JPH05274662A - チタン製磁気ディスク基板 - Google Patents
チタン製磁気ディスク基板Info
- Publication number
- JPH05274662A JPH05274662A JP4070911A JP7091192A JPH05274662A JP H05274662 A JPH05274662 A JP H05274662A JP 4070911 A JP4070911 A JP 4070911A JP 7091192 A JP7091192 A JP 7091192A JP H05274662 A JPH05274662 A JP H05274662A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- color difference
- max
- titanium
- missing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/26—Anodisation of refractory metals or alloys based thereon
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73917—Metallic substrates, i.e. elemental metal or metal alloy substrates
- G11B5/73919—Aluminium or titanium elemental or alloy substrates
Abstract
(57)【要約】
【目的】エラ−特性に優れたすなわちミッシングパルス
の発生が少ない磁気ディスクを得ることができるチタン
製磁気ディスク基板を提供することを目的とする。 【構成】陽極酸化処理された表面を有し、その表面に存
在する色彩差をＬ* ａ* ｂ* 表色系で｜Ｌ* MAX −Ｌ*
MIN ｜＋｜ａ* MAX −ａ* MIN ｜＋ ｜ｂ* MAX−ｂ*
MIN ｜（ただし、MAX は最大値を示し、MIN は最小値
を示す）と表した場合に、その色彩差の陽極酸化処理電
圧に対する比が０．３５以上であるチタン製磁気ディス
ク基板。
の発生が少ない磁気ディスクを得ることができるチタン
製磁気ディスク基板を提供することを目的とする。 【構成】陽極酸化処理された表面を有し、その表面に存
在する色彩差をＬ* ａ* ｂ* 表色系で｜Ｌ* MAX −Ｌ*
MIN ｜＋｜ａ* MAX −ａ* MIN ｜＋ ｜ｂ* MAX−ｂ*
MIN ｜（ただし、MAX は最大値を示し、MIN は最小値
を示す）と表した場合に、その色彩差の陽極酸化処理電
圧に対する比が０．３５以上であるチタン製磁気ディス
ク基板。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、高密度記録・再生用
の磁気ディスクに用いられるチタン製磁気ディスク基板
に関する。
の磁気ディスクに用いられるチタン製磁気ディスク基板
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気ディスクは大容量化、高記録
密度化が図られており、そのためにＳ／Ｎ化が高く、ミ
ッシングエラ−等の信号エラ−の少ない磁性膜を形成す
ることができる基板が望まれている。
密度化が図られており、そのためにＳ／Ｎ化が高く、ミ
ッシングエラ−等の信号エラ−の少ない磁性膜を形成す
ることができる基板が望まれている。
【０００３】磁気ディスク基板としては、従来よりアル
ミニウム合金が使用されているが、近時、これに代えて
磁気ディスク基板としてチタンを使用することが試みら
れている。これは、チタンが耐熱性の点でアルミニウム
合金より優れ、広範囲の磁性膜をスパッタリングにより
形成することが可能となり、磁性膜の特性向上が可能と
なるためである。
ミニウム合金が使用されているが、近時、これに代えて
磁気ディスク基板としてチタンを使用することが試みら
れている。これは、チタンが耐熱性の点でアルミニウム
合金より優れ、広範囲の磁性膜をスパッタリングにより
形成することが可能となり、磁性膜の特性向上が可能と
なるためである。
【０００４】しかし、磁気ディスク基板としてチタンを
