JPH02184587A - タイルの施釉方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、移動テーブル上に載置したタイルを、複数個
の施釉ステーション間で自由に往復移動させて、所望す
る多層構造の釉薬層を形成するようにした施釉方法に関
するものである。

〔従来の技術〕

通常、タイル等の施釉ラインにあっては、Ｖベルトや平
ベルト等の搬送装置の一方側から他方側へ向けてタイル
を搬送し、その途中に配設した施釉ステーションにおい
て、タイル素地表面へスプレー掛けや幕掛は方式により
釉薬を塗布している。

すなわち、従来の施釉ラインは、一方通行方式で施釉し
ている。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、前記施釉ラインにあっては、釉薬層を多層構
造にしようとすると、直線状に連続して施釉ステーショ
ンを増設する必要があり、施釉ラインの全長が極めて長
くなり過ぎるという欠点があった。またＶベルトや平ベ
ルト等の搬送方式では、３００鰭角以上の大型タイルを
搬送すると、タイル自体のｍｌにより、ベルトが上下方
向に揺動を繰り返し、その移動速度が部分的に不連続状
に変化して、いわゆるシャクリ現象が発生し、タイル素
地表面への釉薬の塗布量にバラツキが生ずるという欠点
があった。このような塗布量のバラツキがあると、平滑
なタイル表面が得られず、また均一な模様を得ることも
できない、従って、タイルの製品価値を低下させるとい
う欠点があった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、従来の前記課題に鑑みてこれを改良除去した
ものであって、複数個の施釉ステーション間を自由に往
復移動して任意の釉薬層を得るようにした施釉方法を提
供せんとするものである。

而して、前記課題を解決するために本発明が採用した手
段は、施釉ラインに往復移動可能な移動テーブルを配設
すると共に、施釉ラインの途中数個所に複数個の施釉ス
テーションを設け、前記移動テーブルを各施釉ステーシ
ョン間で任意に往復移動させることで、移動テーブル上
に載置したタイルの表面に所望する多層構造の釉薬層を
塗布形成するようにしている。

〔作　用〕

移動テーブルは、複数個の施釉ステーション間を自由に
往復移動することが可能である。従って、任意に各施釉
ステーションを選択してこれらの間で移動テーブルを往
復移動させることにより、釉薬層を多層構造にすること
が容易であり、しかも七の場合の施釉ラインの全長を著
しく短縮することが可能である。

〔実施例〕

以下に、本発明の方法を図面に示す実施例に基づいて説
明すると次の通りである。

第１図は本発明方法を通用してなるタイル製造ラインの
全体配置を示す平面図である。同図に示す如く、このタ
イル製造ラインにあっては、プレス成形機１の延長線上
に、ローラーハースキルン２を配設し、ローラーハース
キルン２と平行に搬送装置３及び施釉ライン４を連続し
て配設している。そして、前記プレス成形機１及びロー
ラーハースキルン２の中間と、前記搬送装置３の一端側
との間にトラバーサ５を配設している。

この製造ライン全体の動きは、先ずプレス成形機ｌで成
形されたタイル６をトラバーサ５で■送装置ｆｆ１３へ
搬入している。搬入されたタイル６は、ＩＲ１送装置３
の他端側へＩＭ送され、施釉ライン４の移動テーブル７
上へ移載される。そして、各施釉ステーションＡ、Ｂ、
Ｃ間を任意に往復移動し、タイル素地表面へ所望する多
層構造の釉薬層を形成している。施釉が完了すると、タ
イル６は移動テーブル７から搬送装置３へ供給され、ト
ラバーサ５によってローラーハースキルン２の入口側へ
供給される。然る後は、ローラーハースキルン２内を通
過することにより、所定の焼成が行われ、多層構造の釉
薬層を有する製品としてのタイルが得られる。

このように、本実施例にあっては、施釉ライン４におい
て、複数個の施釉ステーションＡ、Ｂ。

０間でこれらを適宜選択して移動テーブル７を任意に往
復移動させ、多層構造の釉薬層を形成するようにしてい
る。移動テーブル７は、第２図に示すように、施釉ライ
ン４のほぼ全長に亘って連続して設けられた架台８の側
面に固定設置された上下の案内レール９．９に、ローラ
ーｔｏ、　ｉｏを介して摺動自在に取り付けられている
。そして、移動テーブル７に取り付けられたモーター１
１のピニオン１２を、前記架台８の上端面側に固定設置
したラック１３へ噛合させている。従って、モーター１
１を駆動させることにより、ラック１３上をピニオン１
２が回転移動するようになり、上下の案内レール９゜９
に沿って移動テーブル７を移動させることが可能である
。この移動テーブル７は、その上面側にタイル６を載置
するためのアーム１４が枠組み形成されている。

ところで、施釉ライン４の途中に設置された施釉ステー
ションＡには、第３図及び第４図に示すような施釉ブー
ス１５が設けられている。施釉ブース１５内には、釉薬
又は水等を噴出するスプレー装置１６が設置されている
。また施釉ステーションＢ及びＣには、第５図乃至第７
図に示ず幕掛は装置１７、１７が設置されている。この
幕掛は装置１７．１７は、下面側にスリッ目８の形成さ
れた容器１９を有し、この容器１９の下方側に所定間隔
を置いて、前記スリット１８から暮秋に流出する釉薬を
回収するためのパン２０が設置されている。而して、前
記容器１９とパン２０とは、回動自在なポスト２１に取
り付けられている。モーター２２を駆動させると、ピニ
オン２３及びギヤ２４を介して前記ボスｌ−２１が回動
ずるようになっている、前記移動テーブル７は、この幕
掛は装置１７．１７の容器１９及びパン２０が、第７図
に示す施釉を行う状態において、容器１９及びパン２０
の間を通過するようになっている。

