JP2004126594A - 光学部材、これの製造方法及びこれを利用した液晶表示装置 - Google Patents

光学部材、これの製造方法及びこれを利用した液晶表示装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 低コストで製造できる光学部材を提供する。
【解決手段】 光学部材は光入射面115及び光入射面と向き合う光射出面116を有するベース本体を有する。ベース本体110の光射出面には第1樹脂層130が形成され、第1樹脂層には光射出面から射出された第1光150を拡散して第2光420を射出するための光拡散パターンが均一に形成される。この光拡散パターンは樹脂層が硬化する前に型により変形させることにより得られる。従って、光学部材の製造過程を大きく短縮させることができ、ビーズを使用しないことにより生産コストを大きく減少させることができる。
【選択図】   図6

Description

  本発明は光学部材、これの製造方法及びこれを利用した液晶表示装置に関するものであり、より詳細には、ディスプレー品質を向上させ、生産原価を減少させることができる光学部材、これの製造方法及びこれを利用した液晶表示装置に関するものである。
 一般に、液晶表示装置は液晶を利用して映像を表示する平板表示装置うちの一つである。
 液晶表示装置で使用される液晶は、電界により配列が変更される電気的特性及び液晶の配列により光透過度が変更される光学的特性を共に有する。
 液晶を利用してディスプレーを実施するためには、光を発生させる光供給モジュールと、光供給モジュールで発生した光を画像情報が含まれたイメージ光に変更させるディスプレーモジュールを含む。
 ここで、イメージ光の品質をさらに向上させるために、光供給モジュールとディスプレーモジュールの間には光供給モジュールから発生した光の光分布を変更させる光分布変更モジュールがさらに設けられる。光分布変更モジュールは光供給モジュールから発生した光の輝度分布を変更または輝度を増加させるために使用される。
 具体的に、光供給モジュールは導光板、拡散シート及びプリズムシートなどが使用される。
 導光板は光供給モジュールから発生した光の分布を面光源光学分布に近く変更させる。拡散シートは導光板の上面に配置され導光板から射出された光の輝度分布を均一に変更させる。プリズムシートは拡散シートの上面に配置され拡散シートから射出された光を集光して輝度を増加させる。
 導光板、拡散シート及びプリズムシートは各々固有の機能を実施するために全て重要であるが、特に、拡散シートは液晶表示装置のディスプレー品質に多くの影響を及ぼす。
 拡散シートは透明な基板にビーズを分布させて入射された光を散乱または拡散させる。
 しかし、ビーズは大きさが相当に微細であり、拡散シートに均一に分布させることが相当に困難である。ビーズが拡散シートに均一に分布されない場合、拡散シートから射出される光は均一でない輝度を有し、これによりディスプレー品質は大きく低下する。
 本発明の目的は、製作が簡単であり、非常に均一な光学分布を有する光を射出させる光学部材を提供することにある。
 本発明の他の目的は、光学部材の製造方法を提供することにある。
 また、本発明の目的は、光学部材を有する液晶表示装置を提供することにある。
 上述した目的を達成するための本発明による光学部材は、ベース本体及びベース本体と関連して形成される光拡散層を含む。ベース本体は、第1光が入射される光入射面及び前記光入射面と向き合って前記第1光が射出される光射出面を有し、光拡散層は、光射出面上に形成された第1樹脂層及び前記第1樹脂層上に形成され、光射出面から射出された前記第1光を拡散して第2光として射出するための光拡散パターンを含む。
 上述した目的を達成するための本発明による光学部材の製造方法は、第1樹脂層は第1光が入射される光入射面及び前記光入射面と向き合って前記第1光が射出される光射出面を有するベース本体の前記光射出面に形成する。光射出面から射出された前記第1光を拡散して第2光として射出するための光拡散パターンは、第1樹脂層上に形成され、望ましくは半球形状を有する。次いで、樹脂層は硬化工程を経て硬化される。
 上述した目的を達成するための本発明による液晶表示装置は、第1光を発生するための光供給モジュール、前記第1光を拡散して第2光として射出するための光学部材及び第2光を利用して画像を表示するための液晶表示パネルアセンブリを含む。