使用した場合、信号エラ−（ミッシングパルス）が多発
するという現象が現われ、磁気ディスク基板としてチタ
ンを使用する場合の大きな制約となっている。
使用した場合、信号エラ−（ミッシングパルス）が多発
するという現象が現われ、磁気ディスク基板としてチタ
ンを使用する場合の大きな制約となっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、かかる事
情に鑑みてなされたものであって、エラ−特性に優れた
すなわちミッシングパルスの発生が少ない磁気ディスク
を得ることができるチタン製磁気ディスク基板を提供す
ることを目的とする。
情に鑑みてなされたものであって、エラ−特性に優れた
すなわちミッシングパルスの発生が少ない磁気ディスク
を得ることができるチタン製磁気ディスク基板を提供す
ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段及び作用】この発明は、上
記課題を解決するために、陽極酸化処理された表面を有
し、その表面に存在する色彩差をＬ* ａ* ｂ* 表色系で
｜Ｌ* MAX −Ｌ* MIN ｜＋｜ａ* MAX −ａ* MIN ｜＋｜
ｂ* MAX −ｂ* MIN ｜（ただし、MAX は最大値を示し、
MIN は最小値を示す）と表した場合に、その色彩差の陽
極酸化処理電圧に対する比が０．３５以上であることを
特徴とするチタン製磁気ディスク基板を提供する。
記課題を解決するために、陽極酸化処理された表面を有
し、その表面に存在する色彩差をＬ* ａ* ｂ* 表色系で
｜Ｌ* MAX −Ｌ* MIN ｜＋｜ａ* MAX −ａ* MIN ｜＋｜
ｂ* MAX −ｂ* MIN ｜（ただし、MAX は最大値を示し、
MIN は最小値を示す）と表した場合に、その色彩差の陽
極酸化処理電圧に対する比が０．３５以上であることを
特徴とするチタン製磁気ディスク基板を提供する。
【０００７】本願発明者らは、磁気ディスク基板として
チタンを用いた場合におけるエラ−特性（ミッシングパ
ルス）を改善するためにチタン製基板を用いた場合の記
録再生特性の挙動を細かく調査し、チタン製基板を用い
た磁気ディスクにおけるミッシングパルスがその表面の
結晶性に起因することを見出した。このような知見に基
づいて、本願発明者らは、先に、エラ−特性に優れた磁
気ディスクを得るために、チタン製基板表面に陽極酸化
処理膜を形成し、その上に磁性層を形成することを提案
した（特願平３−３０２０４５）。この技術はミッシン
グパルスの発生防止には極めて有効な方法であり、ディ
スクを３６００ｒｐｍで回転させ、６ＭＨｚの周波数で
記録・再生を行った場合、ミッシングパルスの発生が完
全に抑えられる。
チタンを用いた場合におけるエラ−特性（ミッシングパ
ルス）を改善するためにチタン製基板を用いた場合の記
録再生特性の挙動を細かく調査し、チタン製基板を用い
た磁気ディスクにおけるミッシングパルスがその表面の
結晶性に起因することを見出した。このような知見に基
づいて、本願発明者らは、先に、エラ−特性に優れた磁
気ディスクを得るために、チタン製基板表面に陽極酸化
処理膜を形成し、その上に磁性層を形成することを提案
した（特願平３−３０２０４５）。この技術はミッシン
グパルスの発生防止には極めて有効な方法であり、ディ
スクを３６００ｒｐｍで回転させ、６ＭＨｚの周波数で
記録・再生を行った場合、ミッシングパルスの発生が完
全に抑えられる。
【０００８】しかし、さらに磁気ディスクの高記録密度
化を図る場合、この技術によっても、完全にミッシング
パルスの発生を防止することが不可能であることが判明
した。
化を図る場合、この技術によっても、完全にミッシング
パルスの発生を防止することが不可能であることが判明
した。
【０００９】本願発明者らは、磁気ディスクを高記録密
度化した場合に、陽極酸化処理被膜を形成してもミッシ
ングパルスの発生を完全に防止できない原因を突き止め
るべくさらに検討を続けた結果、ミッシングパルスの発
生が陽極酸化処理による色彩差の程度と関係しているこ
とを見出した。そして、このミッシングパルスの発生頻
度と色彩差との関係は、陽極酸化処理電圧によって変化
し、色彩差の陽極酸化処理電圧に対する比が一定値以下
