、高精度加工が維
持でき、長時間連続無人運転を実現する。 【構成】 加工液供給装置内の液面を検出する液面検出
器と、加工液の比抵抗検出装置と、加工液温度検出装置
と、上記加工液供給装置と新たな加工液を補充する加工
液供給源との間に、上記液面検出器により制御される給
水手段と、上記加工液の比抵抗検出装置により制御され
る比抵抗制御装置および加工液温度検出装置により制御
される加工液温度制御装置を設けた。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案はワイヤ放電加工機用加工液供給装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図2は従来のワイヤ放電加工機用加工液供給装置の加工液の回路を示すもので あり、特に、加工液補充のための自動給水機能を備えたもので、図において1は 汚水槽、2は汚水槽に設けたポンプA、4は清水槽、3は清水槽に設けたフィル タ、5は前記清水槽に設けた加工液の比抵抗検出装置、8は前記比抵抗検出装置 により比抵抗を調整する純水装置、7は純水装置に加工液を供給するポンプC、 6はポンプCの制御をおこなう制御装置、9は機械本体に加工液を供給するため のポンプB、10は汚水槽の加工液量を目視により検出するフロート、11は前 記フロート10の動作により加工液を補充するためのバルブであり、12は機械 本体である。13は例えば、水道等の加工液供給源である。
【0003】 次に動作について説明する。図2に示すように、加工液中の加工屑の漉過につ いては、汚水槽1の加工液をポンプA2によりフィルタ3に供給し、清液槽4へ 加工液をろ過して供給する。また、高精度加工には不可欠な加工液の比抵抗制御 については、比抵抗検出装置5で検出された比抵抗値をあらかじめ設定された比 抵抗基準値と比較をおこない、比抵抗基準値以下であれば制御装置6が、ポンプ 7の起動、停止を行うことにより、純水装置8に加工液が流れ、加工液の比抵抗 を調整する。比抵抗を調整した加工液を機械本体12にポンプB9により供給し 、ワイヤ放電加工に寄与する。 機械本体12に供給された加工液は、加工屑と一緒に汚水槽1に戻されるが、 加工部において、加工時に発生する熱による蒸発や、あるいは加工液の飛散等に より、加工液が減少していく。そこで、フロート10を目視によって、加工液が 減少した分を水道など加工液供給源13から、手動操作にてバルブ11を操作し て汚水槽1に補充している。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
従来のワイヤ放電加工機用加工液供給装置は、以上のように構成されているの で、高精度加工における加工液の比抵抗基準値は、例えば超硬材は10万Ω以上 に設定してあるが、加工中の熱などにより加工液が減少する、加工液供給装置の 汚水槽に加工液温度を制御していない通常比抵抗値が1万Ω前後である水道水を 直接補充するは、あらかじめ設定した比抵抗値の加工液と加工液供給装置内で混 在し、また、加工液の温度により比抵抗値が変化してしまうので加工液供給装置 内のあらかじめ設定した比抵抗値と異なるため、加工中であれば、ワイヤ電極と 被加工物との間の放電ギャップが変化し、しいては、加工精度が悪化、最悪の場 合、ワイヤ電極の断線を引き起こし、加工が中断する等の課題があった。また、 ワイヤ放電加工機における高精度長時間連続無人運転を実現するための加工液自 動給水装置を構築する際における強い障害となっていた。
【0005】 この考案は上記のような課題を解決するためになされたもので、加工液が減少 した場合でも、高精度加工が維持できるワイヤ放電加工機用加工液供給装置を得 ることを目的とする。また、高精度加工におけるワイヤ放電加工機の長時間連続 無人運転を実現することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
加工液供給装置と新たな加工液を補充する加工液供給源と間に、液面検出器に より制御される給水手段と、加工液の比抵抗検出装置により制御される比抵抗制 御装置と給水される加工液温度を制御する加工液温度制御装置を備えたものであ る。
【0007】
【作用】
この考案においては、加工液が減少しても液面検出器により制御される給水手 段と、加工液の比抵抗検出装置により制御される比抵抗制御装置が、あらかじめ 設定された比抵抗値および清水槽の加工液温度値である加工液を加工液供給装置 に自動的に補充する。
【0008】
【実施例】
実施例1. 図1は、この考案の一実施例を示す構成図であり、1〜13は、従来装置と全 く同一のものである。14は加工液供給装置の加工液量を知る為の液面検出器、 15は、補充する加工液の比抵抗を調べる比抵抗検出装置、17は加工液供給装 置と加工液供給源13の間に設けられた給水手段、18は比抵抗検出装置15と 清水槽の比抵抗検出装置5によって検出された比抵抗値を比較して補充する加工 液の比抵抗値を制御する比抵抗制御装置、19は清水槽4の加工液温度を調べる 加工液温度検出装置、20は加工液温度検出装置19によって検出された加工液 温度と補充する加工液温度を比較して補充する加工液温度の制御をおこなう加工 液温度制御装置である。
【0009】 機械本体12に供給された加工液は、加工屑と一緒に汚水槽1に戻されるが、 加工部において、加工液の飛散や加工時に発生する熱により蒸発、加工液が、減 少していく、そこで、液面検出器14によって加工液供給装置の加工液量を供給 する必要があることを検知することによって、給水手段17を制御して加工液供 給源より比抵抗検出器15により制御される比抵抗制御装置18および加工液温 度検出装置19によって制御される加工液温度制御装置20を経て、加工液を加 工液供給装置に補充する。液面検出器14によって補充された加工液が一定量に 達した時、給水手段17を制御して加工液の補充を停止する。 あらかじめ設定された比抵抗基準値が高く(例えば、10万Ω)、加工液供給 源が水道などのように比抵抗値の低い(2万Ω程度)場合、比抵抗検出器15で 得た比抵抗値と比抵抗検出装置5で制御しているあらかじめ設定した比抵抗値と 異なるため、比抵抗制御装置18および加工液温度制御装置20が加工液供給源 より補充される加工液を加工液供給装置の比抵抗値および加工液温度と同じ値に なるように制御する。
【0010】 実施例2. 上記各実施例では、ワイヤ放電加工装置について図示説明したが、この考案は これに限定されるものでなく、不燃性型彫放電加工装置、電解加工装置等水を主 体とする加工液を使用した加工装置に適用される。
【0011】
【考案の効果】
以上のように、この考案によれば、加工液が減少した場合でも、加工を中断す ることなく、高精度加工が可能であり、また、高精度加工におけるワイヤ放電加 工機の長時間連続無人運転を実現できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この考案の一実施例を示す構成図である。
【図2】従来のワイヤ放電加工機用加工液供給装置の回
路図である。
【符号の説明】
13 加工液供給源 14 液面検出器 15 加工液の比抵抗検出装置 17 給水手段 18 比抵抗制御装置 19 加工液温度検出装置 20 加工液温度制御装置

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項1】 ワイヤ放電加工機用加工液供給装置にお
    いて、前記加工液供給装置内の液面を検出する液面検出
    器と、加工液の比抵抗検出装置と加工液温度検出装置を
    備え、前記加工液供給装置と新たな加工液を補充する加
    工液供給源との間に、前記液面検出器により制御される
    給水手段と、前記加工液の比抵抗検出装置により制御さ
    れる比抵抗制御装置および、加工液温度検出装置により
    制御される加工液温度制御装置を設けた事を特徴とする
    ワイヤ放電加工機用加工液供給装置。
JP826791U 1991-02-22 1991-02-22 ワイヤ放電加工機用加工液供給装置 Pending JPH052816U (ja)

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