 前記光学部材は、第1光が入射される光入射面及び前記光入射面と向き合う光射出面を有するプレート形状のベース本体、前記光射出面に形成された第1樹脂層、及び前記第1樹脂層に形成され前記光射出面から射出された第1光を拡散して第2光として射出するための光拡散パターンを有する光拡散層を含む。また、液晶表示パネルアセンブリは第2光の進行経路に配置され前記第2光をイメージ情報が含まれたイメージ光に変更する。
 以下、図面を参照して本発明の望ましい一実施形態をより詳細に説明する。
 図1は本発明の一実施形態による光学部材の部分切開斜視図である。
 図1に示す光学部材100は不均一な光学分布で入射された光を均一な光学分布に変更させる役割を有する拡散シートである。
 これを具現するために、光学部材100はベース本体110及び光拡散層150を含む。
 ベース本体110は幅に比べて長さが長い直六面体プレート形状または直六面体シート形状に製作され、光透過率が高いポリエステル材質により製作される。
 図2は図1に示したベース本体の平面図である。図3は図1に示したベース本体の側面図である。
 図2及び図3に示すように、本発明の一実施形態によるベース本体110は第1側面111、第2側面112、第3側面113、第4側面114、光入射面115及び光射出面116を有する。
 具体的に、第1側面111及び第3側面113、第2側面112及び第4側面114は互いに向き合い、第1側面111乃至第4側面114は全て端部が互いに連結される。光入射面115及び光射出面116のエッジは第1側面111乃至第4側面114に連結され、光入射面115及び光射出面116は互いに向き合う。ベース本体110は光透過率が高いために、光入射面115に外部から入射する第1光510は光射出面116を通過してそのまま射出される。
 ベース本体110は第1光510を発生させる光源(図示せず)と密接な関係があり、光源との配置次第で形状が変化する可能性がある。特に、ベース本体110は光源で発生した熱により形状が変化する。光源で発生した熱はベース本体110にしわを発生させる。ベース本体110に発生したしわは液晶表示装置のディスプレー品質を大きく低下させる。
 図4は本発明の一実施形態によるベース本体と熱の関係を示すグラフである。
 図4のグラフはベース本体110を連続的に加熱したときに測定されたベース本体110の長さ変化及びベース本体110を連続的に冷却したときに測定されたベース本体110の長さ変化を示す。
 図4に示すように、ベース本体110をA温度からB温度まで加熱すると、ベース本体110はA温度及びB温度間で2次曲線をなす変化で膨張し、ベース本体110の膨張長さはB地点で最も大きい。一方、ベース本体110はB温度とC温度間では加熱温度が上昇されたにもかかわらず、むしろ収縮する。このようなベース本体110の膨張特性はベース本体110をなす物質の特性ためである。
 一方、C温度からベース本体110を連続的にA温度まで冷却すると、ベース本体110の長さは加熱する以前の長さと異なる長さを有する。加熱前及び加熱後ベース本体110の長さの差異は図4のグラフで参照符号Lで表示した。これはベース本体110に一定温度以上の熱を加えると、ベース本体110が弾性変形の限界を超えて永久変形を受けることを意味する。
 最近、液晶表示装置が大型化され、液晶表示装置の大型化によりランプの長さ及び光量が増加している。これにより、ランプから発生する熱量も増加するからベース本体110に頻繁にシートしわが発生している。
 図5は本発明の一実施形態により熱処理されたベース本体と熱の関係を示すグラフである。
 図5に示すように、熱処理されたベース本体110をA温度からC温度まで連続的に加熱した結果、熱処理されたベース本体110は温度に比例して膨張してC温度で最も多く膨張した。一方、熱処理されたベース本体110をC温度からA温度まで冷却した結果、熱処理されたベース本体110は元来の長さに復帰した。即ち、熱処理されたベース本体110は熱を加える前の長さ及び熱を加えた後、冷却した長さが実質的に同一であった。
 このように熱処理されたベース本体110はしわが発生しないために、しわによる液晶表示装置のディスプレー不良が発生しないという長所を有する。
 特に、ポリエステル材質により製作されたベース本体110は熱処理過程を経る場合、外部の熱、例えば、ランプから発生される熱などによるしわが発生しない。
 図1に示すように、光拡散層150は熱処理されたベース本体110上に形成される。
 図6は図1に示した光学部材をA−Aに沿って示した断面図である。図7は図6のB領域の拡大図である。
 図6及び図7に示すように、前記光拡散層150はベース本体110の光射出面116上に形成される。
 前記光拡散層150は第1樹脂層130及び光拡散パターン135により構成される。