であればミッシングパルスの発生を防止することがで
き、エラー特性が極めて良好となることを新たに見出し
たのである。この発明は本願発明者らのこのような知見
に基づいてなされたものである。
度化した場合に、陽極酸化処理被膜を形成してもミッシ
ングパルスの発生を完全に防止できない原因を突き止め
るべくさらに検討を続けた結果、ミッシングパルスの発
生が陽極酸化処理による色彩差の程度と関係しているこ
とを見出した。そして、このミッシングパルスの発生頻
度と色彩差との関係は、陽極酸化処理電圧によって変化
し、色彩差の陽極酸化処理電圧に対する比が一定値以下
であればミッシングパルスの発生を防止することがで
き、エラー特性が極めて良好となることを新たに見出し
たのである。この発明は本願発明者らのこのような知見
に基づいてなされたものである。
【００１０】一般に、チタン材の陽極酸化処理では陽極
酸化処理電圧に応じて陽極酸化被膜の厚さが増大し、色
彩が変化することが知られている。しかし、陽極酸化処
理を施したチタン製磁気ディスク基板の表面を顕微鏡で
観察した結果、結晶粒に対応して色彩差が存在している
ことが判明した。
酸化処理電圧に応じて陽極酸化被膜の厚さが増大し、色
彩が変化することが知られている。しかし、陽極酸化処
理を施したチタン製磁気ディスク基板の表面を顕微鏡で
観察した結果、結晶粒に対応して色彩差が存在している
ことが判明した。
【００１１】このような色彩差が存在するのは、チタン
製磁気ディスク基板の鏡面研磨加工時に導入された表面
加工変質層が残存するためであると考えられる。すなわ
ち、このような表面加工変質層が残存している場合、後
工程で形成される陽極酸化処理が不均一となる結果、色
彩差が生じるのである。従って、このような色彩差は表
面加工変質層の残存の程度を示すこととなる。
製磁気ディスク基板の鏡面研磨加工時に導入された表面
加工変質層が残存するためであると考えられる。すなわ
ち、このような表面加工変質層が残存している場合、後
工程で形成される陽極酸化処理が不均一となる結果、色
彩差が生じるのである。従って、このような色彩差は表
面加工変質層の残存の程度を示すこととなる。
【００１２】一方、表面加工変質層は鏡面研磨加工時の
加工歪や欠陥を含んでおり、このような変質層の上に陽
極酸化処理被膜を形成するとその被膜は欠陥を含んだ不
均一なものとなってしまい、そのような変質層が残存し
ている磁気ディスク基板に磁性層を形成するとミッシン
グパルスが発生するのである。
加工歪や欠陥を含んでおり、このような変質層の上に陽
極酸化処理被膜を形成するとその被膜は欠陥を含んだ不
均一なものとなってしまい、そのような変質層が残存し
ている磁気ディスク基板に磁性層を形成するとミッシン
グパルスが発生するのである。
【００１３】従って、陽極酸化処理被膜表面に存在する
色彩差とミッシングパルス発生との間には相関があり、
その色彩差を小さくすればミッシングパルスの発生を防
止することができるのである。
色彩差とミッシングパルス発生との間には相関があり、
その色彩差を小さくすればミッシングパルスの発生を防
止することができるのである。
【００１４】また、このような色彩差とミッシングパル
スとの関係は、陽極酸化処理電圧によって異なり、同一
のミッシングパルス個数で比較した場合、陽極酸化処理
電圧が高いほど対応する色彩差が大きくなる。すなわ
ち、陽極酸化処理電圧が高いほど色彩差が生じやすく、
表面状態が同等で同一のミッシングパルス個数の場合で
も、陽極酸化処理電圧が高いほうが大きな色彩差となっ
て現れる。従って、この発明では陽極酸化処理電圧に対
する色彩差の比をとってこのような陽極酸化処理電圧の
影響を除いている。そして、その比の値を０．３５以下
にすることによりミッシングパルスの発生を実質的に防
止することができる。
スとの関係は、陽極酸化処理電圧によって異なり、同一
のミッシングパルス個数で比較した場合、陽極酸化処理
電圧が高いほど対応する色彩差が大きくなる。すなわ
ち、陽極酸化処理電圧が高いほど色彩差が生じやすく、
表面状態が同等で同一のミッシングパルス個数の場合で
も、陽極酸化処理電圧が高いほうが大きな色彩差となっ
て現れる。従って、この発明では陽極酸化処理電圧に対
する色彩差の比をとってこのような陽極酸化処理電圧の
