JPH05281539A - 反射型液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

反射型液晶表示装置およびその製造方法

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JPH05281539A
JPH05281539A JP4083704A JP8370492A JPH05281539A JP H05281539 A JPH05281539 A JP H05281539A JP 4083704 A JP4083704 A JP 4083704A JP 8370492 A JP8370492 A JP 8370492A JP H05281539 A JPH05281539 A JP H05281539A
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display device
crystal display
light
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Akihiro Mochizuki
昭宏 望月
Shigeo Kasahara
滋雄 笠原
Katsusada Motoyoshi
勝貞 本吉
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 相転移型液晶を使用する反射型液晶表示装置
とその製造方法に関し、視野角を拡大することのできる
反射型液晶表示装置とその製造方法を提供することを目
的とする。 【構成】 液晶に与える電界に応じて該液晶が光の透過
状態と散乱状態との間で相変化する相転移型液晶を使用
した液晶表示装置であって、該液晶を通った光を反射す
る反射板を有し、該反射板の反射面は該光に対して散乱
効果を与えるように凹凸が設けられ、該液晶が光の透過
状態で出射光の視野角が20度以上あるように構成す
る。表面に凹凸を形成した押型を反射板用基板の表面に
押圧して該基板表面に光の散乱効果を与える凹凸を形成
した反射板を作成する工程と、所定の導電膜を形成した
二枚の透明基板で相転移型液晶を挟んだ液晶セルを作成
する工程と、前記凹凸を形成した面が光の反射面となる
ように反射型液晶表示装置を組み立てる工程とを有す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は反射型液晶表示装置及び
その製造方法に関し、特に相転移型液晶を使用する反射
型液晶表示装置とその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】オフィスオートメーションの進展に伴い
マンマシンインターフェースとしてのディスプレイ装置
が多用されてきており、とりわけ液晶表示装置(LC
D)はフラットパネルディスプレイとして広く用いられ
るようになった。LCDは低電圧で駆動できることと、
比較的大容量の表示が可能であることにより、オフィス
オートメーション用機器には不可欠なディスプレイ装置
となりつつある。
【0003】しかし、従来からあるTN(Twiste
d Nematic)型やSTN(Super−Twi
sted Nematic)型のLCDは原理的に光の
位相制御であるために画像表示のためには液晶セルの前
後に2枚の偏光フィルムが必要であった。したがって光
の利用率が悪くどうしても画面が暗くなったり、背景に
色付きが生じることなどがあった。
【0004】さらに、各画素に蓄積用キャパシタを設け
ても、同一パターン継続表示のためには一定時間毎に各
画素をリフレッシュする必要があり、大画面を構成しよ
うとすると、画素数に制限があった。
【0005】これに対して、発明者らはネマチック−コ
レステリック相転移型液晶(NCPT)を使用して偏光
フィルムを使用しない液晶表示装置を提案した(特公昭
62−34799号)。
【0006】相転移型液晶は、液晶に印加した電界に依
存してコレステリック相とネマティック相との間で相転
移して入射光に対し光散乱状態と光透過状態との間で選
択的に状態変化する。すなわち、ある強さを越える電界
が印加されると、図6(a)に示すように液晶60の分
子長軸が電界方向に平行に配列するネマチック相とな
る。
【0007】また、電界を印加しない状態では、図6
(b)に示すようにらせん構造コレステリック相とな
る。図にはコレステリック相として液晶分子配列の方向