 第1樹脂層130は硬化性物質により製作される。硬化性物質としては時間が経過するに従い、徐々に硬化される物質または特定条件により急激に硬化される物質が使用されることができる。
 本発明の望ましい一実施形態において、第1樹脂層130は特定条件により急激に硬化される。即ち、第1樹脂層130は紫外線への露出により硬化され、これを具現するために第1樹脂層130は紫外線硬化物質を含む。
 また、本発明の望ましい一実施形態で、第1樹脂層130の膨張率及び収縮率は前述した熱処理されたベース本体110の膨張率及び収縮率と実質的に同一であるようにすることが望ましい。万一、第1樹脂層130の膨張率及び収縮率がベース本体110の膨張率及び収縮率と異なると、前記ベース本体110が外部から熱、例えばランプから発生される熱などにより膨張または収縮される過程でベース本体110に取り付けられた第1樹脂層130が裂けたり、クラックが発生したりする可能性がある。
 図8は本発明の一実施形態による光拡散パターンを示した走査電子顕微鏡(Scanning-Electron-Microscopy:SEM)写真である。
 図8に示すように、光拡散パターン135は第1樹脂層130の表面に形成される。本発明の一実施形態で、光拡散パターン135はスタンプ(型を用いた押圧)方式により第1樹脂層130に形成される。
 光拡散パターン135は第1樹脂層130の表面にほぼ均一な大きさで形成された半球の形状を有する。ベース本体110に入射され射出された第1光510はベース本体110を通過した後、半球形状を有する光拡散パターン135に到達する。第1光510は光拡散パターン135の球面を通過する際、拡散または散乱される。以下、光拡散パターン135を通過する際、拡散または散乱された光を第2光420と称する。
 本実施形態で光拡散パターン135がスタンプ方式で形成されることを考慮する時、スタンプの形状を変更することにより光拡散パターン135の形状は半球形状以外に多様な形状、例えば、凸部として形成される角錐形状、凹部として形成される半球形状または角錐形状にも製作可能である。
 また、図7に示すように、ベース本体110の光入射面115には密着防止層140がさらに形成されることができる。密着防止層140は他の部材、例えば、導光板(図示せず)などに光学部材100が密着することを防止する。
 密着防止層140は第2樹脂層142及び光学部材100の密着を防止するための突起144により構成される。
 第2樹脂層142は硬化性物質により製作される。第2樹脂層142は時間が経過するに従い硬化される物質または特定条件により硬化される物質を含む。本実施形態では第2樹脂層142をなす硬化性物質には特定条件、例えば、紫外線に対する露出により硬化される硬化物質が含まれる。
 ここで、第2樹脂層142の膨張率及び収縮率はベース本体110の膨張率及び収縮率と実質的に同一であるようにすることが望ましい。これは、第2樹脂層142の膨張率及び収縮率がベース本体110の膨張率及び収縮率と異なる場合、ベース本体110が外部の熱、例えば、ランプから発生される熱により膨張されたり、膨張後に冷却される過程でベース本体110に取り付けられた第2樹脂層142が破損されたり、クラックが発生したりする可能性があるためである。
 また、第2樹脂層142の膨張率及び収縮率は第1樹脂層130の膨張率及び収縮率とも実質的に同一であるようにすることが望ましい。第1樹脂層130及び第2樹脂層142の膨張率及び収縮率が相異する場合、ベース本体110が膨張されたり、収縮される時、ベース本体110は第1樹脂層130及び第2樹脂層142の膨張率及び収縮率の差異によりいずれか一側に曲がる。
 一方、突起144はマトリックス状に第2樹脂層142の表面に複数個が形成される。突起144は第2樹脂層142の表面から突出して形成される。突起144は第2樹脂層142がまだ流動性を有する間にスタンプ方式で形成されるために、半球形状、角錐形状など多様な形状を有するように製作可能である。
 このような構成を有する光学部材は製造工程が非常に簡単であり、光拡散パターンを相当に均一な大きさ及び所望である形状で形成することができるという長所を有する。
 以下、図面を参照して本発明の一実施形態による光学部材の製造方法を説明する。
 図9乃至図12は本発明の一実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。
 図9は本発明の一実施形態によりベース本体を熱処理することを示す工程図である。