影響を除いている。そして、その比の値を０．３５以下
にすることによりミッシングパルスの発生を実質的に防
止することができる。
【００１５】次にこの発明における色彩差について説明
する。この発明では色彩差をＬ* ａ* ｂ* 表色系（国際
照明委員会ではＣＩＥ１９７６（Ｌ* ａ* ｂ* ）色空間
と称する）で表現している。これは色彩を三次元的に数
値化して表現する手法であり、Ｌ* は明度を示し、ａ*
ｂ* は色相及び彩度を表わす色度を示す。そして、ａ*
及びｂ* は互いに直行する色の方向を示しており、ａ*
は赤−緑方向（＋ａ* が赤方向、−ａ* が緑方向）、ｂ*
は黄−青方向（＋ｂ* が黄方向、−ｂ* が青方向）を
表わす。実際の色彩差は一つの視野におけるＬ* 、
ａ* 、ｂ* それぞれの最大値と最小値との差の和、すな
わち｜Ｌ* MAX −Ｌ* MIN ｜＋｜ａ* MAX −ａ* MIN ｜
＋｜ｂ* MAX −ｂ* MIN ｜で表わす。実際には、例えば
倍率２００倍の反射顕微鏡でカラー撮影した顕微鏡写真
を色彩色度計で測定して求める。しかし、その方法は限
定されるものではなく、どのような手法を用いてもこれ
らの最大値と最小値との差の値はほぼ同等である。
する。この発明では色彩差をＬ* ａ* ｂ* 表色系（国際
照明委員会ではＣＩＥ１９７６（Ｌ* ａ* ｂ* ）色空間
と称する）で表現している。これは色彩を三次元的に数
値化して表現する手法であり、Ｌ* は明度を示し、ａ*
ｂ* は色相及び彩度を表わす色度を示す。そして、ａ*
及びｂ* は互いに直行する色の方向を示しており、ａ*
は赤−緑方向（＋ａ* が赤方向、−ａ* が緑方向）、ｂ*
は黄−青方向（＋ｂ* が黄方向、−ｂ* が青方向）を
表わす。実際の色彩差は一つの視野におけるＬ* 、
ａ* 、ｂ* それぞれの最大値と最小値との差の和、すな
わち｜Ｌ* MAX −Ｌ* MIN ｜＋｜ａ* MAX −ａ* MIN ｜
＋｜ｂ* MAX −ｂ* MIN ｜で表わす。実際には、例えば
倍率２００倍の反射顕微鏡でカラー撮影した顕微鏡写真
を色彩色度計で測定して求める。しかし、その方法は限
定されるものではなく、どのような手法を用いてもこれ
らの最大値と最小値との差の値はほぼ同等である。
【００１６】なお、この発明は純チタンに限らず、各種
チタン合金並びに純チタン又は各種チタン合金の表面に
表面硬化層を形成したものについて適用できることはい
うまでもない。
チタン合金並びに純チタン又は各種チタン合金の表面に
表面硬化層を形成したものについて適用できることはい
うまでもない。
【００１７】また、本発明は陽極酸化に生じる色彩差及
び陽極酸化処理電圧のみによって特定されるものであ
り、鏡面研磨の方法、陽極酸化前処理（例えば、電解エ
ッチング）などの条件に左右されない。
び陽極酸化処理電圧のみによって特定されるものであ
り、鏡面研磨の方法、陽極酸化前処理（例えば、電解エ
ッチング）などの条件に左右されない。
【００１８】
【実施例】以下、この発明の実施例について説明する。
【００１９】各種条件の鏡面研磨及び陽極酸化前処理を
施した板厚０．８９mmの２．５インチチタン製磁気ディ
スク基板素材（純チタン）に対して、種々の条件で陽極
酸化処理を施した。この陽極酸化処理においては電解液
として１．０体積％のリン酸水溶液を用い、陽極酸化処
理電圧を２０〜１６０Ｖまで変化させた。この際の陽極
酸化処理電圧と色彩との関係を図１に示す。この図から
明らかなように陽極酸化処理電圧に応じて色彩が変化す
ることが確認された。
施した板厚０．８９mmの２．５インチチタン製磁気ディ
スク基板素材（純チタン）に対して、種々の条件で陽極
酸化処理を施した。この陽極酸化処理においては電解液
として１．０体積％のリン酸水溶液を用い、陽極酸化処
理電圧を２０〜１６０Ｖまで変化させた。この際の陽極
酸化処理電圧と色彩との関係を図１に示す。この図から
明らかなように陽極酸化処理電圧に応じて色彩が変化す
ることが確認された。
【００２０】また、各ディスク基板の陽極酸化処理によ
る色彩差は、陽極酸化処理後の基板の表面を倍率２００
倍の反射顕微鏡でカラー撮影した写真を色彩色度計で１
５点ランダムに測定してその最大値及び最小値によって
求めた。この色彩差は上述のように｜Ｌ* MAX −Ｌ*