がフォーカル・コニックとなる場合、すなわちらせん軸
の方向61がランダムで光軸がバラバラに配列したコレ
ステリック相を示した。図6(a)の状態で光は透過状
態となり、図6(b)の状態では光が散乱して白濁表示
となる。
【0008】このような相転移型液晶表示装置では表示
原理が液晶の透過モードと散乱モードを利用しているた
めに偏光フィルムが不要であり、光の利用効率が高いた
めに画面が明るい。
【0009】しかも透過モードではバックライトもしく
は周囲光のような光源の色になり、散乱モードでは紙の
色に近いいわゆるペーパーホワイトになるので、従来の
TN型やSTN型にはない紙に書いたような自然な表示
画像が得られる。
【0010】さらに、NCPT型液晶の印加電圧Vに対
する透過率Tの関係は、図6(C)に示すようにヒステ
リシス特性を示す。印加電圧をヒステリシスの中間値に
選択すると、同一印加電圧で液晶セルとしてオン状態お
よびオフ状態を選択的にとることができる。
【0011】すなわち、いわゆる2値安定のメモリ作用
があり、一回液晶セルを駆動すると、その状態が保持さ
れる。したがって、原理的には大画面の場合にも画素数
の制限を受けない。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかし、相転移型液晶
表示装置における透過−散乱モードの表示では、散乱モ
ードでの角度依存性が強いために直視型の表示装置では
視野角が狭いという問題がある。従って、相転移型液晶
表示装置では視野角を拡大することが強く求められてい
る。
【0013】相転移型液晶を使用する反射型液晶表示装
置の視野角は、液晶パネルの背面に設置する光反射板の
光反射特性に強く依存するものと考えられる。反射型液
晶表示装置の視野角は図7に示すような方法で評価され
る。
【0014】図7において光源71から所定の光を被測
定表示装置72のスクリーンに入射させ、反射光・散乱
光を角度(θ)可変の光検出器73で受光する。垂直入
射の場合は、光検出器73の光源71からの鉛直線に対
する角度θを変えながら反射光の強度を測定する。
【0015】斜め入射の場合は鏡面反射の方向からのず
れの角度をθとする。一般にθ=0°で反射光強度は最
大となり、θが大きくなるにつれ反射光強度が低下する
視野角特性が得られる。そして、θ=0°の時の反射光
強度の半分の強度になるθの角度をもって視野角と定義
する。
【0016】NCPTのコレステリック相における視野
角は、図5の●のプロットのカーブに見られるように1
0度程度しかない。特に大型画面においては、10度程
度の視野角では不十分であり、NCPTの利点を十分に
生かすことが難しい。
【0017】視野角を拡大するために、散乱反射面を用
いることが考えられるが、従来の反射型表示では偏光フ
ィルムと一体化したアルミ蒸着反射フィルムが市販さ
れ、用いられている。このような反射フィルムでは反射
方向がランダムであり、NCPTに対しては有効な反射
板とはなっていないようである。
【0018】本発明の目的は、視野角を拡大することの
できる反射型液晶表示装置とその製造方法を提供するこ
とにある。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明による反射型液晶
表示装置は、液晶に与える電界に応じて該液晶が光の透
過状態と散乱状態との間で相変化する相転移型液晶を使
用し、該液晶を通った光を反射する反射板を設け、該反
射板の反射面は該光に対して散乱効果を与えるように凹
凸が設けられ、出射光の視野角が20度以上にされてい
る。
【0020】好ましくは、該凹凸の平均深さが少なくと
も5μm〜50μmの範囲で選ばれるようにした。
【0021】また、本発明による反射型液晶表示装置の
製造方法は、凹凸を形成した押型を反射板用基板の表面
に押圧して該基板表面に光の散乱効果を与える凹凸を形
成したものを反射板とし、所定の導電膜を形成した二枚
の透明基板で相転移型液晶を挟んだ液晶セルを作成し、
該反射板の凹凸を形成した面が光の反射面となるように
反射型液晶表示装置を組み立てる。
【0022】
【作用】相転移型液晶の光の散乱は、図6(b)に示す
ようなコレステリック相液晶分子のらせん構造に基づく
散乱であるために、液晶はらせんピッチと同程度の散乱
ドメインを有している。
【0023】そこで、反射板として光の反射方向が液晶
分子のらせんピッチと同程度の周期で変化するような反
射面の凹凸構造を設けたものを用意すれば散乱強度およ
