JPH0527470Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、移動テーブル上に載置したタイル
を、複数個の施釉ステーシヨン間で自由に往復移
動させて、所望する多層構造の釉薬層を形成する
ようにした施釉装置に関するものである。

〔従来の技術〕

通常、タイル等の施釉ラインにあつては、Ｖベ
ルトや平ベルト等の搬送装置の一方側から他方側
へ向けてタイルを搬送し、その途中に配設した施
釉ステーシヨンにおいて、タイル素地表面ヘスプ
レー掛けや幕掛け方式により釉薬を塗布してい
る。すなわち、従来の施釉ラインは、一方通行方
式で施釉している。

〔考案が解決しようとする課題〕 ところが、前記施釉ラインにあつては、釉薬層
を多層構造にしようとすると、直線状に連続して
施釉ステーシヨンを増設する必要があり、施釉ラ
インの全長が極めて長くなり過ぎるという欠点が
あつた。またＶベルトや平ベルト等の搬送方式で
は、300mm角以上の大型タイルを搬送すると、タ
イル自体の重量により、ベルトが上下方向に揺動
を繰り返し、その移動速度が部分的に不連続状に
変化して、いわゆるシヤクリ現象が発生し、タイ
ル素地表面への釉薬の塗布量にバラツキが生ずる
という欠点があつた。このような塗布量のバラツ
キがあると、平滑なタイル表面が得られず、また
均一な模様を得ることもできない。従つて、タイ
ルの製品価値を低下させるという欠点があつた。

〔課題を解決するための手段〕

本考案は、従来の前記課題に鑑みてこれを改良
除去したものであつて、複数個の施釉ステーシヨ
ン間を自由に往復移動して任意の釉薬層を得るよ
うにした施釉装置を提供せんとするものである。

而して、前記課題を解決するために本考案が採
用した手段は、施釉ラインの略々全長に亘つて立
設された架台と、タイルの載置部を有し前記架台
上に往復移動自在に架設された移動テーブルと、
前記架台の略々全長に亘つて固定設置されたラツ
クと、前記架台上の可逆回転可能なモーターに連
結され且つ前記ラツクに噛合するピニオンとより
成り、前記移動テーブルは施釉ラインの途中に設
けられた複数個の施釉ステーシヨン間を任意に往
復移動するものである。

〔作用〕

移動テーブルは、複数個の施釉ステーシヨン間
を自由に往復移動することが可能である。従つ
て、現に行おうとする多層施釉に必要な複数個の
各施釉ステーシヨンを任意に選択してこれらの間
で移動テーブルを往復移動させることにより、釉
薬層を多層構造にすることが容易であり、しかも
その場合の施釉ラインの全長を著しく短縮するこ
とが可能である。

〔実施例〕

以下に、本考案の装置を図面に示す実施例に基
づいて説明すると次の通りである。

第１図は本考案装置を適用してなるタイル製造
ラインの全体配置を示す平面図である。同図に示
す如く、このタイル製造ラインにあつては、プレ
ス成形機１の延長線上に、ローラーハースキルン
２を配設し、ローラーハースキルン２と平行に搬
送装置３及び施釉ライン４を連続して配設してい
る。そして、前記プレス成形機１及びローラーハ
ースキルン２の中間と、前記搬送装置３の一端側
との間にトラバーサ５を配設している。

この製造ライン全体の動きは、先ずプレス成形
機１で成形されたタイル６をトラバーサ５で搬送
装置３へ搬入している。搬入されたタイル６は、
搬送装置３の他端側へ搬送され、施釉ライン４の
移動テーブル７上へ移載される。そして、各施釉
ステーシヨンＡ，Ｂ，Ｃ間を任意に往復移動し、
タイル素地表面へ所望する多層構造の釉薬層を形
成している。施釉が完了すると、タイル６は移動
テーブル７から搬送装置３へ供給され、トラバー
サ５によつてローラーハースキルン２の入口側へ
供給される。然る後は、ローラーハースキルン２
内を通過することにより、所定の焼成が行われ、
多層構造の釉薬層を有する製品としてのタイルが
得られる。

このように、本実施例にあつては、施釉ライン
４において、複数個の施釉ステーシヨンＡ，Ｂ，
Ｃ間でこれらを適宜選択して移動テーブル７を任
意に往復移動させ、多層構造の釉薬層を形成する
ようにしている。移動テーブル７は、第２図に示
すように、施釉ライン４のほぼ全長に亘つて連続
して設けられた架台８の側面に固定設置された上
下の案内レール９，９に、ローラー１０，１０を
介して摺動自在に取り付けられている。そして、
移動テーブル７に取り付けられたモーター１１の
ピニオン１２を、前記架台８の上端側面に固定設
置したラツク１３へ噛合させている。従つて、モ
ーター１１を駆動させることにより、ラツク１３
上をピニオン１２が回転移動するようになり、上
下の案内レール９，９に沿つて移動テーブル７を
移動させることが可能である。この移動テーブル
７は、その上面側にタイル６を載置するためのア
ーム１４が枠組み形成されている。

ところで、施釉ライン４の途中に設置された施
釉ステーシヨンＡには、第３図及び第４図に示す
ような施釉ブース１５が設けられている。施釉ブ
ース１５内には、釉薬又は水等を噴出するスプレ
ー装置１６が設置されている。また施釉ステーシ
ヨンＢ及びＣには、第５図乃至第７図に示す幕掛
け装置１７，１７が設置されている。この幕掛け
装置１７，１７は、下面側にスリツト１８の形成
された容器１９を有し、この容器１９の下方側に
所定間隔を置いて、前記スリツト１８から幕状に
流出する釉薬を回収するためのパン２０が設置さ
れている。而して、前記容器１９とパン２０と
は、回動自在なポスト２１に取り付けられてい
る。モーター２２を駆動させると、ピニオン２３
及びギヤ２４を介して前記ポスト２１が回動する
ようになつている。前記移動テーブル７は、この
幕掛け装置１７，１７の容器１９及びパン２０
が、第７図に示す施釉を行う状態において、容器
１９及びパン２０の間を通過するようになつてい
る。