 図9に示すように、ベース本体110をなす物質に第1樹脂層が塗布される以前にベース本体110は熱処理される。ベース本体110の熱処理は熱によるベース本体110の膨張率及び冷却による収縮率が相異する場合にのみ選択的に実施される。この熱処理は、樹脂材料を予め一度加熱することにより、その後の加熱、冷却の間の変形量を最小にするものである。
 図10は、ベース本体に第1樹脂層を形成することを示す工程図である。
 図10に示すように、ベース本体110の表面には第1樹脂層130が薄膜形態で形成される。本発明の望ましい一実施形態において、第1樹脂層130はベース本体110の光射出面116に形成される。第1樹脂層130には紫外線への露出により硬化される硬化物質が含まれる。
 図11は本実施形態により第1樹脂層に光拡散パターンを形成することを示す工程図である。
 図11に示すように、第1樹脂層130には凹状の半球形状の転写パターン365が形成された転写ローラー370が密着される。転写ローラー370は第1樹脂層130の一端部から他の一端部側に回転しながら移送され、第1樹脂層130には光拡散パターン135が形成される。転写ローラー370により第1樹脂層130に光拡散パターン135が形成された後、光拡散パターン135には紫外線が照射され第1樹脂層130及び光拡散パターン135は硬化される。
 図12はベース本体110の光入射面に形成された第2樹脂層に突起が形成されることを示す工程図である。
 図12に示すように、第1樹脂層130に光拡散パターン135を形成して硬化させた後、ベース本体110の光入射面115には第2樹脂層140が塗布される。第2樹脂層140は紫外線に対する露出により硬化される硬化物質を含む。第2樹脂層140には突起144と反対の形状を有する転写パターン385が形成された転写ローラー380が密着される。転写ローラー380が第2樹脂層140の一端部から他の一端部に回転される間に、第2樹脂層140にはベース本体110と導光板(図示せず)との密着を防止するための突起144が形成される。第2樹脂層140及び突起144は紫外線への露出により全て硬化される。
 図13乃至図15は本発明の他の実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。
 図13はベース本体に第1樹脂層及び第2樹脂層を同時に形成した工程図である。
 図13に示すように、ベース本体110の光射出面116には第1樹脂層130が薄い厚さで塗布され、ベース本体110の光入射面115には第2樹脂層140が薄い厚さで塗布される。
 第1樹脂層130及び第2樹脂層140は特定条件により硬化される硬化物質を含む。具体的に、第1樹脂層130及び第2樹脂層140は紫外線に対する露出により硬化される硬化物質を含む。
 図14は第1及び第2樹脂層に光拡散パターン及び突起を各々同時に形成することを示す工程図である。図15は光拡散パターン及び密着防止突起が形成された光学部材を示す概念図である。
 図14及び図15に示すように、ベース本体110に形成された第1樹脂層130及び第2樹脂層140には各々第1転写ローラー370及び第2転写ローラー380が密着して位置合わせされる。
 前記第1転写ローラー370にはローラの表面に凹部の半球形状の転写パターン365が稠密に形成されている。また、前記第2転写ローラー380にはローラの表面に互いに所定間隔に離隔された凹部の半球形状の転写パターン385が形成されてる。
ここで、第1転写ローラー370及び第2転写ローラー380はベース本体110の上部及び下部に各々前記第1樹脂層130及び第2樹脂層140に密着して配置される。
 続いて、前記第1転写ローラー370及び第2転写ローラー380が回転しながらベース本体110の一端部から他の一端部に移送され第1樹脂層130及び第2樹脂層140の表面には各々光拡散パターン135及び突起144が形成される。代替的に、光拡散パターン135及び突起144は前記ベース本体110が前記第1転写ローラー370及び第2転写ローラー380の間を通過するように移送されることにより形成されるようにもできる。
 第1樹脂層130に光拡散パターン135を形成し、第2樹脂層140に突起144が形成された後、光拡散パターン135及び第2樹脂層140には紫外線が照射され、第1樹脂層130及び光拡散パターン135、また、第2樹脂層140は硬化される。
 以下、本発明による光学部材の製造方法を具現するための転写ローラを製作する実施形態を図面を参照して説明する。
 図16乃至図20は本発明の一実施形態による転写ローラの製作方法を示す図面である。