び散乱角を大きくとれるものと考えられる。
【0024】反射面に設けた凹凸により相転移型液晶の
散乱モードにおいて光が効果的に散乱されて散乱方向が
広がり、視野角が拡大する。
【0025】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例による
反射型液晶表示装置とその製造方法について説明する。
【0026】図2は反射型液晶表示装置に使用される表
面に凹凸を設けた反射板10の一部の拡大断面を模式的
に図示したものである。この凹凸構造は後に製造方法を
説明するが、きわめて簡便で効果的な方法で得られる。
【0027】一般にネマティック−コレステリック相転
移型液晶(NCPT)のコレステリック相におけるらせ
んピッチは1〜2μm程度であるため、凹凸の周期T
は、1〜2μm程度に形成すればよいが、反射板10の
反射面全面の凹凸の平均的な周期については少なくとも
1〜20μmの範囲で選ばれてよい。
【0028】凹凸の凹部と凸部の幅はそれぞれ1〜5μ
m程度がよい。周期として考えると、1〜10μm程度
が好ましい。また、凹凸の深さDについては反射板10
の反射面の全面の凹凸の平均として少なくとも5〜50
μmの範囲で選ばれてよい。好ましくは20〜40μm
である。たとえば、凹凸の周期の5倍程度がよい。
【0029】なお、凹凸の形状は図示のような幾何学的
な曲線や周期的な波状に限らず、他の曲線形状でも曲線
と直線の混在でもよい。周期的でも非周期的でもよい。
【0030】上記のような凹凸面を形成した反射板の凹
凸面に光を反射する材料、たとえばAl,Cr,Au,
Ag,CuおよびTiのような金属を蒸着して反射膜を
形成することにより効果的な散乱が得られる。
【0031】さらに、凹凸部の凹凸の中にさらに小さな
凹凸を設けた構造であれば散乱効果はより向上して散乱
強度が増し、よって視野角も拡大される。その場合は、
金属材の蒸着工程の後に化学的エッチング等により蒸着
膜表面をエッチングして凹凸の中にさらに微小な凹凸を
形成すればよい。
【0032】以上のように反射面に微小な凹凸を設けて
散乱モードでの散乱強度を増加すると反射強度も増加傾
向となる。ところで、透過モードでは反射率が高いと鏡
面に近くなってグレアが強くなり表示がギラつくので好
ましくない。従って、散乱モードでの散乱強度を高めつ
つ、かつ透過モードでの反射率を適度に押さえることが
望ましい。
【0033】その為には、反射面に反射率の高い領域と
比較的低い領域を散在させて全体として反射率を適度に
調整する。たとえば、反射面の全面積に対し、約50%
の面積で他の部分より反射率の低い領域を設ける。
【0034】たとえば、基板面積の約50%を分散状態
の高反射率膜で覆い、その上に全面を覆う低反射率膜を
設ける。これによって、透過モードでの画面のギラつき
を押さえコントラスト比を高くすることができる。
【0035】次に、反射型液晶表示装置の製造方法を説
明する。まず、640×400画素の表示容量を有する
単純マトリクス型のNCPT液晶セルを製作する。この
液晶セルの製作には公知の方法が採用できる。
【0036】たとえば、図1に示すように、液晶セル2
0は、2枚の透明ガラス基板21,22のそれぞれの表
面にITO等による透明導電膜23,24を所定の電極
パターンで形成し、さらに透明導電膜上に配向膜25,
26を形成した後、両基板間に図示しないスペーサを散
布して対向配置し、基板間にネマチック−コレステリッ
ク相転移型液晶27を注入した後、基板をシールして完
成する。
【0037】アクティブマトリックスタイプであれば、
一方の基板に画素駆動素子を形成する工程が含まれる。
また、画素間や画素電極の上にブラックマトリックス
(図示せず)やR(赤)、G(緑)、B(青)等のカラ
ーフィルタ層(図示せず)を形成する場合もある。反射
板10を液晶セル20の基板21と一体化してもよい。
【0038】次に、図2の反射板10の製造方法を説明
する。ポリアクリロニトリルの基板11の表面を洗浄し
て清浄にした後、図3に示すように回転するステンレス
製のローラ30を基板11の反射面とする面上に所定の
圧力を加えながら接触させて回転移動させる。
【0039】回転ローラ30の表面には微小な溝が多数
脈状に形成されており、その面を基板11が割れない程
度の圧力で基板11に押し付けることにより図1あるい
は図2に示すような断面の凹凸が基板11に形成され
る。
【0040】試作品の製造ではこの回転ローラ30は液