MIN ｜＋｜ａ* MAX −ａ* MIN ｜＋｜ｂ* MAX −ｂ*
MIN ｜で表わし、MAX は１５点のうち最大値を示し、M
IN は１５点のうち最小値を示す。各ディスク基板の陽
極酸化処理電圧（Ｖ）、色彩差（Δで示す）、及び色彩
差の陽極酸化処理電圧に対する比（Δ／Ｖで示す）を表
１、表２に示す。
る色彩差は、陽極酸化処理後の基板の表面を倍率２００
倍の反射顕微鏡でカラー撮影した写真を色彩色度計で１
５点ランダムに測定してその最大値及び最小値によって
求めた。この色彩差は上述のように｜Ｌ* MAX −Ｌ*
MIN ｜＋｜ａ* MAX −ａ* MIN ｜＋｜ｂ* MAX −ｂ*
MIN ｜で表わし、MAX は１５点のうち最大値を示し、M
IN は１５点のうち最小値を示す。各ディスク基板の陽
極酸化処理電圧（Ｖ）、色彩差（Δで示す）、及び色彩
差の陽極酸化処理電圧に対する比（Δ／Ｖで示す）を表
１、表２に示す。
【００２１】次にこれら種々の基板に対し、真空度１×
１０-3Torr、基板温度２５０℃の条件で１０〜１００ｎ
ｍのＣｒ系下地層及び厚さ６０ｎｍのＣｏ系磁性膜（Ｃ
ｏ(84)−Ｃｒ(14)−Ｔａ(2) ）をスパッタリングにより
順次形成し、さらにその上に厚さ３０ｎｍのカ−ボン保
護膜及びフレオン液体潤滑層を形成し、磁気ディスクを
作製した。
１０-3Torr、基板温度２５０℃の条件で１０〜１００ｎ
ｍのＣｒ系下地層及び厚さ６０ｎｍのＣｏ系磁性膜（Ｃ
ｏ(84)−Ｃｒ(14)−Ｔａ(2) ）をスパッタリングにより
順次形成し、さらにその上に厚さ３０ｎｍのカ−ボン保
護膜及びフレオン液体潤滑層を形成し、磁気ディスクを
作製した。
【００２２】これらの磁気ディスクについてミッシング
エラ−特性を評価した。ミッシングエラ−特性は、サ−
ティファイヤを用い、ミッシングパルスの発生の程度で
判定した。サ−ティファイヤでの磁気ディスクの回転数
は３６００rpm 、記録再生周波数は６ＭＨｚ及び８ＭＨ
ｚの２条件、磁気ヘッドの浮上量は０．０７５μｍとし
た。その結果を表１、表２に示す。なお、６ＭＨｚでは
全くミッシングパルスが発生しなかったので、８ＭＨｚ
での結果のみについて示す。
エラ−特性を評価した。ミッシングエラ−特性は、サ−
ティファイヤを用い、ミッシングパルスの発生の程度で
判定した。サ−ティファイヤでの磁気ディスクの回転数
は３６００rpm 、記録再生周波数は６ＭＨｚ及び８ＭＨ
ｚの２条件、磁気ヘッドの浮上量は０．０７５μｍとし
た。その結果を表１、表２に示す。なお、６ＭＨｚでは
全くミッシングパルスが発生しなかったので、８ＭＨｚ
での結果のみについて示す。
【００２３】
【表１】
【００２４】
【表２】 また、これらの結果を、色彩差／陽極酸化処理電圧（Δ
／Ｖ）とミッシングパルス個数との関係でまとめた結果
を図２に示す。
／Ｖ）とミッシングパルス個数との関係でまとめた結果
を図２に示す。
【００２５】表１、２及び図２から明らかなように、Δ
／Ｖの値が０．３５以下の場合に、鏡面研磨法及び陽極
酸化前処理方法によらず、いずれもミッシングパルスが
全く生じないことが確認された。これに対し、Δ／Ｖの
値が０．３５を超えるとミッシングパルスの発生が認め
られた。すなわち、Δ／Ｖの値が０．３５以下を満たし
ている限り、８ＭＨｚであってもミッシングパルスが発
生せず、エラー特性が極めて良好であることが確認され
た。
／Ｖの値が０．３５以下の場合に、鏡面研磨法及び陽極
酸化前処理方法によらず、いずれもミッシングパルスが
全く生じないことが確認された。これに対し、Δ／Ｖの
値が０．３５を超えるとミッシングパルスの発生が認め
られた。すなわち、Δ／Ｖの値が０．３５以下を満たし
ている限り、８ＭＨｚであってもミッシングパルスが発
生せず、エラー特性が極めて良好であることが確認され
た。
【００２６】
【発明の効果】この発明によれば、エラ−特性に優れ
た、すなわちミッシングパルスの発生が少ない磁気ディ
スクを得ることができるチタン製磁気ディスク基板が提
供される。このチタン製磁気ディスク基板は、高記録密
度の場合であっても、ミッシングパルスを確実に防止す
ることができる。
た、すなわちミッシングパルスの発生が少ない磁気ディ
スクを得ることができるチタン製磁気ディスク基板が提
供される。このチタン製磁気ディスク基板は、高記録密