 図16に示すように、第1基板300にはスピンコーティングなどの方法により第1フォトレジスト薄膜310が塗布される。
 続いて、第1フォトレジスト薄膜310の上面にはパターンマスク330が整合させられる。パターンマスク330は光拡散パターンが形成される位置に開口334が形成されたクロム薄膜332を有する。
 パターンマスク330が第1基板300に整合させられた状態でパターンマスク330の上面には第1フォトレジスト薄膜310に向かう方向に光が供給される。
 前記パターンマスク330に供給された光は開口334を通じて第1フォトレジスト薄膜310に供給され第1フォトレジスト薄膜310を部分的に露光させる。
 図17に示すように、パターンマスク330から供給された光に露出された第1フォトレジスト薄膜310の一部は現像工程を通じて除去され、前記光拡散パターン135と同一の大きさ及び形態を有する第1パターン315を有する第2フォトレジスト薄膜317が形成される。
 図18に示すように、第1パターン315が形成された第2フォトレジスト薄膜317の上面にはスパッタリングなどの方法により金属層340が形成される。この金属層340には第2フォトレジスト薄膜317に形成された第1パターン315により光拡散パターン135と同一な形状を有する第2パターン345が形成される。
 前記金属層340は厚さが非常に薄くて、形状変形などが発生する可能性があるので、金属層340を利用して可撓性の合成樹脂材質により転写ローラが製作される。
 これを具現するために金属層340の下部に形成された第2フォトレジスト薄膜317はアッシング(ashing)工程などを通じて除去され、これにより金属層340は第1フォトレジスト薄膜317から分離される。
 図19に示すように、分離された金属層340は第2基板350に取り付けられる。ここで、第2基板350には金属層340の第2パターン345が上部に向かうように取り付けられる。
 続いて、金属層340の上面には図19に示したように、溶融された合成樹脂が塗布され合成樹脂層360が形成される。ここで、合成樹脂層360は金属層340の第2パターン345との間に空き空間がないように緻密に注入されるようにすることが望ましい。
 これにより、合成樹脂層360の表面には光拡散パターン135と反対の形状を有する第3パターン365が形成される。以下、第3パターンを転写パターンと称する。
 図20に示すように、図6に示した光拡散パターン135と反対の形状を有する転写パターン365が形成された合成樹脂層360は転写ローラー370の外周面に取り付けられる。
 このような過程を経て製作された転写ローラー370の外周面に取り付けられた転写パターン365により第1樹脂層130に転写された光拡散パターン135に紫外線が照射されると、第1樹脂層130及び光拡散パターン135が硬化される。
 図21は本発明の一実施形態による液晶表示装置の概念図である。
 図21に示すように、液晶表示装置700は全体的に光供給モジュール500、光学分布変更モジュール400及びディスプレーモジュール600により構成される。
 光供給モジュール500は映像をディスプレーするに必要である第1光510を発生させる。第1光510は主に冷陰極線管方式ランプにより発生される。前記光供給モジュール500は少なくとも一つの冷陰極線管方式ランプを使用することができ、大画面に光を供給するために、冷陰極線管方式ランプは複数個が並列方式に配置されることができる。
 光供給モジュール500で発生した第1光510は光分布変更モジュール400に印加される。
 光分布変更モジュール400は少なくも二つの光学部材100、200からなる。
 本発明の一実施形態として、符号100として図示された光学部材は第1光510を光学分布が均一である第2光420に変更する拡散シートである。光学部材100は前述した実施形態に示した光学部材100と同一の構成及び同一の製造方法により製造されるので、その詳細な説明は省略する。
 符号200で表示される光学部材は、第2光420の方向性を変更して第3光430を射出するためのプリズムシートである。第3光430はディスプレーモジュール600に入射される。
 ディスプレーモジュール600は入射された第3光430を画像情報が含まれたイメージ光610に変更する。
 このディスプレーモジュール600は代表的には液晶を利用して情報を表示する液晶表示パネルである。ここで、液晶表示パネルは液晶を利用して情報を表示するために多様な構成を有することができる。
 また、前記ディスプレーモジュール600は光供給モジュール500及び光分布変更モジュール400を通過した光を利用して、画像のディスプレーを実施する多様な手段を使用することができる。