晶セルの基板に配向膜材料を塗布する際に用いられる金
型スタンパを流用した。配向膜材料は液体であるために
金型スタンパの表面には配向膜材料を保持するための微
小な溝が多数脈状に形成されている。
【0041】この金型スタンパ30のローラの幅は約1
00mmで、その直径は約10mmである。この金型ス
タンパ30で250×160mm2 の大きさの反射板基
板11の表面を繰り返しスタンプすることにより、凹凸
の周期が約3μm、一つの凹凸の幅が約10μm、凹凸
の深さが最大のもので約20μmの凹凸面が形成され
た。
【0042】以上のようにして凹凸を形成した反射板基
板11の凹凸面の上に図4(a)に示すような微小な小
孔42を多数ランダムな位置に形成したマスク41を配
置し、その上からAlを基板11上に約1μmの厚みで
蒸着して小孔42に対応するパターンのAl反射面43
を凹凸を設けた基板11の表面に多数形成した。
【0043】なお全小孔42の面積はマクス41の全面
積の約50%程度に選んだ。なお、図4(a),(b)
では理解を分かりやすくするために基板11の凹凸面は
凹凸の形状を図示していないことを断っておく。
【0044】その後、図4(b)に示すようにマスク4
1を取り除き、反射板基板11の反射面全体にAlより
も反射率の低い(黒っぽい)Crを約1000Åの厚み
で蒸着して反射面44を形成した。この厚さのCr膜は
入射光を部分的に透過させる。
【0045】したがって、図4(b)に示した反射面で
はAlとCrを蒸着した部分は光の反射率が高く、Cr
のみが蒸着した部分では反射率が低い。このため、透過
モードのときには全体としてグレアが抑制されてコント
ラストが向上する。
【0046】上記のように製造した反射板の反射面44
の表面にさらに塩酸あるいは硝酸のような酸を霧状にし
て全面に散布して表面を浸食した後、水洗、乾燥すれば
凹凸上にさらに微小な凹凸が形成されてより散乱強度が
増加した。
【0047】以上のようにして製造された反射板10を
図1に示すように反射面が表示面を向くように配置して
液晶セル20と結合して相転移液晶を使用した反射型液
晶表示装置を完成する。このようにして製造した反射型
液晶表示装置の散乱モードでの視野角特性を図7で示し
た方法で測定した結果を図5に示す。
【0048】図5の特性の縦軸は反射光の検出強度をθ
=0°の点で1となるように規格化した相対強度値を示
し、横軸は角度θを示す。
【0049】図5の特性で○でプロットした特性線は凹
凸を形成した面にAlとCrを蒸着した反射面を有する
反射型液晶表示装置のものであり、△でプロットした特
性線は凹凸を形成した面にAlとCrを蒸着してさらに
その表面を酸でエッチングした反射面を有する反射型液
晶表示装置のものである。また比較のために反射面に凹
凸形成を施さない反射板を用いた従来の反射型液晶表示
装置の特性を●でプロットした特性線で示した。
【0050】図5の視野角特性から明らかなように従来
の技術による表示装置ではθ=0°における相対強度が
半減する視野角は約10°付近であり、それに対して実
施例による表示装置ではθ=0°における相対強度が半
減する視野角度は約30度付近である。
【0051】従って、視野角で約3倍の拡大となり、反
射型液晶表示装置として優れた表示性能を持つことが判
明した。表面エッチを行なった場合は視野角はさらに拡
がっている。
【0052】このように、上述の構成によれば、容易に
従来の視野角の約2倍程度の視野角、すなわち、約20
度以上の視野角を得ることができる。また、反射率の比
較的低い金属膜を表層として用いることにより、グレア
を抑制した反射面を得ることができる。
【0053】なお、反射板基板の表面に凹凸を形成する
方法は、上記実施例のような金型スタンパによる方法以
外にも考えられる。たとえば、サンドブラスト法により
微粒子を基板の反射面とする面に強く吹き付けて所望の
凹凸面を形成する方法等がある。
【0054】なお、本発明は以上説明した実施例に限る
ものではなく、当業者であれば本明細書の開示に基づい
て様々な変更や改良が可能であろう。
【0055】
【発明の効果】本発明によれば、光の散乱が効果的に行
われるような凹凸面を反射板に設けたことによって、ペ
ーパーホワイトの表示が得られる相転移型液晶を使用す
る反射型液晶表示装置の散乱モードにおいて優れた散乱
強度が得られ、よって視野角が大きく向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例による反射型液晶表示装置の