而して、このように構成された施釉ライン４にあって、
移動テーブル７のアーム１４上にセッター（敷台）を介
して載置されたタイル６の施釉要領を説明する。先ず、
移動テーブル７上のモーター１１を駆動させ、ピニオン
１２を回転させて移動テーブル７を施釉ステーションＡ
の施釉ブース１５内へ移動させて停止する。そして、こ
の状態でスプレー装置１６により、タイル６０表面へ水
を塗布し、タイル６の水分聞整を行う、これは釉薬を塗
布した場合に、水分がタイル６の全体にわたって均一に
浸透するようにし、釉薬の乾燥ムラをなくすためのもの
である。

然る後は、再びモーター１１を駆動させ、施釉ステーシ
ョンＢ側へ移動テーブル７を移動させて、幕掛は装置１
７を通過させる。これにより、移動テーブル７のアーム
１４上へ載置されたタイル６が幕掛は装置１７の容器１
９とパン２０との間を通過し、容器１９のスリット１８
から連続して暮秋に垂れ落ちる釉薬がタイル６の表面へ
塗布される。そして、更に移動テーブル７が同様にして
施釉ステージ日ンＣの幕１１）け装置１７を通過するこ
とにより、別途釉薬が塗布される。

次に、モーター１１を今までとは反対方向へ駆動さ（る
ことにより、前記移動テーブル７は施釉ステーションＣ
から、Ｓ％釉ステーションＢを通って施釉ステーション
Ａの施釉ブース１５に至るようになる。その場合に、施
釉ステーションＢ及びＣの幕ｌｉｔけ装置１７を、例え
ば第５図及び第６図に示す如く、移動テーブル７の通過
する軌跡範囲から逸脱させておくことにより、幕掛は装
置１７による同一種類の釉薬が街ねてタイル６上へ塗布
されることはない、もちろん、逆に同一種類の釉薬を重
ねて塗布するようにすることも可能である０例えば、施
釉ステーションＢ及びＣの釉薬を異なる種類に設定し、
常に各幕掛は装置１７を第７図に示すように移動テーブ
ル７の移動軌跡範囲内へ臨ませておき、移動テーブル７
の往復移動に伴って、異なる種類の釉薬が交互に合計四
層塗布４１層されるようにしてもよい、而して、移動テ
ーブル７が復路において施釉ステーションＡの施釉ブー
ス１５内へ至ると、モーター１１の駆動を解除して移動
テーブル７を停止させる。そして、今度はスプレー装置
１６から更に異なる種類の釉薬をスプレー塗布する。

これにより、少なくとも三層の釉薬層を塗布形成するこ
とが可能である。

このように、施釉ステーションＡ乃至０間で移動テーブ
ル７を往復移動させて、タイル６に釉薬層を積層塗布す
ることにより、従来の一方通行方式の施釉ラインに比較
してその全長を著しく短くすることが可能である。参考
までに、三層の釉薬層を塗布形成する場合、従来の施釉
ラインは少なくとも２０ｍが必要であったが、本発明方
法を通用してなる施釉ラインでは１０ｍに短縮すること
が可能である。

もちろん、必要であれば、移動テーブル７を施釉ステー
ションＡ乃至０間で、選択的且つ任意に往復移動させ、
所望する多層構造の釉薬層を塗布形成するようにしても
よい、また、施釉ステーションの数をより多く設けるよ
うにすることも可能であり、その場合のスプレー装置や
幕掛は装置等の施釉器具も適宜選定することが可能であ
る。

（発明の効果〕 以上説明したように本発明にあっては、タイル載置部を
備えた移動テーブルを複数個の施釉ステーション間で自
由に往復移動させ、適宜選択した施釉ステーションで所
望する多層構造の釉薬層を塗布形成することが可能であ
る。このような施釉方法であれば、従来の場合に比較し
て、施釉ラインの全長を著しく短縮することが可能であ
る。またタイル載置部を備えた移動テーブルを往復移動
させる施釉ラインであるため、移動テーブルの搬送路が
撓むというようなことはなく、常に安定した速度での搬
送が可能であり、釉薬層の厚みがバラツクようなことは
ない。

【図面の簡単な説明】

図面はいずれも本発明に係るものであり、第１図は本発
明方法を通用してなるタイル製造ラインの全体配置を示
す平面図、第２図は移動テーブルの縦断面正面図、第３
図は施釉ブースの平面図、第４図は同縦断面正面図、第
５図は幕ｆＪＩけ装置の平面図、第６図は同左側面図、
第７図は同正面図である。 ４・・・施釉ライン　　　７・・・移動テーブルＡ乃至
Ｃ・・・施釉ステーション 特許出願人　　株式会社イナックス 代　理　人　　弁理士　内田敏彦 第 図 第 図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、施釉ラインに往復移動可能な移動テーブルを配設す
   ると共に、施釉ラインの途中数個所に複数個の施釉ステ
   ーションを設け、前記移動テーブルを各施釉ステーショ
   ン間で任意に往復移動させることで、移動テーブル上に
   載置したタイルの表面に所望する多層構造の釉薬層を塗
   布形成するようにしたことを特徴とするタイルの施釉方
   法。