 以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できるであろう。
 本発明によると、光分布が不均一な光は光拡散パターンにより光分分布が均一な光に変更される。従って、ディスプレー品質を向上させることができ、製造工程及び生産費用を大きく減少させることができる。
 また、光拡散パターンは硬化物質を利用して形成されるために、大きさ及び形態を設計により容易に変形することができ、製作再現性が極めて優れる。
 また、本発明による光学部材は高価なビーズを使用しないので、製作工程が単純であるだけでなく、生産費用を大きく減少させることができる。
本発明の一実施形態による光学部材の部分切開斜視図である。 図1に図示されたベース本体を示す平面図である。 図1に図示されたベース本体を示す正面図である。 図1に図示されたベース本体の熱特性を示すグラフである。 図1に図示されたベース本体の熱処理後の熱特性を示すグラフである。 図1に図示された光学部材をA−Aに沿って示した断面図である。 図6のB領域の拡大図である。 本発明の一実施形態による光拡散パターンを示したSEM写真である。 本発明の一実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。 本発明の一実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。 本発明の一実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。 本発明の一実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。 本発明の他の実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。 本発明の他の実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。 本発明の他の実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。 本発明の一実施形態による転写ローラの製作方法を示す図面である。 本発明の一実施形態による転写ローラの製作方法を示す図面である。 本発明の一実施形態による転写ローラの製作方法を示す図面である。 本発明の一実施形態による転写ローラの製作方法を示す図面である。 本発明の一実施形態による転写ローラの製作方法を示す図面である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示す概念図である。
符号の説明
100  光学部材
110  ベース本体
112  第2側面
113  第3側面
114  第4側面
115  光入射面
116  光射出面
130  第1樹脂層
135  光拡散パターン
142  第2樹脂層
144  突起
150  光拡散層
300  第1基板
310  第1フォトレジスト薄膜
315  第1パターン
330  パターンマスク
332  クロム薄膜
334  開口
340  金属層
345  第2パターン
350  第2基板
365  転写パターン
370  第1転写ローラー
510  第1光

Claims (21)

  1.  第1光が入射される光入射面及び前記光入射面と向き合って前記第1光が射出される光射出面を有するベース本体と、
     前記光射出面上に形成された第1樹脂層及び前記第1樹脂層上に形成され、前記光射出面から射出された前記第1光を拡散して第2光として射出するための光拡散パターンを有する光拡散層を含むことを特徴とする光学部材。
  2.  前記ベース本体はしわが発生しないように熱処理されることを特徴とする請求項1に記載の光学部材。
  3.  前記ベース本体は前記熱処理により、熱膨張率と冷却による収縮率が互いに実質的に同一であるように処理されていることを特徴とする請求項2に記載の光学部材。
  4.  前記第1樹脂層は紫外線に対する露出により硬化される硬化物質を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学部材。
  5.  前記ベース本体と前記第1樹脂層の熱膨張率及び収縮率は互いに同一であることを特徴とする請求項1に記載の光学部材。
  6.  前記第1樹脂層の上面に形成された前記光拡散パターンは半球形状を有することを特徴とする請求項1に記載の光学部材。