度の場合であっても、ミッシングパルスを確実に防止す
ることができる。
【図１】陽極酸化処理電圧と陽極酸化処理膜表面の色彩
との関係を示すグラフ。
との関係を示すグラフ。
【図２】色彩差／陽極酸化処理電圧（Δ／Ｖ）とミッシ
ングパルス個数との関係を示すグラフ。
ングパルス個数との関係を示すグラフ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森田 健治 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 大村 雅紀 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 井田 巌 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 永島 仁 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 陽極酸化処理された表面を有し、その表
面に存在する色彩差をＬ* ａ* ｂ* 表色系で｜Ｌ* MAX
−Ｌ* MIN ｜＋｜ａ* MAX −ａ* MIN ｜＋｜ｂ* MAX −
ｂ* MIN ｜（ただし、MAX は最大値を示し、MIN は最小
値を示す）と表した場合に、その色彩差の陽極酸化処理
電圧に対する比が０．３５以上であることを特徴とする
チタン製磁気ディスク基板。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4070911A JPH05274662A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | チタン製磁気ディスク基板 |
| EP92107167A EP0562152A1 (en) | 1992-03-27 | 1992-04-27 | Magnetic disk substrate of titanium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4070911A JPH05274662A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | チタン製磁気ディスク基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05274662A true JPH05274662A (ja) | 1993-10-22 |
Family
ID=13445174
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4070911A Pending JPH05274662A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | チタン製磁気ディスク基板 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0562152A1 (ja) |
| JP (1) | JPH05274662A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004241089A (ja) * | 2003-02-07 | 2004-08-26 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
-
1992
- 1992-03-27 JP JP4070911A patent/JPH05274662A/ja active Pending
- 1992-04-27 EP EP92107167A patent/EP0562152A1/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004241089A (ja) * | 2003-02-07 | 2004-08-26 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0562152A1 (en) | 1993-09-29 |
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