而して、このように構成された施釉ライン４に
あつて、移動テーブル７のアーム１４上にセツタ
ー（敷台）を介して載置されたタイル６の施釉要
領を説明する。先ず、移動テーブル７上のモータ
ー１１を駆動させ、ピニオン１２を回転させて移
動テーブル７を施釉ステーシヨンＡの施釉ブース
１５内へ移動させて停止する。そして、この状態
でスプレー装置１６により、タイル６の表面へ水
を塗布し、タイル６の水分調整を行う。これは釉
薬を塗布した場合に、水分がタイル６の全体にわ
たつて均一に浸透するようにし、釉薬の乾燥ムラ
をなくすためのものである。

然る後は、再びモーター１１を駆動させ、施釉
ステーシヨンＢ側へ移動テーブル７を移動させ
て、幕掛け装置１７を通過させる。これにより、
移動テーブル７のアーム１４上へ載置されたタイ
ル６が幕掛け装置１７の容器１９とパン２０との
間を通過し、容器１９のスリツト１８から連続し
て幕状に垂れ落ちる釉薬がタイル６の表面へ塗布
される。そして、更に移動テーブル７が同様にし
て施釉ステーシヨンＣの幕掛け装置１７を通過す
ることにより、別途釉薬が塗布される。

次に、モーター１１を今までとは反対方向へ駆
動させることにより、前記移動テーブル７は施釉
ステーシヨンＣから、施釉ステーシヨンＢを通つ
て施釉ステーシヨンＡの施釉ブース１５に至るよ
うになる。その場合に、施釉ステーシヨンＢ及び
Ｃの幕掛け装置１７を、例えば第５図及び第６図
に示す如く、移動テーブル７の通過する軌跡範囲
から逸脱させておくことにより、幕掛け装置１７
による同一種類の釉薬が重ねてタイル６上へ塗布
されることはない。もちろん、逆に同一種類の釉
薬を重ねて塗布するようにすることも可能であ
る。例えば、施釉ステーシヨンＢ及びＣの釉薬を
異なる種類に設定し、常に各幕掛け装置１７を第
７図に示すように移動テーブル７の移動軌跡範囲
内へ臨ませておき、移動テーブル７の往復移動に
伴つて、異なる種類の釉薬が交互に合計四層塗布
積層されるようにしてもよい。而して、移動テー
ブル７が復路において施釉ステーシヨンＡの施釉
ブース１５内へ至ると、モーター１１の駆動を解
除して移動テーブル７を停止させる。そして、今
度はスプレー装置１６から更に異なる種類の釉薬
をスプレー塗布する。これにより、少なくとも三
層の釉薬層を塗布形成することが可能である。

このように、施釉ステーシヨンＡ乃至Ｃ間で移
動テーブル７を往復移動させて、タイル６に釉薬
層を積層塗布することにより、従来の一方通行方
式の施釉ラインに比較してその全長を著しく短く
することが可能である。参考までに、三層の釉薬
層を塗布形成する場合、従来の施釉ラインは少な
くとも20ｍが必要であつたが、本考案装置を適用
してなる施釉ラインでは10ｍに短縮することが可
能である。

もちろん、必要であれば、移動テーブル７を施
釉ステーシヨンＡ乃至Ｃ間で、選択的且つ任意に
往復移動させ、所望する多層構造の釉薬層を塗布
形成するようにしてもよい。また、施釉ステーシ
ヨンの数をより多く設けるようにすることも可能
であり、その場合のスプレー装置や幕掛け装置等
の施釉器具も適宜選定することが可能である。

〔考案の効果〕

以上説明したように本考案にあつては、タイル
載置部を備えた移動テーブルを複数個の施釉ステ
ーシヨン間で自由に往復移動させ、適宜選択した
施釉ステーシヨンで所望する多層構造の釉薬層を
塗布形成することが可能である。このような施釉
方法であれば、従来の場合に比較して、施釉ライ
ンの全長を著しく短縮することが可能である。ま
たタイル載置部を備えた移動テーブルを往復移動
させる施釉ラインであるため、移動テーブルの搬
送路が撓むというようなことはなく、常に安定し
た速度での搬送が可能であり、釉薬層の厚みがバ
ラツクようなことはない。

【図面の簡単な説明】

図面はいずれも本考案に係るものであり、第１
図は本考案装置を適用してなるタイル製造ライン
の全体配置を示す平面図、第２図は移動テーブル
の縦断面正面図、第３図は施釉ブースの平面図、
第４図は同縦断面正面図、第５図は幕掛け装置の
平面図、第６図は同左側面図、第７図は同正面図
である。 ４……施釉ライン、７……移動テーブル、８…
…架台、９……案内レール、１０……ローラー、
１１……モーター、１２……ピニオン、１３……
ラツク、１４……タイル載置部、Ａ乃至Ｃ……施
釉ステーシヨン。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 施釉ラインの略々全長に亘つて立設された架台
   と、タイルの載置部を有し前記架台上に往復移動
   自在に架設された移動テーブルと、前記架台の
   略々全長に亘つて固定設置されたラツクと、前記
   架台上の可逆回転可能なモーターに連結され且つ
   前記ラツクに噛合するピニオンとより成り、前記
   移動テーブルは施釉ラインの途中に設けられた複
   数個の施釉ステーシヨン間を任意に往復移動する
   ものであることを特徴とするタイルの施釉装置。