  7.  前記光入射面に形成された第2樹脂層及び前記第2樹脂層に形成され前記第2樹脂層と隣接する部材と密着されることを防止する突起を有する密着防止層をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の光学部材。
  8.  前記第2樹脂層は紫外線への露出により硬化される硬化物質を含むことを特徴とする請求項7に記載の光学部材。
  9.  前記ベース本体及び第2樹脂層は熱による膨張率と冷却による収縮率が互いに実質的に同一であることを特徴とする請求項7に記載の光学部材。
  10.  第1光が入射される光入射面及び前記光入射面と向き合って前記第1光が射出される光射出面を有するベース本体の前記光射出面に第1樹脂層を形成する段階と、
     前記第1樹脂層に前記光射出面から射出された前記第1光を拡散して第2光として射出するための光拡散パターンを形成する段階と、
     前記第1樹脂層を硬化させる段階とを含むことを特徴とする光学部材の製造方法。
  11.  前記光拡散パターンは半球形状の光拡散パターンであることを特徴とする請求項10に記載の光学部材の製造方法。
  12. 前記ベース本体に前記第1樹脂層を形成する段階以前に、前記ベース本体の熱膨張及び収縮によるしわを防止するために前記ベース本体を熱処理する段階をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載の光学部材の製造方法。
  13.  前記光拡散パターンを形成する段階は、前記光拡散パターンと逆の形態を有する逆形状パターンが表面に形成されたローラを前記第1樹脂層に沿って移送させ、前記第1樹脂層に前記光拡散パターンを転写する段階を含むことを特徴とする請求項10に記載の光学部材の製造方法。
  14.  前記光拡散パターンが形成された前記第1樹脂層を硬化する段階は、前記第1樹脂層に紫外線を照射する段階を含むことを特徴とする請求項10に記載の光学部材の製造方法。
  15.  前記第1樹脂層を硬化する段階以降に、
     前記光入射面に第2樹脂層を形成する段階と、
     前記第2樹脂層に前記第2樹脂層から突出される突起を形成する段階と、
     前記第2樹脂層を硬化する段階をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載の光学部材の製造方法。
  16.  前記第2樹脂層を硬化する段階は、前記第2樹脂層に紫外線を照射する段階を含むことを特徴とする請求項15に記載の光学部材の製造方法。
  17.  光入射面を通じて入射された第1光を拡散して光射出面を通じて第2光を射出するベース本体を有する光学部材において、
     前記光射出面に第1硬化性樹脂層を形成する段階と、
     前記光入射面に第2硬化性樹脂層を形成する段階と、
     前記第1硬化性樹脂層に前記光射出面から射出された前記第1光を拡散して第2光として射出するための光拡散パターンを形成する段階と、
     前記第2硬化性樹脂層から前記第2樹脂層と隣接する部材と密着されることを防止するための突起を形成する段階と、
     前記第1硬化性樹脂層及び前記第2硬化性樹脂層を硬化させる段階とを含むことを特徴とする光学部材の製造方法。
  18.  前記光拡散パターンは半球形状の光拡散パターンであることを特徴とする請求項17に記載の光学部材の製造方法。   
  19.  前記第1硬化性樹脂層及び第2硬化性樹脂層を形成する段階以前に、前記ベース本体の膨張及び収縮によるしわを防止するために前記ベース本体を熱処理する段階をさらに含むことを特徴とする請求項17に記載の光学部材の製造方法。
  20.  第1光を発生するための光供給モジュールと、
     前記第1光が入射される光入射面及び前記光入射面と向き合う光射出面を有するプレート形状のベース本体、前記光射出面に形成された第1樹脂層、及び前記第1樹脂層に形成され前記光射出面から射出された第1光を拡散して第2光として射出するための光拡散パターンを有する光拡散層を含む光学部材と、
     前記第2光の進行経路に配置され前記第2光をイメージ情報が含まれたイメージ光に変更させる液晶表示パネルアセンブリとを含むことを特徴とする液晶表示装置。
  21.  前記光入射面に形成される第2樹脂層及び前記第2樹脂層の表面から突出され前記光供給モジュールと密着されることを防止する突起を有する密着防止層をさらに含むことを特徴とする請求項20に記載の液晶表示装置。

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