断面図である。
【図2】 本発明の実施例による反射型液晶表示装置の
反射板の断面構造の拡大模式図である。
【図3】 本発明の実施例による反射型液晶表示装置の
反射板の製造方法を説明するための図である。
【図4】 本発明の実施例による反射型液晶表示装置の
反射板の製造方法の反射面の金属蒸着の方法を説明する
図である。
【図5】 本発明による反射型液晶表示装置と従来の技
術による反射型液晶表示装置との視野角特性を比較した
グラフである。
【図6】 コレステリック−ネマティック相転移型液晶
の透過−散乱動作を説明するための図である。
【図7】 視野角の測定方法を説明するための図であ
る。
【符号の説明】
10・・・・・・反射板 11・・・・・・基板 20・・・・・・液晶セル 21,22・・・透明ガラス基板 23,24・・・透明導電膜 25,26・・・配向膜 27・・・・・・相転移型液晶 30・・・・・・金型スタンパ 41・・・・・・マスク 42・・・・・・小孔 43・・・・・・Al蒸着面 44・・・・・・Cr蒸着面

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液晶に与える電界に応じて該液晶が光の
    透過状態と散乱状態との間で相変化する相転移型液晶
    (27)を使用した液晶表示装置であって、 該液晶(27)を通った光を反射する反射板(10)を
    有し、該反射板の反射面は該光に対して散乱効果を与え
    るように凹凸が設けられ、該液晶が光の透過状態で出射
    光の視野角が20度以上ある反射型液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 前記凹凸の平均深さが少なくとも5μm
    〜50μmの範囲で選ばれる請求項1記載の反射型液晶
    表示装置。
  3. 【請求項3】 液晶に与える電界に応じて該液晶が光の
    透過状態と散乱状態との間で相変化する相転移型液晶
    (27)を使用した液晶表示装置であって、 該液晶(27)を通った光を反射する反射板(10)を
    有し、前記反射板の反射面は基板上に光の反射率の高い
    金属面(43)を均等に部分的に形成し、その上に反射
    率の低い金属面(44)を全面に積層した面である反射
    型液晶表示装置。
  4. 【請求項4】 表面に凹凸を形成した押型(30)を反
    射板用基板(11)の表面に押圧して該基板(11)表
    面に光の散乱効果を与える凹凸を形成した反射板(1
    0)を作成する工程と、 所定の導電膜を形成した二枚の透明基板で相転移型液晶
    (27)を挟んだ液晶セル(20)を作成する工程と、 前記凹凸を形成した面が光の反射面となるように反射型
    液晶表示装置を組み立てる工程とを有する反射型液晶表
    示装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記凹凸を形成する工程は表面に凹凸を
    形成した回転ローラ(30)に圧力を与えながら前記基
    板(11)の表面上を回転移動させる工程を含む請求項
    4記載の反射型液晶表示装置の製造方法。
  6. 【請求項6】 前記反射板(10)の作成は前記凹凸を
    形成した面に金属材料を蒸着することを含む請求項4記
    載の反射型液晶表示装置の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記金属材料の蒸着は、光の反射率の高
    い金属材料(43)を部分的に蒸着する工程と、その上
    に光の反射率の低い金属材料(44)を蒸着する工程と
    を有する請求項6記載の反射型液晶表示装置の製造方
    法。
  8. 【請求項8】 前記反射板の金属蒸着表面に化学的エッ
    チングを行なう工程を有する請求項6ないし7記載の反
    射型液晶表示装置の製造方法。
  9. 【請求項9】 前記化学的エッチングは前記金属蒸着表
    面に霧状に酸を吹き付ける工程を含む請求項8記載の反
    射型液晶表示装置の製造方法。
  10. 【請求項10】 前記反射板の金属蒸着表面にサンドブ
    ラスト法によりさらに凹凸を設ける工程を有する請求項
    6ないし7記載の反射型液晶表示装置の製造方法。
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